专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]缓冲跳床-CN201410605159.6有效
  • 刘金国 - 刘金国
  • 2014-10-31 - 2015-01-28 - A63B5/11
  • 弹性装置包括弹性和弹性阻挡,弹性设置在助推器连接套管的内部;弹性阻挡上设有凸起部位,支撑连接站管上设有与弹性阻挡的凸起部位匹配的孔,助推器连接套管上设有与弹性阻挡的凸起部位匹配的槽。助推减震装置中的弹性作为助推、缓冲、减震物质,在人的跳跃运动过程中起到助推、缓冲、减震的作用,并增加承载力,达到了更好的跳跃效果。
  • 缓冲
  • [发明专利]紧凑涂料体系和方法-CN201080045744.5无效
  • T·S·德塞伯;D·R·沃顿 - 巴斯夫涂料有限公司
  • 2010-10-26 - 2012-07-11 - B05D7/00
  • 一种包含UV阻挡涂料组合、底色漆组合、清漆组合和单涂层面漆组合的紧凑涂料体系,其中:(a)所述UV阻挡涂料组合、底色漆涂料组合和单涂层涂料组合各自包含基于总粘结剂为约0.1-约70重量%的第一粘结剂树脂和(b)所述单涂层涂料组合和清漆涂料组合各自包含基于总粘结剂为约0.1-约50%的第二粘结剂树脂。一种汽车车身的涂覆方法,包括:在油漆车间中,将UV阻挡涂料组合、底色漆涂料组合和清漆涂料组合施加至第一车身或零件上,并在油漆车间中,将UV阻挡涂料组合和单涂层面漆涂料组合施加至第二车身或零件上,其中在喷漆室中施加单涂层涂料组合,在所述喷漆室中也施加至少所述清漆涂料组合
  • 紧凑涂料体系方法
  • [实用新型]防桌板意外翻下的翻盖课桌-CN201020578035.0无效
  • 华孝慧 - 华孝慧
  • 2010-10-12 - 2011-08-24 - A47B41/00
  • 本实用新型提供一种防桌板意外翻下的翻盖课桌,包括桌面板、桌体和桌脚,其特征是,有防桌面板意外翻下装置,防桌面板意外翻下装置包括阻挡栓和固定,固定阻挡栓固定后阻挡栓仍能滑动或转动,阻挡栓可卡在桌面板与桌体侧板之间,在外力作用下,滑动或转动阻挡栓能让阻挡栓不卡在桌板与桌体侧板之间,翻开课桌面板,又可以让阻挡栓卡在桌面板与桌体侧板之间,防桌板意外翻下。
  • 防桌板意外翻盖课桌
  • [发明专利]薄膜晶体管及其制造方法-CN201610840081.5在审
  • 张锡明;黄彦余 - 中华映管股份有限公司
  • 2016-09-22 - 2018-03-30 - H01L21/336
  • 薄膜晶体管的制造方法包括下列步骤依序形成栅极、第一绝缘层、第二绝缘层、金属氧化半导体层、第一蚀刻阻挡层、第二蚀刻阻挡层及光刻胶结构;以光刻胶结构为掩模,图案化第二蚀刻阻挡层、第一蚀刻阻挡层及金属氧化半导体层,以形成准第二蚀刻阻挡图案、准第一蚀刻阻挡图案及金属氧化半导体图案;以残留的光刻胶结构的厚部为掩模,图案化准第二蚀刻阻挡图案及准第一蚀刻阻挡图案,以形成第二蚀刻阻挡图案及第一蚀刻阻挡图案,并移除部分的第二绝缘层
  • 薄膜晶体管及其制造方法
  • [发明专利]显示装置用滤波器-CN200810177660.1无效
  • 徐知润;申东根;吴商润;朴大出;金志映 - 三星康宁精密琉璃株式会社
  • 2008-11-20 - 2009-05-27 - G02B5/20
  • 一种显示装置用滤波器包括:透明基板;近红外线阻挡层;电磁屏蔽层;外部光阻挡层和颜色补偿层。近红外线阻挡层形成在透明基板上并包括交替涂层的金属薄膜和金属氧化薄膜,金属薄膜和金属氧化薄膜均被涂层一次或多次。电磁屏蔽层形成在近红外线阻挡层上并包括金属网状图案。外部光阻挡层包括外部光阻挡图案,该外部光阻挡图案包括具有楔形形状并被填充以光吸收材料和导电材料的多个外部光阻挡部分。颜色补偿层形成在外部光阻挡层上并包括聚合树脂和选择性吸收光的至少两种着色剂。滤波器具有阻挡近红外线和电磁波的优良性能和较高的可见光透光率。
  • 显示装置滤波器
  • [发明专利]等离子体振动开关元件-CN03809646.3无效
  • 吉井重雄;大塚信之;水野纮一;铃木朝实良;横川俊哉 - 松下电器产业株式会社
  • 2003-09-30 - 2005-08-03 - H01L29/80
  • 本发明的等离子体振动开关元件包含:半导体基板(101);在该基板上形成的由Ⅲ-Ⅴ族化合半导体构成的第一阻挡层(103),在第一阻挡层上形成的由Ⅲ-Ⅴ族化合半导体构成的沟道层(104);在沟道层上形成的由Ⅲ-Ⅴ族化合半导体构成的第二阻挡层(105);和在第二阻挡层上设置的源极电极(107)、栅极电极(109)以及漏极电极(108),第一阻挡层具有n型扩散层(103a),第二阻挡层具有p型扩散层(105a),沟道层的能带间隙比第一及第二阻挡层的能带间隙小,在第一阻挡层和沟道层之间境界的传导带上积聚二维电子气EG,另一方,在第二阻挡层和沟道层境界的价电子带上积聚二维空穴气HG,各电极经绝缘层(106)在第二阻挡层上形成
  • 等离子体振动开关元件
  • [发明专利]一种具有复合极性面电子阻挡层的发光二极管-CN201610327873.2在审
  • 张雄;王南;崔一平 - 东南大学
  • 2016-05-17 - 2016-08-17 - H01L33/14
  • 本发明公开了一种具有复合极性面电子阻挡层的发光二极管,该发光二极管包括由下而上依次设置的衬底(101)、金属极性面n型氮化层(102)、金属极性面多量子阱层(103)、金属极性面p型氮化层(104)、由金属极性面p型电子阻挡层(1051)和氮极性面p型电子阻挡层(1052)组成的复合极性面p型电子阻挡层(105)、氮极性面p型氮化层(106)、所述金属极性面n型氮化层上设置的n电极(107)和所述氮极性面p型氮化层上设置的p电极(108)。复合极性面电子阻挡层在导带形成较高的电子势垒,阻挡电子越过多量子阱有源区进入p型区,从而可以减小漏电流,增加电子与空穴进行辐射复合的几率。
  • 一种具有复合极性电子阻挡发光二极管
  • [发明专利]浅沟道隔离结构的制作方法和半导体器件的制作方法-CN201710770747.9有效
  • 宋冬门;蒋阳波;张静平;吴关平;游晓英 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2017-08-31 - 2019-04-30 - H01L21/762
  • 本发明公开了一种浅沟道隔离结构的制作方法和半导体器件的制作方法,包括:提供一衬底结构,所述衬底结构依次包括半导体衬底、氧化层和阻挡层,所述半导体衬底包括相邻设置的N型掺杂区和P型掺杂区,且所述氧化层与所述阻挡层之间的预设区域设置有牺牲层;对所述衬底结构具有所述阻挡层一侧刻蚀沟道,且所述沟道将所述N型掺杂区和P型掺杂区隔离;在所述沟道内填充绝缘材料以形成隔离结构;依次去除所述阻挡层和所述牺牲层。由上述内容可知,本发明提供的技术方案,通过在氧化层和阻挡层之间的预设区域设置牺牲层,进而在去除阻挡层时通过牺牲层保护氧化层的预设区域不被影响,改善氧化层表面出现锐形缺陷的情况,提高产品的良率。
  • 沟道隔离结构及其制作方法半导体器件
  • [发明专利]水蒸气阻挡性的评价方法-CN201110427069.9无效
  • 吉田勇气;有泉久美子;樱井英章;黛良享 - 三菱综合材料株式会社
  • 2011-12-19 - 2012-08-01 - G01N15/08
  • 本发明提供水蒸气阻挡性的评价方法,该方法无需实际测定水蒸气透过率,就能够轻松评价水蒸气阻挡膜的水蒸气阻挡性。使用由第1氧化(X)构成的蒸镀材和由第2氧化(Y)构成的蒸镀材、或包含第1氧化(X)及第2氧化(Y)双方的蒸镀材,对通过真空成膜法成膜的水蒸气阻挡膜的水蒸气阻挡性进行评价的方法,其特征在于,将由下述公式(1)计算的S1的值当作在温度40℃、相对湿度90%RH的条件下放置1小时后以温度40℃、相对湿度90%RH的条件测定的水蒸气阻挡膜的水蒸气透过率S(g/m2·天)进行评价。公式(1):log10S1=-0.015×(θ×ΔB)-0.25,公式(1)中,θ表示水滴接触角,ΔB表示第1氧化(X)的碱度Bx与第2氧化(Y)的碱度By之差的绝对值。
  • 水蒸气阻挡评价方法
  • [发明专利]氮化半导体发光元件-CN202010841218.5在审
  • 松仓勇介;稻津哲彦;希利尔·贝诺 - 日机装株式会社
  • 2020-08-20 - 2021-02-26 - H01L33/14
  • 提供一种既能够提高发光效率又能够提高发光寿命的氮化半导体发光元件。氮化半导体发光元件(1)具备:活性层,其发出紫外光;p型AlGaN系的电子阻挡层叠体,其位于活性层上,包含从活性层侧依次层叠第1电子阻挡层、第2电子阻挡层以及第3电子阻挡层而成的结构;以及p型接触层,其位于电子阻挡层叠体上,第2电子阻挡层的Al组分比小于第1电子阻挡层的Al组分比,第3电子阻挡层的Al组分比从第2电子阻挡层侧朝向p型接触层侧减小。
  • 氮化物半导体发光元件

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