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[发明专利]用于增加高指数纳米压印平板印刷术膜密度的方法-CN202180029852.1在审
发明人：安德鲁·塞巴洛斯;拉米·胡拉尼;大野健一;尤里·梅尔尼克;阿弥陀·乔希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本公开内容的多个实施方式一般涉及致密纳米压印膜和用于制作这些致密纳米压印膜的工艺，和含有致密纳米压印膜的光学装置。在一个或多个实施方式中，致密纳米压印膜含有基底纳米压印膜和设置在基底纳米压印膜上和纳米颗粒之间的金属氧化物。基底纳米压印膜含有纳米颗粒，其中纳米颗粒含有氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化铪、氧化铬、铟锡氧化物、氮化硅或它们的任何组合。
用于增加指数纳米压印平板印刷术密度方法

[发明专利]一种斜齿光栅的纳米压印方法-CN202010812334.4在审
发明人：张琬皎;刘寅 -专利权人：杭州欧光芯科技有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种斜齿光栅的纳米压印方法。装置包括包括压印腔体和位于压印腔体中的模版固定盘、基板托盘、上伺服电机、下伺服电机、导轨和金属臂；方法包括纳米压印、脱模工作、翻印准备、复制模具进行纳米压印和翻印脱模等过程。本发明方法处理能避免脱模过程对光栅结构的损坏，压印时压印胶的填充更完整，顺利脱模阻挡小，减少缺陷。
一种光栅纳米压印方法

[发明专利]一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法-CN201310655957.5有效
发明人：邓启凌;张满;史立芳;胡松;曹阿秀;秦燕云;李志炜 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2013-12-08 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：发明涉及一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法，包括如下步骤：1）对表面含有浮雕纳米结构的纳米压印模板进行表面防粘处理；2）对一块刚性基片进行偶联处理；3）在步骤2）中经过偶联处理的刚性基片上涂覆一层巯基-烯材料；4）将步骤1）中经过防粘处理的纳米压印模板和步骤3）中的表面涂覆巯基-烯材料的刚性基片放置在纳米压印机中进行对准压印；5）利用紫外光将巯基-烯材料固化成型；6）纳米压印模板脱模后，对巯基-烯材料结构层进行表面防粘处理，制备获得纳米压印聚合物模板。本发明的显著特点是制备过程无需刻蚀和高真空条件，大大简化了制备工艺，降低了制作成本，促进了纳米压印聚合物模板在纳米结构制备领域的广泛应用。
一种紫外光固化纳米压印聚合物模板制备方法

[发明专利]纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板-CN201610255462.7有效
发明人：陈黎暄;李泳锐 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2016-04-21 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板。本发明的纳米压印模板的制作方法，先在圆柱状的硬质滚筒的外圆周面上包覆一层软性的具有纳米线栅结构的膜片，形成纳米线栅结构膜层，得到中间筒体，然后利用低熔点焊料合金在所述中间筒体的外圆周面上沿所述纳米线栅结构膜层的纳米线栅结构形成一层结构硬化层，得到具有纳米线栅结构的纳米压印模板；通过在软质的纳米线线栅结构上形成一层硬质的结构硬化层，对软质的纳米线线栅结构进行硬化，从而克服在压印过程中微结构材质本身硬度不够的问题，使得卷对卷微结构压印，特别是纳米线栅压印成为实际工艺中可行的一部分
纳米压印模板制作方法

[发明专利]一种纳米压印导电浆料及其制备方法与应用-CN202210749259.0在审
发明人：高怀宇;刘元哲;类维瑞;殷文钢 -专利权人：北京中科纳通电子技术有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： H01B1/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种纳米压印导电浆料及其制备方法与应用，以重量份数计，所述纳米压印导电浆料的制备原料包括：环氧树脂2‑8份、导电银70‑75份、功能助剂2‑5份以及有机溶剂16‑20份，其中导电银包括微米银片与纳米银粉本发明通过对纳米压印导电浆料组成的调控，使其应用于金属网格柔性导电膜时的方阻较低；且所得纳米压印导电浆料的粘度较低，便于压印刮涂；且纳米压印导电浆料的固化温度在135℃以下，固化后与基体的附着力在4B级以上
一种纳米压印导电浆料及其制备方法应用

[发明专利]基于X射线曝光技术制作透光纳米压印模板的方法-CN200810100954.4有效
发明人：刘兴华;徐德钰;朱效立;谢常青;刘明 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2008-02-27 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于X射线曝光技术制作透光纳米压印模板的方法，透明纳米压印模板是由电子束光刻制成纳米X射线曝光模版，该方法通过X射线曝光，将纳米图形转移到不导电的石英作为衬底的光刻胶上，显影后通过蒸发金属、剥离工艺，得到石英衬底上的金属纳米图形，将金属作为阻挡层使用反应离子刻蚀石英，得到石英上的纳米图形，去除金属完成透光纳米压印模板的制作。同时，本发明实现了透光纳米压印模板，为纳米压印提供了方便的对准手段，使紫外固化纳米压印成为可能。
基于射线曝光技术制作透光纳米压印模板方法

[发明专利]包含机器可读的DNA和纳米粒子的QR代码-CN201480068726.7在审
发明人：伊里·佩尔寇斯;罗恩·泰勒;拉夫·什里拉姆;佩特·密尔特纳 -专利权人：霍洛普迪卡有限责任公司
申请日： 2014-10-29 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： G06K19/10 文献下载
摘要：解决方案涉及设置有具有高度可变的特性的DNA和纳米粒子的密集体的快速响应的安全衍射代码，其本质在于下面的事实：它由具有快速响应的压印的代码的一层金属化箔形成，金属化箔进一步由合成DNA的压印层和合成纳米粒子的另一压印层覆盖合成DNA的压印层和合成纳米粒子的压印层被由保护性透明箔组成的顶层覆盖。阅读器转向合成DNA的压印层和合成纳米粒子的压印层(4)。阅读器经由互联网网络连接到包含注册信息代码和来自合成纳米粒子的压印层和来自合成DNA的压印层的可变特性的数据库。
包含机器可读 dna 纳米粒子 qr 代码

[发明专利]一种润滑薄膜的制备方法-CN201410218285.6有效
发明人：李丰;邓萌萌;石振;杨立梅 -专利权人：苏州锦元纳米科技有限公司;南京丰强纳米科技有限公司
申请日： 2014-05-22 - 公布日： 2014-08-13 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种润滑薄膜的制备方法，包括：对基底表面上的薄膜层进行预处理；旋涂光刻胶，加热后紫外固化形成中间层；形成紫外光固化纳米压印胶层；将软质压印模板压入紫外光固化纳米压印胶层，在紫外灯下曝光；刻蚀去除未曝光处残余的紫外光固化纳米压印胶，露出中间层；以紫外光固化纳米压印胶层作为掩膜层，刻蚀中间层，露出薄膜层；以紫外光固化纳米压印胶层和中间层作为掩膜，刻蚀薄膜层，在薄膜层上形成微纳结构；去除紫外光固化纳米压印胶层和中间层，获得所需润滑薄膜本发明利用软压印复合纳米压印技术，有效地将所需的图案转移到薄膜上，可以在不规则的非平面上制备微纳结构的润滑薄膜。具有高效，低成本，高分辨率的特点。
一种润滑薄膜制备方法

[发明专利]生物模板纳米压印方法-CN200510136314.5无效
发明人：刘忠范;谢国勇;章国明;张锦 -专利权人：北京大学
申请日： 2005-12-31 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：本发明的生物模板纳米压印方法主要工艺过程如下：首先在硅片表面涂一层压印胶并干燥，将生物模板具有纳米结构的一面向下置于压印胶表面，并在其上盖另一硅片，然后将之放入纳米压印设备在加热加压条件进行压印，退模后于压印胶表面得到与生物模板相对应的负型结构，从而实现生物表面纳米结构的复制其及特殊功能的模仿。本发明直接以自然界存在的生物表面纳米结构为纳米压印模板，避免了常规模板制备的复杂工艺，而且，生物表面结构在生长过程中形成了一层自然抗粘层，可以进一步简化工艺，降低成本。本发明所用生物模板可以进行多次压印，重复使用，并可实现大面积的纳米结构制备。
生物模板纳米压印方法

[发明专利]纳米压印模板、纳米压印装置及纳米压印方法-CN201810866377.3在审
发明人：侯俊;李冬泽;李佳育 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2018-08-01 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种纳米压印模板，用于对显示面板上的待压印偏光片进行压印，所述显示面板包括多个像素以及位于多个所述像素之间的黑色矩阵，所述纳米压印模板包括数个压印模块以及围绕所述压印模块的非压印模块，所述纳米压印模板用于在对所述待压印偏光片压印时置于所述待压印偏光片上，且所述非压印模块在所述显示面板上的正投影在所述黑色矩阵之内。
压印纳米压印模板偏光片显示面板黑色矩阵像素纳米压印装置大型显示器金属线栅纳米压印暗条纹正投影拼接

[发明专利]拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法-CN201911176775.3有效
发明人：路彦辉;李多辉;周雪原 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-11-26 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种拼接式纳米压印模板、其拼接缝的修复方法及其制作方法。该拼接式纳米压印模板的拼接缝的修复方法包括：提供一纳米压印拼接板，纳米压印拼接板包括衬底和位于衬底之上的多个拼接模块，相邻拼接模块之间具有拼接缝，拼接模块包括单元图案；至少在拼接缝处形成修复胶层；对修复胶层进行图形化处理以形成修复模块本实施例能够实现对拼接式纳米压印模板的拼接缝的修复，从而制作出无缝的拼接式纳米压印模板；无缝的拼接式纳米压印模板不仅有利于提升光电器件的质量，而且解决了由于拼接缝而导致的脱模问题。
拼接纳米压印模板接缝修复方法及其制作方法

[发明专利]真空负压纳米压印方法-CN201610790060.7在审
发明人：冀然 -专利权人：苏州天仁微纳智能科技有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了本发明提供一种真空负压纳米压印方法，其利用环境真空在500Pa以下实现的虹吸效应增强效应，使液态的纳米压印材料自动填充纳米压印模版表面结构，避免了接触气泡、结构填充不均匀、填充慢、压印模版变形限制压印精度等缺点
真空纳米压印方法

[发明专利]纳米金属光栅的制备方法及纳米金属光栅-CN201710739576.3有效
发明人：侯俊;卢马才 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-08-25 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供纳米金属光栅的制备方法及纳米金属光栅，方法包括步骤：提供一基板，在基板上设置有金属层；在金属层上形成压印胶层；采用具有光栅周期图形的压印模板压印压印胶层；固化压印胶层，固化后移除压印模板，形成具有光栅周期图形的压印胶，在光栅周期图形的底部残留有压印胶；采用氧气灰化的方法去除残留压印胶，暴露出光栅周期图形的底部的金属层，并在暴露的金属层表面形成金属氧化物膜；去除具有光栅周期图形的压印胶；以金属氧化物膜为掩膜，图形化金属层，形成纳米金属光栅。本发明优点是，一、解决了现有技术中金属层氧化后刻蚀无法进行的难题；二、金属氧化物膜作为后续工艺的掩膜制作纳米金属光栅，且还可作为纳米金属光栅保护层。
纳米金属光栅制备方法

[发明专利]纳米压印用固化性组合物、纳米压印成形体以及图案形成方法-CN201280008915.6有效
发明人：关根均;高田泰广;谷本尚志;矢木直人 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2012-02-14 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种用于按压纳米压印用模具来转印微细凹凸图案的“纳米压印”的、含有复合树脂的纳米压印用固化性组合物，所述复合树脂具有硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基及聚合性双键的聚硅氧烷链段、和该聚硅氧烷以外的聚合物链段另外，提供使用该纳米压印组合物的纳米压印成形体、抗蚀膜、树脂模具和图案形成方法。
纳米压印固化组合成形以及图案形成方法

[发明专利]一种纳米压印结构的加工方法-CN202110867526.X在审
发明人：李其凡;史晓华 -专利权人：苏州光舵微纳科技股份有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及了一种纳米压印结构的加工方法，包括：步骤A：在基片表面涂覆一层纳米压印专用胶；步骤B：用目标图形尺寸的模板对所述纳米压印专用胶进行纳米压印制程，使所述目标图形尺寸复制转移在所述基片上面、获得图形掩膜，所述基片表面未被所述图形掩膜覆盖的区域形成压印底膜；步骤C：通过干法刻蚀工艺去除所述压印底膜，并形成所述基片表面的裸露区域；步骤D：将所述目标图形尺寸转移至所述基片上。通过上述设置，可解决目前纳米压印技术制备的芯片结构中压印底膜既影响后续刻蚀工艺、又影响后续剥离工艺导致的目标图形复制效果差或失真的问题。
一种纳米压印结构加工方法