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[发明专利]铝在低温下诱导非晶硅薄膜晶化为多晶硅薄膜的方法-CN201310181115.0无效
发明人：史伟民;钱隽;金晶;李季戎;廖阳;王国华;许月阳 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-05-16 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：本发明涉及一种铝在低温下诱导非晶硅制备多晶硅薄膜的方法，其属于多晶硅薄膜制备技术领域。利用金属铝的催化作用，在低温下通过两步退火法，将非晶硅薄膜诱导晶化为多晶硅薄膜，以减少金属沾污。其主要技术方案是：首先在玻璃上作为生长衬底，后续依次制备非晶硅、二氧化硅及铝膜，形成多重界面的结构。然后，进行两步退火，先进行快退，后续将样品置退火炉中进行慢退火、再腐蚀去铝，并用氮气吹干。最后可制得铝诱导晶化的多晶硅薄膜，晶粒大小约为50-200nm。本发明可有效缓解金属诱导晶化（MIC）技术中，金属污染，适用于场效应晶体管和薄膜太阳能电池等光电器件制备。
低温诱导非晶硅薄膜化为多晶方法

[发明专利]一种CdS/SiO₂纳米透明复合薄膜的制备方法-CN201310167243.X无效
发明人：秦娟;王国华;陈振一;廖阳;李季戎;钱隽;史伟民;孙纽一 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-05-09 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明采用CdS/SiO2共溅射法，射频磁控溅射制备CdS量子点纳米复合薄膜，属于半导体纳米复合薄膜材料制备技术领域。溅射法与化学水浴法等比较，具有快速、低温，以功率及时间控制复合薄膜密度、厚度等优势。溅射制备CdS量子点纳米薄膜采用两步法：先在超高真空磁控溅射设备上，射频溅射沉积非晶CdS/SiO2复合薄膜；沉积完的非晶薄膜与硫在N2中进行退火处理成多晶膜。SiO2具有硅羟基，且又有很高的透射率及很低的散射率，适用纳米复合薄膜材料的表面修饰，在CdS/SiO2纳米复合薄膜中，起到保护CdS量子点、提高发光效率的作用，此类复合薄膜，作为在荧光太阳能聚光器下的转换层等，在光电技术中有广泛的运用前景。
一种 cds sio sub 纳米透明复合薄膜制备方法

[发明专利]一种SiO₂包覆的CdS量子点纳米复合薄膜的制备方法-CN201310167245.9无效
发明人：秦娟;王国华;陈振一;廖阳;李季戎;钱隽;史伟民;孙纽一 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-05-09 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： C09K11/56 文献下载
摘要：本发明涉及用溶胶凝胶过程，制备SiO2包覆的CdS量子点纳米复合薄膜，属半导体纳米复合薄膜制备技术领域。主要解决了包覆后CdS量子点，具良好的分散性，改善发光效率及耐腐蚀性等。具体步骤是以硝酸镉，硫化钠，TGA为主要原料，采用化学水浴法，制备高浓度的CdS量子点溶液；又以TEOS（正硅酸乙酯），无水乙醇，浓盐酸，去离子水为原料，获SiO2溶胶；然后，溶胶与量子点按一定摩尔比混合，并旋涂成膜，为SiO2包覆的CdS量子点纳米复合薄膜；再将此薄膜样品干燥，放入管式退火炉中，在N2气氛中进行退火，获取了SiO2包覆的CdS量子点纳米复合薄膜。CdS纳米颗粒与其他基质复合，有助于提高CdS光电性能，拓展了CdS材料的应用领域。
一种 sio sub cds 量子纳米复合薄膜制备方法

[发明专利]基于多晶碘化汞薄膜的X射线探测器的制备-CN201310181487.3无效
发明人：史伟民;廖阳;陶佳佳;钱隽;李季戎;王国华;陆舒逸 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-05-16 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及利用超声辅助物理气相沉积技术，生长多晶碘化汞薄膜，并在薄膜上制备了X射线探测器方法，属于以半导体材料制备的射线成像探测器技术领域。该发明解决了制作碘化汞薄膜技术，与射线探测器制备工艺问题。此技术以经多次提纯后的碘化汞为原材料，采用物理气相沉积方法，制作了多晶碘化汞，并对其隔离大气，配置电极，又对薄膜器件进行有效封装，获得质佳的射线探测器。薄膜及制作的探测器经XRD、SEM、I-V等特性分析，表明气相沉积法可制得沿<001>晶向，柱状生长的多晶碘化汞薄膜，且获甚佳晶粒完整性及均匀性，探测器与金有良好的欧姆接触。本发明适用于对X射线及Gama射线等的检测，有潜在的实际应用价值。
基于多晶碘化薄膜射线探测器制备

[发明专利]一种铜锌锡硫太阳电池窗口层的制备方法-CN201310117598.8无效
发明人： 李季戎;史伟民;廖阳;钱隽;王国华;杨伟光;沈心蔚;沈介圣;何玲玲;沈忠文 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-04-07 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜锌锡硫太阳电池窗口层的制备方法，属太阳能电池薄膜器件制备工艺技术领域。利用磁控溅射法制备ZnO晶种、利用水热法生长ZnO纳米阵列以及利用水热法硫化生长ZnS壳层结构的制备方法。水热法制备的ZnO@ZnS纳米阵列核壳结构与衬底的附着强度较高，具有高透过率、良好的电学特性，能够作为CZTS太阳能电池的窗口层，与后续电池的制备工艺具有良好的衔接。
一种铜锌锡硫太阳电池窗口制备方法

[发明专利]一种铜锌锡硫薄膜材料的硒化方法-CN201310141053.0无效
发明人：史伟民;李季戎;廖阳;钱隽;王国华;杨伟光;沈春夏 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-04-23 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： H01L31/0272 文献下载
摘要：本发明涉及硒气氛下对铜锌锡硫薄膜进行硒化处理的方法。属太阳能电池薄膜器件制备工艺技术领域。本发明包括如下步骤:将硒粒和涂覆有铜锌锡硫薄膜的载玻片放入石英管中并抽高真空至5×10-4Pa，用氢氧焰加热管口至熔融并冷却封管。将石英管放入500-550℃的管式退火炉中进行热处理30min，进行铜锌锡硫薄膜的硒化处理。
一种铜锌锡硫薄膜材料方法

[发明专利]干法刻蚀两步法铝诱导非晶硅晶化薄膜的方法-CN201310111724.9无效
发明人：钱隽;史伟民;廖阳;李季戎;王国华;周平生 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-04-02 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种干法刻蚀两步法铝诱导非晶硅晶化薄膜的方法，属于多晶硅薄膜制备技术领域。利用金属铝的催化作用，在低温下通过两步退火法，将非晶硅薄膜诱导晶化为多晶硅薄膜，以减少金属沾污。首先在玻璃上作为生长衬底，后续依次制备非晶硅、二氧化硅及铝膜，形成多重界面的结构。然后，进行两步退火，先进行快退，后续将样品置退火炉中进行慢退火、再刻蚀去铝。最后可制得铝诱导晶化的多晶硅薄膜，晶粒大小约为50-200nm。本发明可有效缓解金属诱导晶化（MIC）技术中，金属污染，适用于场效应晶体管和薄膜太阳能电池制备。
刻蚀步法诱导非晶硅晶化薄膜方法

[发明专利]多晶碘化汞薄膜与金电极形成良好欧姆接触的制备方法-CN201310111690.3无效
发明人：廖阳;史伟民;李季戎;钱隽;王国华;刘功龙;陆舒逸 -专利权人：上海大学
申请日： 2013-04-02 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种多晶碘化汞薄膜与金电极形成良好欧姆接触的制备方法，属于半导体厚膜制备技术领域。以经多次提纯后的碘化汞为原材料，采用超声辅助气相沉积装置制得了多晶碘化汞薄膜，再对薄膜进行表面处理，最后真空蒸镀一层金电极阵列。通过该方法可得到较好的金半接触，金电极与薄膜之间有很好的粘附性，I-V的正反响应特性都较好，金属电极漏电流小，性能稳定。该方法制得的多晶碘化汞厚膜探测器特别适合于对X射线、Gama射线的探测，本发明具有潜在的实际应用前景。
多晶碘化薄膜电极形成良好欧姆接触制备方法

[发明专利]超声波辅助下油浴真空物理气相沉积多晶碘化汞厚膜的装置和方法-CN201210469242.6无效
发明人：刘功龙;马磊;史伟民;廖阳;吕燕芳;钱隽;李季戎;黄璐 -专利权人：上海大学
申请日： 2012-11-20 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种超声波辅助下油浴真空物理气相沉积多晶碘化汞厚膜的装置和方法，本装置包括油浴加热槽，厚膜原料蒸发管，基板温度控制仪，真空室，磨砂石英顶盖和超声波发生器；多晶碘化汞粉末放置于厚膜原料蒸发管的底部，多晶碘化汞粉末蒸发后即沉积于基片的下表面上。本方法为超声波辅助下油浴真空物理气相沉积法的改进。本发明装置结构简单、可重复使用、易于操作、生长腔体成本低廉，基板温度可精确控制；本发明方法制备得到的多晶碘化汞厚膜取向性高，致密性好，晶粒尺寸小，电学性能佳，为多晶碘化汞半导体辐射探测的制备打下了坚实的基础。
超声波辅助下油浴真空物理沉积多晶碘化汞厚膜装置方法

[发明专利]一种用金属铜在低温下诱导非晶硅薄膜晶化为多晶硅薄膜的方法-CN201210205718.5无效
发明人：史伟民;周平生;周平华;李杰;瞿晓雷;廖阳;钱隽;李季戎;张月璐;许月阳 -专利权人：上海大学
申请日： 2012-06-21 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： H01L31/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种多晶硅薄膜的制备方法，具体来说就是利用金属铜的催化作用在低温下通过循环退火将非晶硅薄膜诱导晶化为多晶硅薄膜。本发明的主要技术方案是首先在玻璃衬底上生长衬底/非晶硅/二氧化硅/铜膜的结构，然后进行循环式退火，第一次退火完成之后将样品置于腐蚀液中腐蚀并再次循环式退火、腐蚀，并用氮气吹干。最后可制得铜诱导晶化的多晶硅薄膜，晶粒大小约为50-200nm。本发明可缓解现有金属诱导晶化（MIC）技术中金属重污染的问题，并适用于薄膜场效应晶体管和薄膜太阳能电池领域。
一种金属低温诱导非晶硅薄膜化为多晶方法

[发明专利]一种溶剂热合成铜锌锡硫材料的方法-CN201210204656.6无效
发明人：史伟民;李杰;杨伟光;李季戎;周平生;袁安东;廖阳;钱隽;沈春夏;陆舒逸;张月璐;许月阳 -专利权人：上海大学
申请日： 2012-06-20 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C01G19/00 文献下载
摘要：本发明一种溶剂热合成铜锌锡硫材料的方法，属于光电材料制备技术领域。本发明包括如下步骤：硫粉和金属铜锌锡盐分别溶于乙二胺和醇类有机溶剂中，在氮气的保护下将两种溶液混合，然后将混合溶液放入耐高压反应釜中，在180-240℃反应6-48小时，经离心、干燥后即可得到纯相的铜锌锡硫粉体。本发明方法采用混合溶剂，重复性好，成本低，易分离，适用于大规模生产。
一种溶剂合成铜锌锡硫材料方法

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