“蚀刻液”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1867899个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]应用于蚀刻设备的蚀刻液循环装置-CN202020604024.9有效
发明人：吴辉旺;李军 -专利权人：昆山弗莱吉电子科技有限公司
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本实用新型揭示了应用于蚀刻设备的蚀刻液循环装置，包括桥架在运转台上的负压抽液机构，负压抽液机构包括若干相间隔设置的负压抽液管、及负压动力源，负压动力源的出料端设有蚀刻液回收舱，负压抽液管与运转台的台面相平行且与运转台运行方向相垂直设置，负压抽液管上设有若干负压抽液管口，若干负压抽液管口线性相间隔排列。本实用新型通过负压抽液机构的设计，能将板材上的余量蚀刻液抽离，满足板材上蚀刻液的均匀性需求，提高产品蚀刻质量，同时实现余量蚀刻液的循环回收。负压抽液管具备防回流腔设计，提高了负压抽液管口负压抽吸力的稳定性，进一步提高了板材上蚀刻液的均匀性，产品蚀刻精度提升较为显著。
应用于蚀刻设备循环装置

[实用新型]一种液晶显示器基板蚀刻浸泡装置-CN200820045187.7无效
发明人：蔡彦坚 -专利权人：深超光电(深圳)有限公司
申请日： 2008-03-21 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种液晶显示器基板蚀刻浸泡装置，包括蚀刻浸泡装置的外槽、内槽、基板传输装置、外槽内的液切风刀、集液槽和自动控制电路，在蚀刻浸泡装置外槽内上方设有喷洒装置，在内槽的入/出口处设有刮刀，在外槽的底部设有的排液孔、注液/排液孔，底部设有的排液孔、注液/排液孔分别通过集液管路、注液/排液管路连接供液压力调节管路和集液槽。它采用在基板蚀刻浸泡槽旁增设有一自动控制单元的供液压力调节管路，以控制对内槽停止注液时能维持加压泵的稳定输出，有效地节省蚀刻液，在基板蚀刻浸泡槽内还增设一刮刀，以对基板表面之蚀刻液进行有效的清除，解决了基板蚀刻浸泡槽的蚀刻液无谓耗损大而造成浪费的问题
一种液晶显示器蚀刻浸泡装置

[发明专利]蚀刻液酸浓度量测装置-CN201610338914.8有效
发明人：徐蕊;张维维;夏振宇;林虹云;张小新;钟兴进 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2016-05-20 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻液酸浓度量测装置，其包括控制器、分光光度计、蚀刻槽、参比池、检测器及溶液存储器；溶液存储器通过第一管道与所述蚀刻槽连通，溶液存储器通过第二管道与参比池连通；溶液存储器用于容纳蚀刻液；参比池用于参比液，控制器控制所述分光光度计同时光照蚀刻槽与参比池，控制器控制蚀刻液进入蚀刻槽与参比池的时间，并且控制器控制控制蚀刻槽内的蚀刻液与参比池内的参比液存在酸浓度差值；蚀刻槽与参比池均连通检测器，检测器用以检测经过分光光度计光照的蚀刻槽的蚀刻液与参比池的参比液所吸收的光的波长并转换成数据信号进行的对比
蚀刻浓度装置

[发明专利]蚀刻液及使用该蚀刻液进行软性线路板细线蚀刻的方法-CN201410181502.9在审
发明人：方鸿昌;王文剑 -专利权人：深圳市实锐泰科技有限公司
申请日： 2014-05-04 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液进行软性线路板细线蚀刻的方法，所述蚀刻液以水作为溶剂，包括溶质及各溶质浓度如下：二水合氯化铜，130-250g/L；30％盐酸，100-150mL/L；氯化铵，26.7所述蚀刻液是一种高溶铜、蚀刻速率快的酸性蚀刻液，不含双氧水或次氯酸钠，使用低酸含量，配以辅助溶剂及护岸剂，达到提高蚀刻速率的同时减轻侧蚀的目的，使用该蚀刻液进行软性线路板细线蚀刻的方法，能在短长度内较快完成蚀刻，蚀刻出来的线路平直，蚀刻因子高，因而可用于加工软性线路板的细线路。
蚀刻使用进行软性线路板细线方法

[发明专利]一种测量玻璃耐HF蚀刻性能的方法-CN201910328279.9在审
发明人：侯建伟;刘文瑞;朱永迁 -专利权人：蚌埠中光电科技有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本发明公开一种测量玻璃耐HF蚀刻性能的方法，采用一种耐蚀刻薄膜涂在或粘在玻璃表面，保护被薄膜覆盖的玻璃表面不被蚀刻液蚀刻，将玻璃整体放入蚀刻液中，没有覆盖耐刻蚀薄膜的玻璃表面被蚀刻液蚀刻，被耐刻蚀薄膜覆盖的玻璃表面由于薄膜的保护不被蚀刻液蚀刻，蚀刻完成后将玻璃取出清洗干净，将耐蚀刻薄膜剥离，使用台阶仪扫描玻璃表面，测量有耐蚀刻膜保护和没有耐蚀刻膜保护玻璃表面的高度差，可以得出玻璃锡面的耐HF酸蚀刻数据。
玻璃表面蚀刻蚀刻液耐蚀测量玻璃刻蚀薄膜蚀刻性能玻璃锡膜保护薄膜扫描玻璃表面玻璃薄膜剥离薄膜覆盖高度差酸蚀刻台阶仪放入覆盖刻蚀清洗测量取出

[发明专利]酸性蚀刻液再生方法和酸性蚀刻液再生装置-CN200510080937.5无效
发明人：梅枝孝道;北川悌也 -专利权人：长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社
申请日： 2005-06-24 - 公布日： 2005-12-28 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供含有草酸的蚀刻液再生方法和含有草酸的蚀刻液再生装置，其可以降低含有草酸的蚀刻液的全量交换的频率。在本发明中，其包括用NF膜25将用于ITO的蚀刻的含有草酸的蚀刻液过滤，分离为透过液和非透过液的过滤工序。
酸性蚀刻再生方法装置

[发明专利]一种碱性蚀刻废液电解回用的方法-CN202010088635.7有效
发明人：叶旖婷 -专利权人：叶旖婷
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：一种碱性蚀刻废液电解回用的方法，包括以下步骤：(1)将碱性蚀刻废液/或碱性蚀刻废液与还原剂的混合液作为阳极电解液，加入所述的阳极区中；将碱性蚀刻废液与还原剂的混合液作为阴极电解液，加入所述的阴极区中；(2)启动所述的电解电源进行电解作业，在所述的电解阴极上析出金属铜；(3)按照具体的碱性蚀刻工艺，向步骤(2)电解作业过后的阳极液和/或阴极液中加入氯化铵、氨、水和其他碱性蚀刻液所含成分中的一种或多种，配制成可重新利用于碱性蚀刻生产线上的再生碱性蚀刻子液该方法能提高电解析出铜的效率，且废液经电解回用后可以配制成能保持理想的蚀刻效果的再生碱性蚀刻子液。
一种碱性蚀刻废液电解方法

[发明专利]一种蚀刻液组合物-CN201810057441.3在审
发明人：李嘉 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2018-01-22 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明蚀刻液组合物包含过氧化氢、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂、氟化物、稳定剂以及水，通过调整各组分在该蚀刻液组合物中的质量占比以提高该蚀刻液组合物蚀刻的均一性，从而可以避免蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等特性失去
蚀刻蚀刻液组合物蚀刻添加剂蚀刻抑制剂产品品质过氧化氢氟化物均一性稳定剂直线度螯合剂锥角

[实用新型]一种液晶玻璃蚀刻机-CN201720735607.3有效
发明人：刘成君;吴玉龙;李勇;钟仪财;王肖南 -专利权人：赣州帝晶光电科技有限公司
申请日： 2017-06-22 - 公布日： 2018-01-05 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种液晶玻璃蚀刻机，包括暂存槽、蚀刻槽、清洗槽和热水清洗槽，所述暂存槽连接蚀刻槽，蚀刻槽连接清洗槽，清洗槽连接热水清洗槽，蚀刻槽包括槽体、蚀刻腔室、缓冲腔室、导流板、固定支撑架和蚀刻管，槽体的上部设有蚀刻腔室，下部设有缓冲腔室，蚀刻腔室与缓冲腔室相互连通，缓冲腔室的底部连通进液管，进液管连通调药管，调药管连接调药槽；该液晶玻璃蚀刻机集蚀刻与清洗一体，并且蚀刻槽的下部设有缓冲腔室，能够降低蚀刻液的流速，配合导流板能够防止蚀刻液产生涡流保持蚀刻质量的一致性；连通进液管的调药槽可方便调控HF的酸度，随时加用，值得大力推广。
一种液晶玻璃蚀刻

[实用新型]酸性蚀刻液循环再生与铜回收装置-CN201120321551.X有效
发明人：张华;贺光明;方志荣 -专利权人：广州市吉弛环保科技有限公司
申请日： 2011-08-30 - 公布日： 2012-04-25 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种酸性蚀刻液循环再生与铜回收装置。其包括电解槽，电解槽中间设有将电解槽分隔为阳极区和阴极区的异相或均相离子阳膜，阳极区中设有正电极，阴极区中设有负电极，所述的阳极区设有蚀刻废液入口和再生液出口，蚀刻废液入口通过管道与蚀刻机的蚀刻废液出口相接，再生液出口通过管道接有再生液混合槽；所述的阴极区通过管道与铜粉分离机形成循环以分离铜粉，阴极区设有蚀刻废液入口和再生液出口，蚀刻废液入口通过管道与蚀刻机的蚀刻废液出口相接，再生液出口通过管道与再生液混合槽连接；所述的再生液混合槽的出口通过管道与蚀刻机的蚀刻液入口相接。
酸性蚀刻循环再生回收装置

[发明专利]蚀刻法及蚀刻液-CN02141824.1无效
发明人：宗像昌树;小松洋仁;公文哲史;寺本和真;合田信弘;元井政和;齐藤范之;榊原利明;石川诚 -专利权人：索尼公司;STLCD株式会社;三菱化学株式会社
申请日： 2002-07-23 - 公布日： 2003-02-26 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：在基体上的银或银合金薄层通过蚀刻液而均匀地被蚀刻，而不产生蚀刻残留，同时可避免由于过度腐蚀导致的侧面腐蚀。该蚀刻液含有0.005～1重量％的银离子。蚀刻液供入罐或蚀刻液供料设备中，而后使之与基体上的银或银合金薄层接触。
蚀刻

[发明专利]蚀刻液及显示器的制造方法-CN201710317772.1在审
发明人：许博云;蔡奇哲;高克毅 -专利权人：群创光电股份有限公司
申请日： 2017-05-08 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： C23F1/44 文献下载
摘要：一种蚀刻液及显示器的制造方法。蚀刻液包括双氧水、丁二酸、丙二酸、醋酸、硫酸、异丙醇胺、5‑氨基‑1H‑四唑、四羟丙基乙二胺以及甘胺酸，上述成分均匀混合于去离子水中，其中双氧水占蚀刻液的重量百分比为5～10wt％，丁二酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，丙二酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～10wt％，醋酸占蚀刻液的重量百分比为1～10wt％，硫酸占蚀刻液的重量百分比为0.5～5wt％，异丙醇胺占蚀刻液的重量百分比为1～20wt％，5‑氨基‑1H‑四唑占蚀刻液的重量百分比为0.01～0.5wt％，四羟丙基乙二胺占蚀刻液的重量百分比为1～15wt％，甘胺酸占蚀刻液的重量百分比为1～5wt％。
蚀刻液重量百分比双氧水四羟丙基乙二胺氨基醋酸异丙醇胺丙二酸丁二酸甘胺四唑显示器硫酸水中离子制造

[发明专利]手机镜片蚀刻液、制备及应用方法-CN201910192156.7在审
发明人：郑资来 -专利权人：惠州市清洋实业有限公司
申请日： 2019-03-14 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种手机镜片蚀刻液，其包括以下重量百分比的原料：2～12％氟化氢盐、35～70％强酸，余量为水；本发明还公开了一种手机镜片蚀刻液的制备方法，其包括以下步骤：重量百分比为13～55％的水、2～12％的氟化氢盐及35～70％的强酸依次加入配液槽中，获得混合液；搅拌混合液至少30分钟以上，获得蚀刻液；本发明还公开了一种手机镜片蚀刻液的应用方法，其包括以下步骤：制备手机镜片蚀刻液，其浓度为1～7mol/L；手机镜片蚀刻液以1～8um/min的速率蚀刻手机镜片。本发明的手机镜片蚀刻液可抑制蚀刻过程中放大激光加工后手机镜片表面产生的凹点和划伤等缺陷，蚀刻直通率高；本发明提供的手机镜片蚀刻液制备及应用方法简单、易操作，易于工业化推广应用。
手机镜片蚀刻液制备蚀刻重量百分比氟化氢盐强酸应用激光加工混合液配液槽凹点划伤放大

[实用新型]一种酸性蚀刻液加工滤料装置-CN202320454541.6有效
发明人：柳会胜;卫建权 -专利权人：黄石尚容电子科技有限公司
申请日： 2023-03-11 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B01D29/03 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种酸性蚀刻液加工滤料装置，属于物品蚀刻领域，包括蚀刻加工箱、T型过滤器、酸性蚀刻液还原箱、第一出液阀、螺纹套筒和螺纹管，所述T型过滤器远离第一出液阀和第一蛇形管的一端螺纹连接有和螺纹套筒相适配的螺纹塞，所述螺纹套筒内侧壁靠近第一出液阀的一端设置有单向阀，所述螺纹套筒内侧壁靠近第一蛇形管的一侧固定连接有滤板；通过蚀刻加工箱、T型过滤器、酸性蚀刻液还原箱、第一出液阀、第一蛇形管、螺纹套筒、螺纹管、螺纹塞、单向阀和滤板的配合，酸性蚀刻液通过滤板过滤后，通过第一蛇形管流入酸性蚀刻液还原箱进行收集和还原，对蚀刻完成后的蚀刻液过滤后收集还原并再次使用，使蚀刻液使用更加充分。
一种酸性蚀刻加工装置

[实用新型]一种半导体硅环蚀刻装置-CN201822180816.3有效
发明人：王武林 -专利权人：捷硕（长泰）电力电子有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体硅环蚀刻装置，包括蚀刻液箱，所述蚀刻液箱的上表面铰接有盖体，盖体的内侧表面设有密封圈，且盖体的侧表面开设有观察口，观察口内设有观察窗，蚀刻液箱的内侧表面设有刻度线，蚀刻液箱的外侧表面设有循环液管，循环液管的上下两端均与蚀刻液箱内部连通，且循环液管上设有循环泵，循环泵的输入端与循环泵开关的输出端电连接，循环泵开关设置在蚀刻液箱的侧表面，循环泵开关的输入端与外置电源的输出端电连接，蚀刻液箱的侧表面设有回收装置本半导体硅环蚀刻装置，能够使蚀刻液对半导体硅环进行循环冲刷，提高了工作效率，缩短了加工时间，可以使反应更加充分，避免资源浪费，使用方便。
蚀刻液半导体硅循环泵开关蚀刻装置循环液管侧表面盖体输出端电连接内侧表面输入端循环泵密封圈本实用新型工作效率回收装置内部连通上下两端外侧表面外置电源观察窗观察口刻度线上表面铰接冲刷观察加工