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[发明专利]一种浮动研磨头和抛光头机构-CN201610856671.7有效
发明人：焦翔;朱健强 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2016-09-27 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：一种浮动研磨头和抛光头机构，主要包括研磨盘或抛光盘、固定头、锁紧板、下转板、下侧板、传动转子、上侧板轴承滚轮组、下侧板轴承滚轮组、上侧板、上转板、滑动轴套、转动轴、弹簧、弹簧限位板和传动销等组成，其中传动转子上设有两组圆弧导轨，两组圆弧导轨圆柱面的轴线垂直相交，调节研磨盘或抛光盘的高度使研磨面或抛光面过轴线交点，研磨或抛光时可消除倾覆力矩，极大地提高研磨或抛光压力的均匀性，并使得在浮动加工中使用更小的研磨头或抛光头成为现实，本发明适用于高精度抛光或研磨。
研磨研磨头抛光头机构传动转子圆弧导轨轴承滚轮浮动抛光盘上侧板下侧板研磨盘两组弹簧限位板高精度抛光滑动轴套抛光压力倾覆力矩轴线垂直轴线交点抛光传动销固定头均匀性抛光面抛光头上转板锁紧板研磨面转动轴弹簧转板相交加工

[实用新型]一种化学机械抛光装置-CN201620735058.5有效
发明人：韦荣;李春;庞金明 -专利权人：吉姆西半导体科技（无锡）有限公司
申请日： 2016-07-12 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光装置，包括抛光台，抛光台底部设有转轴，抛光台顶面设有研磨垫，研磨垫上方设有抛光头，抛光头底部夹持晶圆，所述研磨垫上对应抛光头设有喷淋口，抛光台内对应喷淋口安装雾化发生器，该化学机械抛光装置对被抛光层的损伤大大降低，还可以减小抛光图形中的凹坑深度，同时还可调节抛光速率，并提高研磨垫的利用率。
一种化学机械抛光装置

[发明专利]能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法-CN201911145261.1在审
发明人：廖楚平 -专利权人：苏州亮宇模具科技有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述磨具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动所述研磨抛光方法步骤简单、操作方便。分发明的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法使得待抛光件抛光更加方便快捷，提高了工作效率及生产效率。
能够形成高效平面研磨抛光设备方法

[实用新型]光学玻璃研磨抛光系统-CN201620502774.9有效
发明人：陈洪良 -专利权人：苏州微米光学科技有限公司
申请日： 2016-05-30 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学玻璃研磨抛光系统，包括交替排列的抛光机构和研磨机构，抛光机构包括基座、固定于基座的支撑杆、抛光辅具和抛光工作盘，抛光辅具与支撑杆相连，研磨机构通过摇杆与支撑杆末端相连，支撑杆末端底部还设有滑块，与支撑杆末端相邻的另一抛光机构具有滑台，支撑杆连有第一动力装置，在所述第一动力装置的带动下，滑块沿滑台滑动，抛光辅具和研磨机构随支撑杆摆动，研磨机构包括与摇杆相连的偏心研磨轮。本实用新型的研磨抛光系统设计合理，能够有效提高研磨抛光效果，可跟据需要连接相关子设备，合理安排空间。
光学玻璃研磨抛光系统

[发明专利]研磨液、过抛和终点检测方法及装置、抛光设备-CN201110233369.3有效
发明人：邓武锋;陈枫;洪中山 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-08-15 - 公布日： 2013-02-20 - 主分类号： B24B49/00 文献下载
摘要：一种研磨液、过抛和终点检测方法及装置、抛光设备，所述终点检测方法，包括：利用包含显色剂的研磨液对需要抛光的物质进行化学机械抛光；收集从化学机械抛光设备的抛光垫上流出的研磨液；利用比色法获知从抛光垫上流出的研磨液中包含的需要抛光物质的浓度，所述需要抛光物质的浓度逐渐减小到预定范围内，或者研磨液中需要抛光物质的浓度在预定范围内且抛光的时间大于预定时间，或者研磨液中需要抛光物质的浓度第二次在预定范围内，输出终点检测信号。
研磨终点检测方法装置抛光设备

[实用新型]复合抛光盘及抛光装置-CN202020371903.1有效
发明人：唐永勇 -专利权人：佛山灿洁科技有限公司
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种复合抛光盘，包括弹性基层，所述弹性基层具有安装面和抛光面，弹性基层的安装面设有可与抛光机的转轴相连的连接部，所述弹性基层的抛光面设有研磨剂复合层，本实用新型还公开了一种抛光装置，包括抛光机以及上述复合抛光盘，所述复合抛光盘的连接部与抛光机的转轴相连。本实用新型避免了抛光时发生抛光研磨剂飞溅，减少了抛光产生的研磨剂粉尘，并且省去了搭配弹性基层和抛光研磨剂的麻烦，确保了最佳抛光研磨效果，同时还解决了现有的抛光盘寿命短的问题。
复合抛光装置

[发明专利]一种PCB研磨抛光机-CN201910460066.1在审
发明人：陈斯明 -专利权人：昆山合亿兴机电设备有限公司
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种PCB研磨抛光机。本发明的技术方案是：一种PCB研磨抛光机，包括机架，所述机架上设置有工作台面，所述工作台面上设置有研磨抛光盘组以及精密十字滑台，所述精密十字滑台上设置有升降机构，所述升降机构连接有能够夹取PCB的夹爪气缸，所述升降机构上设置有电源插口，所述研磨抛光盘组包括由设置在工作台面底部的由电机带动的粗研磨盘、中研磨盘、细研磨盘以及抛光盘，所述机架上还在工作台面的下方设置有气压震动器，所述粗研磨盘、中研磨盘、细研磨盘以及抛光盘的中心设置有载液池本发明提供的方案研磨抛光效果好精准度高且防止研磨液抛光液溅出和沉淀。
抛光盘研磨盘研磨抛光机升降机构气压震动器工作台面研磨粗研磨工作台载液精密十字滑台研磨抛光效果电机带动电源插口夹爪气缸中心设置精准度连接管抛光液研磨液夹取溅出沉淀精密震动

[发明专利]一种多工位3D曲面玻璃同步抛光研磨装置-CN202111609015.4在审
发明人：谢明蕊 -专利权人：谢明蕊
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明涉及研磨抛光设备技术，尤其涉及一种多工位3D曲面玻璃同步抛光研磨装置。本发明的技术问题：现有的3D曲面玻璃研磨抛光设备，无法同时对3D曲面玻璃的凸面和凹面实施研磨和抛光，并且凹凸面抛光厚度不均匀出现塌边问题，磨液在抛光面不够充分，碎屑不易排出。本发明的技术实施方案是：包括有凸面研磨机构和磨削剂输送机构等；凸面研磨机构与磨削剂输送机构通过软管相连接；凸面研磨机构用于研磨电子产品曲面玻璃基片凸面。本发明通过设计转移机构，实现了通过机械化对3D曲面玻璃凸面和凹面研磨抛光过程的转移，提高了装夹的精度，并通过凸面研磨机构和凹面研磨机构，实现了3D曲面玻璃曲面弧度的跟随研磨和抛光。
一种多工位曲面玻璃同步抛光研磨装置

[发明专利]用于包埋样品和加工包埋样品的包埋压力机、研磨和/或抛光设备及生产线-CN202180035513.4在审
发明人：罗伯特·霍尔 -专利权人： ATM金尼斯有限公司
申请日： 2021-05-10 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： B29C43/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将样品自动包埋在包埋材料中的包埋压力机，包括具有压制圆筒的压制单元；用于计量进料包埋材料的配料装置；具有多个装载位置的样品装载台，操作者可以在该装载位置上分别放置要包埋的样品；控制装置，本发明还涉及一种研磨和/或抛光设备，包括：装置壳体；至少一个用于加工样品底面的加工工位，其中该加工工位具有用于研磨样品底面的带有研磨片的研磨盘，或用于抛光样品底面的抛光盘；样品输送装置，其具有用于为研磨和/或抛光过程提供样品的样品取出位置；用于在研磨和/或抛光过程后放置样品的样品放置位置；带有用于抓取样品的样品夹具的研磨/抛光头，其中，带有样品夹具的研磨/抛光头移动到样品取出位置，并且样品夹具抓取样品，其中，带有样品夹具的研磨/抛光头将样品送到至少一个加工工位，并且样品底面在该加工工位中被研磨或抛光，并且其中在研磨或抛光和必要时其他加工步骤之后，带有样品夹具的研磨/抛光头将样品送到样品放置位置并在那里放置样品，本发明还涉及一种自动生产线，用于包埋多个样品并用于通过在程序控制的整体系统中对样品进行研磨和/或抛光来加工由此包埋的样品，该整体系统包括自动包埋压力机和自动研磨和抛光设备。
用于包埋样品加工压力机研磨抛光设备生产线

[发明专利]抛光垫-CN201811051245.1在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有研磨槽。其中，研磨槽的槽深在由抛光垫中心位置至抛光垫边缘位置的方向上渐增。本公开提出的抛光垫在抛光过程中，当抛光垫的转速一定的情况下，根据经典力学原理可知上述研磨槽槽深渐增的设计能够加快研磨液的流速。
抛光

[实用新型]抛光垫-CN201821473729.0有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有研磨槽。其中，研磨槽的槽深在由抛光垫中心位置至抛光垫边缘位置的方向上渐增。本公开提出的抛光垫在抛光过程中，当抛光垫的转速一定的情况下，根据经典力学原理可知上述研磨槽槽深渐增的设计能够加快研磨液的流速。
抛光垫研磨槽抛光表面槽深渐增抛光垫中心边缘位置抛光过程研磨液抛光

[发明专利]一种减少铜靶材预溅射时间的方法-CN202110907393.4在审
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;慕二龙;汪焱斌 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-08-09 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种减少铜靶材预溅射时间的方法，所述方法包括以下步骤：对铜靶材的溅射面依次进行机械加工、一次抛光和二次抛光，所述二次抛光后进行预溅射；所述二次抛光为研磨抛光；所述研磨抛光所用的研磨液包括氧化铝研磨液和/或SiO2研磨液；所述方法通过将机械加工、机械抛光以及研磨抛光三种工艺相结合，有效降低了铜靶材溅射面的粗糙度，从而缩短预溅射时间，提高生产效率，有利于工业化应用
一种减少铜靶材预溅射时间方法

[发明专利]一种抛光研磨丝的检测装置及检测方法-CN202210029454.6在审
发明人：刘龙 -专利权人：深圳市川菱科技有限公司
申请日： 2022-01-12 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G01N3/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光研磨丝的检测装置及检测方法，其计算各段内相邻两标记点的瞬时输出功率的波动度，得到各段抛光研磨丝的波动度序列，得到各段的波动程度；采集各标记点的进线口速度和出线口速度以及对应的从进线到出线的时间；基于拉伸时间和两端的速度，计算抛光研磨丝的拉伸距离；基于拉伸距离和进线口与出线口的间距，得到每段中各标记点的拉伸率序列，得到各段抛光研磨丝的拉伸效率；根据各段抛光研磨丝的波动程度以及拉伸效率，得到拉伸程度；基于各段抛光研磨丝的拉伸程度，对各段抛光研磨丝进行评价，得到对应的检测结果。即本发明的方案能够对抛光研磨丝的拉伸情况进行检测，得到研磨丝的拉伸结果，利于后续的研磨刷质量情况的评价。
一种抛光研磨检测装置方法

[发明专利]一种晶圆研磨抛光设备-CN202310897223.1有效
发明人：任明元;梁春;刘文平 -专利权人：苏州博宏源机械制造有限公司
申请日： 2023-07-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆研磨抛光设备，涉及晶圆研磨抛光技术领域，包括底座，所述底座的顶部固定连接有连接臂，且连接臂的另一端固定连接有顶架，顶架的底部固定连接有液压缸二，液压缸二的输出端固定连接有升降板。本发明公开的一种晶圆研磨抛光设备具有在通过研磨垫对旋转中的晶圆进行研磨抛光操作时，启动吸附泵和电机一，吸附泵通过环形吸附管上的吸附孔对研磨抛光产生的碎屑进行收集，同时，电机一带动各个粘辊在一定范围内旋转，从而实现碎屑的二次收集，确保研磨垫研磨抛光过程中，不会因碎屑的存在对晶圆造成损伤，继而在确保研磨抛光效果的情况下，保护晶圆的研磨抛光效果。
一种研磨抛光设备

[发明专利]抛光垫-CN201811050090.X在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有多个研磨槽。多个研磨槽包括多个主研磨槽和多个子研磨槽，多个主研磨槽呈网格状分布并界定出呈阵列分布的多个矩形区域，每个矩形区域中分别设有至少一个子研磨槽。据此，本公开提出的抛光垫能够具备较佳的抛光效果，且不会产生毛刺。
抛光