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[发明专利]衬底搬送机械手及其运转方法-CN201580075959.4有效
发明人：菅原润一;吉田雅也 -专利权人：川崎重工业株式会社
申请日： 2015-02-13 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：该衬底搬送机械手(1)具备：机械臂(4)，具备具有保持衬底(S)的衬底保持机构的末端执行器(7)；臂驱动机构(9、10、11)，用来驱动机械臂(4)；升降驱动机构(8)，用来升降驱动末端执行器(7)；机械手控制机构(12)，控制臂驱动机构(9、10、11)、升降驱动机构(8)及衬底保持机构；及衬底检测机构(20)，检测衬底(S)的上下方向的位置，且具有与末端执行器(7)的升降动作连动地进行升降的衬底检测传感器(20可精度良好地检测搬送对象的衬底的上下方向的位置，并基于其检测结果而控制机械手动作。
衬底机械手及其运转方法

[发明专利]确定在光刻步骤中待施加到衬底的图案的组合-CN201780045011.3有效
发明人： C·A·维索尔伦;E·P·斯马克曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-06-27 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了一种配置成处理多个衬底的直接写入曝光设备，所述设备包括：衬底保持器，所述衬底保持器配置成保持具有可用图案化区域的衬底；图案形成系统，所述图案形成系统配置成将不同图案投影到所述衬底上；处理系统，所述处理系统配置成：确定待施加于所述多个衬底的第一衬底上的一个或更多个图案的第一组合；和确定待施加于所述多个衬底的后续第二衬底上的一个或更多个图案的不同的第二组合。
确定光刻步骤施加衬底图案组合

[发明专利]用于光刻设备中的衬底保持器-CN201880079853.5在审
发明人： T·波耶兹;C·H·M·伯尔蒂斯;A·A·索图特;M·A·阿克巴斯;D·范登伯格;W·范内希;M·M·C·F·托因尼森 -专利权人： ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器被配置成支撑衬底，且包括主体、多个支撑元件和密封单元。主体具有主体表面。多个支撑元件从主体表面突伸出，并且每个支撑元件具有配置成支撑衬底的远端端面。第一密封构件的上表面可以具有被配置成在衬底的加载和/或卸载期间与衬底接触的接触区域。在一实施例中，接触区域的位置布置在与多个支撑元件相距足够充分的距离处，使得在衬底的卸载期间，由衬底施加到第一密封构件上的力大于由衬底施加到多个支撑元件上的力。本发明还提供了一种衬底保持器，该衬底保持器的另外构件在密封单元径向向外。所述另外构件被配置成在衬底的加载或卸载期间与衬底接触。衬底保持器的至少一部分可具有由类金刚石碳、金刚石、碳化硅、亚硝酸硼或氮化硼碳制成的涂层。
用于光刻设备中的衬底保持

[发明专利]化学处理、沉积和/或渗透设备及其使用方法-CN202210305415.4在审
发明人： R.哈格加雷 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于在衬底的表面上和/或衬底的表面中提供化学反应的化学沉积、处理和/或渗透设备。所述设备可具有：一起形成可关闭反应室的顶部反应室部分和底部反应室部分；和致动器，所述致动器被构造和布置成用于将所述顶部反应室部分和所述底部反应室部分相对于彼此从关闭位置移动到打开位置以便允许接近反应室的内部顶部衬底保持器连接到所述顶部反应室部分以至少在所述反应室处于打开位置时保持衬底，并且底部衬底保持器连接到所述底部反应室部分以在所述反应室处于关闭位置时保持所述衬底。
化学处理沉积渗透设备及其使用方法

[发明专利]化学处理、沉积和/或渗透设备及其使用方法-CN201880048547.5有效
发明人： R.哈格加雷 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于在衬底的表面上和/或衬底的表面中提供化学反应的化学沉积、处理和/或渗透设备。所述设备可具有：一起形成可关闭反应室的顶部反应室部分和底部反应室部分；和致动器，所述致动器被构造和布置成用于将所述顶部反应室部分和所述底部反应室部分相对于彼此从关闭位置移动到打开位置以便允许接近反应室的内部顶部衬底保持器连接到所述顶部反应室部分以至少在所述反应室处于打开位置时保持衬底，并且底部衬底保持器连接到所述底部反应室部分以在所述反应室处于关闭位置时保持所述衬底。
化学处理沉积渗透设备及其使用方法

[发明专利]用于保持半导体衬底的保持设备-CN201080017785.3有效
发明人： H.蒂芬伯克;J.伯格拉夫;S.帕格弗里德;D.伯斯塔勒 -专利权人： EV集团有限责任公司
申请日： 2010-03-31 - 公布日： 2012-04-25 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：用于保持平面的半导体衬底的保持设备具有：载体；固定或能固定在载体上的具有背离载体的保持侧的保持体；以及至少一个穿透保持体的低压通道，该低压通道具有保持侧上的吸收端，其中该保持侧具有由软材料构成的定义的吸收结构
用于保持半导体衬底设备

[发明专利]衬底保持装置和抛光装置-CN200480013867.5有效
发明人：户川哲二;锅谷治 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-02-25 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：衬底保持装置保持例如半导体的衬底，并且将衬底压紧在抛光面上。该衬底保持装置包括：顶环体(2)，用于保持衬底；多个流体通道(33、34、35、36)，用于将流体提供给定义在顶环体中的多个压力室(22、23、24、25)；以及多个传感器(S1、S2、S3、S4)，分别设置在多个流体通道中
衬底保持装置抛光

[发明专利]保持衬底用的装置-CN03801437.8无效
发明人： M·尼泽;J·弗兰茨克;J·施维肯迪克 -专利权人：阿斯特克半导体技术有限责任公司
申请日： 2003-03-31 - 公布日： 2005-02-23 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于生产光电元件的容纳衬底(S)特别是晶片或硅衬底用的装置。本发明的装置包括两个互相对置的壁(1)，其中设置至少两个连接壁(1)的棒状承载元件(2，3)，而承载元件(2，3)设有制动机构(5)，用于保持沿平行于壁(1)取向的垂直位置的承载元件上支承的衬底(S)。本发明的目的是使衬底能够在处理浴槽中浮动而同时能最容易地装入和取出。为此，设置至少一个棒状对置承载元件，该元件连接两壁并以这样的方式相对于承载元件配置，使得能限制衬底(S)相对于壁(1)的垂直移动，并能够以相对于垂直方向的角度装入或取出这些衬底。
保持衬底装置

[发明专利]发光器件和方法-CN201180061776.9有效
发明人： C·P·胡塞尔;P·S·安德鲁斯;J·C·赖赫泽;D·T·埃默森 -专利权人：科锐公司
申请日： 2011-10-31 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： H01L33/62 文献下载
摘要：在一个实施例中，发光器件可以包括衬底、设置于衬底之上的一个或多个发光二极管（LED），所述LED可以包括用于连接至电气元件的电连接器。发光器件还可以包括设置于衬底之上的保持材料并且保持材料可以设置于电连接器的至少一部分之上。一方面，公开了一种制造发光器件的方法。所述方法可以包括提供衬底，该衬底具有包括电连接器的一个或多个LED。所述方法还可以包括在衬底的至少一部分之上提供保持材料，其中保持材料设置于电连接器的至少一部分之上。
发光器件方法

[发明专利]包含光学探针的电化学沉积系统-CN202080053306.7在审
发明人：安德鲁·詹姆斯·普福;尚蒂纳特·小古艾迪;何治安;马尼什·兰詹 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：一种电化学沉积系统包括：电化学沉积室，其包括用于电化学沉积的电解液；衬底保持器，其被配置成保持衬底并且包括与所述衬底电气连接的第一阴极；第一致动器，其被配置成调整所述衬底保持器在所述电化学沉积室中的竖直位置；阳极，其浸没在所述电解液中；第二阴极，其被配置成在所述第一阴极与所述阳极之间；第一光学探针，其被配置成，当所述衬底被浸没在所述电解液中时，在距离所述衬底的中心第一距离处测量所述衬底的第一反射率；以及控制器，其被配置成在所述电化学沉积的期间，基于所述衬底的所述第一反射率而选择性地调整施加至所述第一阴极的功率、施加至所述第二阴极的功率、施加至所述阳极的功率、以及所述衬底保持器的所述竖直位置中的至少一者。
包含光学探针电化学沉积系统

[外观设计]电连接端子-CN201830140936.3有效
发明人：铃木洁;藤方淳平 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-04-09 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： 13-03 文献下载
摘要：2．本外观设计产品的用途：用于作为设在衬底镀敷装置的衬底保持器的保持器悬架上的连接端子，其与密封保持器内部的电接点通过布线而连接，在衬底保持器浸渍于镀敷槽时，与设于镀敷槽侧的供电板接触而向密封保持器内部的电接点通电，从而对配置于支承面上的衬底实施镀敷。
外观设计衬底保持器电连接端子密封保持器电接点镀敷槽左视图省略衬底浸渍镀敷装置连接端子保持器供电板右视图布线镀敷悬架支承对称通电配置图片

[发明专利]用于静态偏置预金属化不导电衬底的方法和装置-CN201110055057.8有效
发明人： C·B·易;田中立;C·W·J·唐;刘鸿凌;P·S·麦克雷德 -专利权人：希捷科技有限公司
申请日： 2011-02-28 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供了用于在处理室内对预金属化的不导电衬底进行静态偏置的方法和装置。保持预金属化的不导电衬底的衬底保持器与升降机构配合，该升降机构提供衬底按照第一向上方向至处理室内的接触位置的运动，以及按照第二方向至不接触位置的运动。当衬底保持器被移至接触位置时，该衬底与安装在处理室内固定位置的导电弹簧加压顺应机构电配合。该弹簧加压顺应机构连接至处理室的偏压馈通，该偏压馈通经由弹簧加压顺应机构向衬底施加偏压。
用于静态偏置金属化导电衬底方法装置

[发明专利]衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法-CN202010300332.7在审
发明人： G·纳齐博格鲁;C·H·M·伯尔蒂斯;S·A·特姆普;Y·J·G·范德维基沃尔;B·D·斯霍尔滕;D·D·J·A·范索姆恩;M·J·H·弗雷肯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域
衬底保持光刻设备制造器件方法

[发明专利]衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法-CN201680070006.3有效
发明人： G·纳齐博格鲁;C·H·M·伯尔蒂斯;S·A·特姆普;Y·J·G·范德维基沃尔;B·D·斯霍尔滕;D·D·J·A·范索姆恩;M·J·H·弗雷肯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域
衬底保持光刻设备制造器件方法

[发明专利]丝网印刷机-CN200580002961.5有效
发明人：坂上隆昭;阿部成孝;大武裕治 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-01-20 - 公布日： 2007-02-07 - 主分类号： H05K3/12 文献下载
摘要：本发明公开一种丝网印刷机，该印刷机通过将蒙版抵靠在衬底上而经由图案孔将膏印刷在所述衬底上。夹持器(7)将衬底(6)的侧端部的端面从其两侧夹紧和保持住。安装有由板形弹性材料构造成的弯曲校正构件(20)的弯曲校正部(17)设置在夹持器(7)中。当保持在Z轴工作台(4)的衬底保持部上的衬底(6)被夹紧时，弯曲校正构件(20)的自由端部(20b)抵靠在衬底(6)的侧端部(6a)的上面侧，并且通过向下挤压自由端部(20b)来校正衬底(6)的弯曲变形因此，衬底的弯曲变形可以通过简单且廉价的机构得以校正，并且能够可靠地保持夹紧状态。
丝网印刷机