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[发明专利]用于薄膜的纳米压印设备-CN202310291161.X在审
发明人：冀然;李铭 -专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种用于薄膜的纳米压印设备，其压印薄膜单元包括压印薄膜料卷和压合辊组；承载膜单元包括承载膜和第二传送结构，第二传送结构用于循环传送承载膜，压合辊组压合承载膜与压印薄膜，喷涂单元在贴合后的材料的压印薄膜一侧喷涂形成纳米压印胶层；预固化单元用于进行胶体的预固化；压印单元包括表面设置有纳米结构的压印辊和第一压力辊组；紫外固化单元用于将液态的纳米压印胶层固化；保护膜覆盖单元用于形成结合体；收料单元用于将结合体与承载膜分离，并将结合体收卷本公开减少了压印薄膜在压印时发生的形变，承载膜可循环使用，降低了生产成本，且提高了压印速度，实现了快速批量化、可重复的纳米压印过程。
用于薄膜纳米压印设备

[发明专利]一种中红外双层纳米金属光栅及其制备方法-CN201710550964.7在审
发明人：褚金奎;康维东;曾祥伟;张然;关乐;樊元义 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2017-07-07 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种中红外双层纳米金属光栅的制备方法及利用该方法制备获得的中红外双层纳米金属光栅。包括如下步骤制作压印模板，采用热压印工艺复制软模板，将镍硬模板上纳米线栅结构转移复制到软模板上，得到与原镍硬模板结构互补的纳米线栅结构；提供一作为光栅基底的透红外材料；采用滴胶旋涂方式在基底表面旋涂光栅压印胶介质层；转移纳米图案，采用紫外曝光纳米压印工艺，将前述软模板压印到压印胶介质层，使纳米线栅结构转移到光栅压印胶介质层上；利用垂直热蒸镀工艺在上述光栅压印胶介质层纳米线栅结构凸起和凹槽部位沉积金属，完成中红外双层纳米金属光栅的制备
一种红外双层纳米金属光栅及其制备方法

[发明专利]可见光折射率传感器及其加工方法-CN201510833559.7在审
发明人：朱锦锋;张丽蓉;白彦强;严爽;柳清伙 -专利权人：厦门大学
申请日： 2015-11-25 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： G01N21/41 文献下载
摘要：可见光折射率传感器为3层结构，从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层。加工方法：将基片置于匀胶机中，采用旋涂的方式将紫外固化纳米压印胶均匀地涂布在基片上，烘烤后在基片上形成纳米压印胶层；将表面干净的中间聚合物软膜放在镍模板表面进行热纳米压印，得中间聚合物软模板，在中间聚合物软模板表面得到与镍模板互补的纳米结构，以中间聚合物软模板为紫外纳米压印模板，将表面涂有纳米压印胶层的基片置于纳米压印光刻系统样品台上进行紫外纳米压印，在纳米压印胶层表面得到与中间聚合物模板互补的纳米结构；用电子束蒸镀仪先蒸镀铬层，再蒸镀银层
可见光折射率传感器及其加工方法

[发明专利]一种单层纳米金属光栅的制备方法-CN201410802449.X在审
发明人：张然;褚金奎;刘泽;王志文;王倩怡 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2015-08-04 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种单层纳米金属光栅的制备方法，属于纳米制造技术领域，所述制备方法包括如下步骤：①先将基底涂上压印胶，再将具有纳米光栅图形的压印模板压入压印胶，得到一维纳米光栅结构的压印胶层，最后将压印残胶层去除；②在基底上有纳米光栅图形的一面沉积金属层，在压印胶层的上面形成上层金属纳米光栅层，在基底的上面形成下层金属纳米光栅层；③将压印胶层去除，得到单层纳米金属光栅，本发明有益效果为工艺步骤简单，操作容易，成本低
一种单层纳米金属光栅制备方法

[发明专利]一种连续拼版式的纳米压印方法-CN202211727050.0在审
发明人：马腾飞;史晓华 -专利权人：苏州光越微纳科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种连续拼版式的纳米压印方法，包括以下步骤：制备具有精确纳米压印区域的软模板；在晶圆上涂覆压印胶；利用具有精确纳米压印区域的软模板对涂覆有压印胶的晶圆进行连续多个区域的压印，直至压印完成。本发明无需制备大尺寸的软模板，降低生产难度,可以在同一晶圆的不同区域压印相同或不同的纳米微结构，灵活性强。
一种连续版式纳米压印方法

[发明专利]一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法-CN201910721247.5有效
发明人：李晓军 -专利权人：广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法。所述纳米压印模板包括功能区和非功能区；所述非功能区分为第一非功能区和第二非功能区，所述第一非功能区围绕所述功能区并与所述功能区相邻，所述非功能区上除去第一非功能区的区域为第二非功能区；所述第一非功能区的高度高于所述功能区和所述第二非功能区的高度所述纳米压印模板是在现有的纳米压印凹模板的基础上进行整形得到。相较于现有的纳米压印凹模板，本发明提供的纳米压印模板在保证模板强度的同时，能够降低压印压力，提高图案转移质量，提高压印良率，延长模板寿命。
一种纳米压印模板制备方法

[发明专利]一种功能陶瓷材料表面图形化的方法-CN201610685050.7有效
发明人：程鑫;孙大陟;余波;李丹丹 -专利权人：南方科技大学
申请日： 2016-08-17 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： C04B35/48 文献下载
摘要：一种功能陶瓷材料表面图形化的方法，包括如下步骤：(1)将热塑纳米压印胶加入溶剂中配制成纳米压印胶溶液；(2)将纳米粒子加入溶剂中配制成纳米粒子悬浮液；(3)向步骤(2)所得纳米粒子悬浮液中加入改性剂，分散；(4)将步骤(1)所得纳米压印胶溶液加入步骤(3)所得纳米粒子悬浮液中使溶剂挥发，获得陶瓷纳米压印胶；(5)利用纳米压印技术将步骤(4)所得陶瓷纳米压印胶的表面图形化；(6)将步骤(5)表面图形化后的陶瓷纳米压印胶进行高温烧结
一种功能陶瓷材料表面图形方法

[发明专利]一种用于多种衬底表面制备纳米颗粒图案的方法-CN201610209718.0在审
发明人：边捷 -专利权人：边捷
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种用于多种衬底表面制备纳米颗粒图案的方法，包括如下步骤(1)准备带有特定纳米图案的纳米压印模板；(2)在衬底上均匀涂覆一层含有纳米颗粒的纳米压印胶；(3)压印出与模板对应的纳米图案；(4)刻蚀掉压印胶残余层，得到独立的压印胶图案；(5)部分去掉压印胶，得到纳米颗粒的图案。本发明方法可应用于多种纳米颗粒的任意纳米图案的制备，且该方法制备分辨率高，工艺简单，能高效率，低成本大面积地在多种衬底上制备纳米颗粒图案，能够很好的满足实际需求。
一种用于多种衬底表面制备纳米颗粒图案方法

[发明专利]一种基于纳米压印的高出光效率LED的制备方法-CN201110071200.2无效
发明人：孙堂友;徐智谋;刘文;吴小峰;张晓庆;赵文宁;王双保 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2011-03-23 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于纳米压印的GaN基LED制备方法，包括：（1）利用铝的阳极氧化方法制备纳米压印模板；（2）对所述纳米压印模板进行防粘处理；（3）在目标片上旋涂一层光刻胶；（4）将上述纳米压印模板与目标片进行纳米压印；（5）将上述压印处理后的纳米压印模板与目标片分离，从而在所述目标片表层的光刻胶上形成所需的图案；（6）利用电感耦合等离子体（ICP）刻蚀或者反应离子束（RIE）蚀刻，将上述图案转移到目标片上；（7）将目标片经后续工艺处理本发明的方法简便易行，通过阳极氧化方法制备纳米压印模板，适合于大规模工业生产的纳米压印技术来制作高出光效率的GaN基光子晶体LED。
一种基于纳米压印高出光效率 led 制备方法

[发明专利]一种基于纳米压印的反射光栅板的制备方法-CN202211263265.1在审
发明人：朱元强;黄书惠;李书比 -专利权人：福建福特科光电股份有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于纳米压印的反射光栅板的制备方法，包括如下步骤：①制作结构及形状与目标光栅结构及形状相同的光栅母版；②在光栅母版镀制抗粘膜层；③在抗粘膜层上旋涂聚二甲基硅氧烷层；④紧接在聚二甲基硅氧烷层上覆盖塑料薄膜并压印和固化制备纳米压印工作模板；⑤取玻璃基板，在其表面旋涂纳米压印紫外胶层；⑥用纳米压印工作模板对纳米压印紫外胶层进行压印固化脱模得到具有初始光栅的光栅板；⑦最后在步骤⑥制得的光栅板镀制金属膜，即得。纳米压印后的胶水直接留在基板表面形成初始光栅结构，无需在基板表面做刻蚀等处理，而且不需要额外去除紫外纳米压印胶，直接将紫外纳米压印胶作为初始光栅在表面镀金属膜即可形成反射光栅板。
一种基于纳米压印反射光栅制备方法

[发明专利]一种纳米压印的脱模方法-CN202211496391.1在审
发明人：孔麟书;孙易安 -专利权人：上海晶祈科技有限公司
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种纳米压印的脱模方法，涉及纳米压印技术领域。该纳米压印的脱模方法，包括以下步骤：S1：在模板的下侧面上涂覆聚氯乙烯涂层，通过电子加速器辐射作用使聚氯乙烯变成网状结构；S2：将纳米压印胶材料涂覆于衬底上，形成压印胶层；S3：将模板压入压印胶层S4：通过UV灯对待压印胶层进行固化定型，对模板进行加热，将聚氯乙烯涂层与压印成型的胶层分离；S5：移开模板，完成脱模过程。在模板需要与胶层表面发生脱模时，对模板进行加热，由于纳米压印胶材料的收缩率低，因此聚氯乙烯涂层与纳米压印胶材料之间的热缩性不同，聚氯乙烯涂层会收缩并与纳米压印胶材料之间产生相对位移，极小的脱模力就可以实现模板和胶层的分离
一种纳米压印脱模方法

[实用新型]一种纳米晶块压印装置-CN202320628730.0有效
发明人：徐子静;高琴;赵利勤;杨朝日 -专利权人：重庆鑫合创电器有限责任公司
申请日： 2023-03-26 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种纳米晶块压印装置，涉及纳米晶块加工技术领域。该纳米晶块压印装置，包括固定底板、上料组件和压印组件，固定底板的顶部固定安装有固定侧板，固定侧板的一侧固定安装有固定顶板，上料组件设于所述固定底板上，所述上料组件包括驱动电机、转动盘和压印盒，转动盘的顶部固定安装有两组压印盒，安装板用于驱使两组压印盒进行转动换位。该纳米晶块压印装置，能够进行循环上下料处理，这样在对纳米晶压印的过程中，有效地提高了纳米晶压印的速度，同时还便于人工进行操作，增加纳米晶的压印效率，同时万向轮和支撑杆的配合使用，能够在压印的过程中，对转动盘进行支撑处理
一种纳米压印装置

[发明专利]一种提高压印均匀性的纳米压印设备-CN202211727820.1在审
发明人：冀然;彭华 -专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请日： 2023-03-02 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及纳米压印技术领域，具体涉及一种提高压印均匀性的纳米压印设备。包括软膜基材吸附单元和压印衬底固定单元，软膜基材吸附单元和压印衬底固定单元之间设置有点胶单元，纳米压印设备还包括去静电单元和用于纳米压印材料固化的曝光单元；软膜基材吸附单元包括吸附板和软膜基材，压印衬底固定单元包括设于软膜基材吸附单元正下方的压印衬底吸附盘和压印衬底；点胶单元包括上点胶嘴和下点胶嘴，分别点胶到软膜和压印衬底上；去静电单元包括去离子风扇，曝光单元包括UV灯。本发明通过准确控制纳米压印胶层的厚度，并控制胶层的均匀性，实现复制软膜和压印产品的过程的设备，提高模板使用寿命，降低生产成本，快速实现量产。
一种提高压印均匀纳米设备

[实用新型]全自动纳米压印装置-CN201720557059.X有效
发明人：刘晓成;史晓华 -专利权人：苏州光越微纳科技有限公司
申请日： 2017-05-18 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动纳米压印装置，包括料片供料机构，包括供料架、以及设置于供料架上的至少一个料盒，料盒上由下至上依次设有多个料片固定机构；纳米压印机构，包括压印机箱和压印机构，压印机箱设置于料片供料机构的一侧，压印机箱内设有料片定位机构和软膜板定位机构，压印机箱的侧面上设有料片进出口和软膜板进出口，压印机构设置于压印机箱内用于将软膜板压印至料片上；料片移载机构，其设置于料片供料机构和纳米压印机构之间，用于将料片在料片供料机构和纳米压印机构之间移动本实用新型相较于现有技术，料片移载机构将料片在料片供料机构和纳米压印机构之间移动，结构合理，省却人力，实现自动纳米压印，大大提高工作效率。
全自动纳米压印装置

[发明专利]一种基因测序基片的制备方法-CN202010984826.1在审
发明人：李文涛;陈子天;段海峰 -专利权人：赛纳生物科技(北京)有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： C12Q1/6869 文献下载
摘要：本发明提供一种基因测序基片的制备方法，可以消除在玻璃上的纳米压印胶的荧光性，从而使得紫外纳米压印胶制备的微坑结构可以应用于基因测序芯片。利用紫外光源长时间的照射玻璃上的纳米压印胶的薄层，可以消除该薄层纳米压印胶的荧光。方法简单，并且不会对于纳米压印胶造成损伤。
一种基因测序基片制备方法