专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]柔性薄膜太阳能电池及其制备方法-CN200910198262.2无效
  • 彭祥军;杨英颖;刘远祥;程琳 - 彭祥军;杨英颖
  • 2009-11-03 - 2010-05-12 - H01L31/075
  • 本发明提供了一种薄膜柔性光伏电池,由如下膜层依次排列组成:不锈钢箔--氧化锌膜-或微n1层-或微i1层-或微p1层-b1层-n2层-i2层-同时提供了一种上述柔性光伏电池的制备方法,依次包括如下步骤:不锈钢箔抛光清洗;PVD真空镀铝膜;PVD真空镀氧化锌膜;PECVD真空镀膜或-微膜系;PVD真空镀氧化铟锡膜;PVD镀银浆栅线本发明采用双结--微电池结构,可大大提高良品率,耗能与耗材都非常少,可大幅度降低制造成本。
  • 柔性非晶硅薄膜太阳能电池及其制备方法
  • [发明专利]一种多晶薄膜材料的制备方法-CN201410555667.8在审
  • 郝会颖;何明 - 中国地质大学(北京)
  • 2014-10-17 - 2015-03-04 - H01L21/203
  • 本发明涉及多晶薄膜材料的制备领域,特别涉及一种多晶薄膜材料的制备方法,包括以下步骤:在玻璃衬底上,采用磁控溅射技术依次沉积薄膜和金属膜,得到复合薄膜;对复合薄膜进行激光辐照,薄膜化,即得多晶薄膜材料;其中,在磁控溅射技术依次沉积薄膜和金属膜过程中,温度不高于150℃。本发明提供的多晶薄膜材料的制备方法,薄膜和金属膜均采用磁控溅射技术获得,不需要硅烷等危险气体;在磁控溅射技术依次沉积薄膜和金属膜过程中,最高温度不超过150℃,采用廉价的玻璃衬底即可,多晶薄膜制备工艺中温度低,可大大降低能耗。
  • 一种多晶薄膜材料制备方法
  • [发明专利]一种结晶薄膜的制备方法-CN200710152024.9无效
  • 李德杰 - 李德杰
  • 2007-09-27 - 2009-04-01 - C30B29/06
  • 一种结晶薄膜的制备方法,属于薄膜和太阳能利用技术领域。该方法依次包括:在玻璃衬底或已经沉积有透明导电薄膜的玻璃衬底上沉积一层金属、铜、银、铁、钴、镍、镁等的薄膜,继续沉积一层薄膜或含氢薄膜;将得到的沉积有上述薄膜的玻璃在真空条件下进行退火,退火温度控制在400℃到600℃之间,金属、铜、银、铁、钴、镍、镁等的薄膜将扩散到或含氢薄膜的上面,同时诱导或含氢薄膜转换为结晶薄膜,用酸腐蚀掉、铜、银、铁、钴、镍、镁等的薄膜,得到在玻璃衬底或已经沉积有透明导电薄膜的玻璃衬底上的结晶薄膜
  • 一种结晶薄膜制备方法
  • [发明专利]干法刻蚀两步法诱导化薄膜的方法-CN201310111724.9无效
  • 钱隽;史伟民;廖阳;李季戎;王国华;周平生 - 上海大学
  • 2013-04-02 - 2013-07-31 - H01L31/18
  • 本发明涉及一种干法刻蚀两步法诱导化薄膜的方法,属于多晶薄膜制备技术领域。利用金属的催化作用,在低温下通过两步退火法,将薄膜诱导化为多晶薄膜,以减少金属沾污。首先在玻璃上作为生长衬底,后续依次制备、二氧化硅及膜,形成多重界面的结构。然后,进行两步退火,先进行快退,后续将样品置退火炉中进行慢退火、再刻蚀去。最后可制得诱导化的多晶薄膜,晶粒大小约为50-200nm。本发明可有效缓解金属诱导化(MIC)技术中,金属污染,适用于场效应晶体管和薄膜太阳能电池制备。
  • 刻蚀步法诱导非晶硅晶化薄膜方法
  • [发明专利]在低温下诱导薄膜化为多晶薄膜的方法-CN201310181115.0无效
  • 史伟民;钱隽;金晶;李季戎;廖阳;王国华;许月阳 - 上海大学
  • 2013-05-16 - 2013-09-18 - H01L21/203
  • 本发明涉及一种在低温下诱导制备多晶薄膜的方法,其属于多晶薄膜制备技术领域。利用金属的催化作用,在低温下通过两步退火法,将薄膜诱导化为多晶薄膜,以减少金属沾污。其主要技术方案是:首先在玻璃上作为生长衬底,后续依次制备、二氧化硅及膜,形成多重界面的结构。然后,进行两步退火,先进行快退,后续将样品置退火炉中进行慢退火、再腐蚀去,并用氮气吹干。最后可制得诱导化的多晶薄膜,晶粒大小约为50-200nm。本发明可有效缓解金属诱导化(MIC)技术中,金属污染,适用于场效应晶体管和薄膜太阳能电池等光电器件制备。
  • 低温诱导非晶硅薄膜化为多晶方法
  • [发明专利]一种相变吸热模具及其应用-CN202110771255.8在审
  • 况陈颖;甘章华;吴传栋;刘意;瞿赋;瞿新元;瞿彩虹;洪燕 - 黄石元祥模具材料有限公司
  • 2021-07-08 - 2021-09-03 - H01F27/08
  • 本发明提供的相变吸热模具,包括外壳和密封在所述外壳内的内芯;所述内芯为合金;以质量百分比含量计,所述合金中,铜为30~35%,为1~5%,余量为;所述外壳的熔点≥560℃。在本发明中,所述内芯密封于外壳内部,在合金铁芯进行化退火时,将相变吸热模具置于合金铁芯的水平面下,当合金铁芯发生化,放出大量潜热时,相变吸热模具的内芯的合金将发生熔化,通过固液相变迅速吸收大部分潜热,维持化退火温度,以有效解决大型合金铁芯在真空炉内发生化退火时潜热释放所导致的铁芯温度升高、磁导率下降的问题。
  • 一种相变吸热模具及其应用
  • [发明专利]低温制造齐纳二极管工艺-CN201210034595.3有效
  • 何志;周炳;季安;刘晓萌 - 张家港意发功率半导体有限公司
  • 2012-02-16 - 2012-07-04 - H01L21/329
  • 本发明公开了一种低温制造齐纳二极管工艺,包括以下步骤:在N型重掺杂N+晶片的上面生长或沉积一层氧化硅;通过半导体光刻和刻蚀工艺在上述氧化硅上打开缺口,并刻蚀出和N+区的厚度一样的槽,清洗该槽上的光刻胶;在上述氧化硅层上面镀一层薄膜,并在该薄膜上生长一层薄膜,其中在上述槽中形成薄膜和薄膜的复合层;在低温条件下退火条件下,使上述槽中的薄膜中的Si原子扩散到上述薄膜,在上述槽中的硅片表面上形成掺杂的P+单晶;清洗去除氧化硅层,残余的薄膜和膜。
  • 低温制造齐纳二极管工艺
  • [发明专利]一种碳薄膜/单晶异质结太阳能电池及其制备方法-CN201710566633.2在审
  • 姜礼华;谭新玉;肖婷;向鹏 - 三峡大学
  • 2017-07-12 - 2017-12-26 - H01L31/075
  • 本发明公开了一种碳薄膜/单晶异质结太阳能电池及其制备方法,该方法包括以下步骤清洗P型单晶硅片;以氢气稀释的硅烷为反应气体,P型单晶上表面沉积一层薄膜;再以高纯甲烷和高纯氮气为反应气体,在薄膜表面沉积一层掺氮碳薄膜;再在碳薄膜表面制备一层掺氧化锌透明导电薄膜;进一步在掺氧化锌透明导电薄膜表面制备银电极;然后在P型单晶下表面制备含有银复合电极的背表面场,获得电池;最后将获得的电池置于充满氩气的石英炉中进行热处理由该方法所制备的电池工艺简单且与当前异质结太阳能电池工艺相兼容,电池开路电压高、成本低,光电转换效率高。
  • 一种非晶碳薄膜单晶硅异质结太阳能电池及其制备方法

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