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[发明专利]小尺寸阶梯状轴类零件专用研磨抛光设备、球面研磨抛光方法-CN202011486311.5有效
发明人：于金波;刘鸿君;姜洋;王海龙;谢宁;王宇;朱亚宾;蔡灿 -专利权人：中核（天津）机械有限公司
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： B24B37/025 文献下载
摘要：本发明公开是关于小尺寸阶梯状轴类零件专用研磨抛光设备、球面研磨抛光方法，涉及轴类零件打磨装置领域，该小尺寸阶梯状轴类零件专用研磨抛光设备还包括：工件加紧单元，联动研磨抛光单元。本公开技术方案实现阶梯状轴类零件球面研磨抛光，基于数控自动化技术，实现了工件一次装夹，自动研磨抛光，解决了生产效率低、球面质量和尺寸一致性差的问题。
尺寸阶梯状轴类零件专用研磨抛光设备球面方法

[发明专利]一种化学机械抛光系统及其工作过程-CN201811581768.7有效
发明人：夏文羽;吴科;同小刚;陈智;文静;张传民 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供一种化学机械抛光系统，涉及集成电路生产工艺，包括：研磨液供给装置、研磨液循环装置和研磨机台，所述研磨液循环装置位于连通所述研磨液供给装置与所述研磨机台的研磨液流通管路中，其中当化学机械抛光系统正常工作时，所述研磨液供给装置提供研磨液，研磨液通过所述研磨液流通管路和所述研磨液循环装置供给所述研磨机台以进行化学机械抛光；当化学机械抛光系统发出故障报警后，所述研磨液供给装置停止工作，所述研磨液循环装置供应研磨液给所述研磨机台以进行化学机械抛光
研磨液化学机械抛光系统研磨液供给装置研磨液循环装置研磨机台化学机械抛光流通管路集成电路生产故障报警生产效率成品率晶圆连通

[发明专利]一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置-CN201310393908.9无效
发明人：许亮;付向东;彭关清 -专利权人：宇环数控机床股份有限公司
申请日： 2013-09-03 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： B24B47/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置，包括机架，在机架上设有多个独立的水平布置的上研磨抛光盘单元，各上研磨抛光盘单元分别与旋转驱动系统和升降驱动系统连接。本发明由于采用多个独立的上研磨抛光盘单元，各上研磨抛光盘单元既可做旋转运动，又可做升降运动，可与主研磨盘旋转电机共同运动，实现对蓝宝石等高硬度材料的高精度、高效率的研磨抛光作业。装置中的关节组合件能自动找正被研磨工件与主研磨抛光盘平面。
一种单面研磨抛光机驱动装置

[发明专利]一种SiC单晶片磨抛方法-CN201910001876.0有效
发明人：王瑞;梁庆瑞;王含冠 -专利权人：山东天岳先进科技股份有限公司
申请日： 2019-01-02 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：一种SiC单晶片磨抛方法，包括对SiC切割片依次进行研磨得到预抛光晶片和对预抛光晶片进行抛光得到SiC单晶片的过程，在研磨过程中，所述研磨用水基研磨液通过将初始研磨液对SiC切割片进行预研磨并满足第一条件得到；在抛光过程中，所述抛光用水基抛光液通过将预抛光晶片进行预抛光并满足第二条件后得到。
一种 sic 晶片方法

[发明专利]一种全自动化研磨抛光生产线-CN202211388758.8在审
发明人：许亮;陈永福;彭成辉;彭翌 -专利权人：宇环数控机床股份有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：一种全自动化研磨抛光生产线，其特征在于，包括：输送线，用于输送待加工工件和已加工工件；研磨抛光机，用于对待加工工件进行打磨抛光处理；工业机器人，通过自动化系统和数控系统程序控制，用于吸附并转运待加工工件、已加工工件及研磨抛光机中的游星轮；移动轨道，设于多台研磨抛光机之间，所述工业机器人安装在移动轨道上，并沿移动轨道在多台研磨抛光机之间移动；一次定位工装，用于对研磨抛光机中的游星轮进行粗定位；二次定位工装，用于对研磨抛光机中的游星轮及待加工工件进行精定位。
一种自动化研磨抛光生产线

[发明专利]一种玻璃刮痕修补抛光装置及抛光方法-CN202311067159.0有效
发明人：彭占;王小龙 -专利权人：达州市雅森环保建材有限公司
申请日： 2023-08-23 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B24B7/24 文献下载
摘要：本发明涉及抛光技术领域，且公开了一种玻璃刮痕修补抛光装置及抛光方法，包括基座和安装在基座上的三轴模组，所述基座的顶端设有用于输送玻璃的滚轮输送机，所述三轴模组的Z轴上设有用于对玻璃进行抛光的多头研磨装置和对玻璃喷抛光液的喷洒装置该玻璃刮痕修补抛光装置及抛光方法的多头研磨组件的每个侧面都设有一个不同材质的研磨头，通过电机的驱动可使多头研磨组件旋转，使多头研磨组件的每个侧面均能朝下，使不同材质的研磨头与玻璃接触并进行抛光，通过多组不同材质的研磨头完成玻璃刮痕的修补
一种玻璃刮痕修补抛光装置方法

[实用新型]一种硬质合金工件的研磨抛光装置-CN201920516756.X有效
发明人：王世法 -专利权人：横店集团东磁股份有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： B24B55/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及研磨抛光领域，尤其是涉及一种硬质合金工件的研磨抛光装置。一种硬质合金工件的研磨抛光装置，包括研磨抛光套和接水套，所述的研磨抛光套的下端设置有用于与工件相配合的连接槽，所述的研磨抛光套的上端设置有冷却水腔，所述的冷却水腔的底部设置有隔板，所述的隔板上设置有透水孔，所述的接水套的下端设置有与研磨抛光套的上端外径相配合的连接腔，所述的接水套上连通设置有具有注水通道的注水嘴。本实用新型可以手工把持较长时间，减轻劳动强度、提高抛光效率，提高作业时安全性。
一种硬质合金工件研磨抛光装置

[发明专利]固定研磨粒抛光装置及抛光方法-CN202110873451.6有效
发明人：刘金营 -专利权人：上海积塔半导体有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种固定研磨粒抛光装置及抛光方法。装置包括基垫、抛光垫、抛光液注入装置及夹持结构，抛光垫位于基垫上，抛光液注入装置一端与抛光液源相连接，另一端延伸到抛光垫的上方，夹持结构位于抛光垫上方，用于夹持待抛光的基板，其中，抛光垫包括多个抛光带，多个抛光带并排设置，且相邻的抛光带之间具有间隙，各抛光带上均固定有研磨粒。本发明创造性地将整块的抛光垫改造成相互间具有空隙的多个抛光带，可以将抛光过程中产生的杂质颗粒自该间隙及时排出，避免滞留于抛光垫上划伤基板。同时，由于各抛光带的抛光区域相互独立，可以在一次抛光过程通过选择不同的研磨粒和研磨液实现一种或者多种研磨效果，可以充分满足不同的抛光需求。
固定研磨抛光装置方法

[实用新型]一种裸光纤端面抛光装置-CN201720205792.5有效
发明人：徐成成 -专利权人：福州科思捷光电有限公司
申请日： 2017-03-03 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种裸光纤端面抛光装置，包括设于研磨抛光机中的研磨圆盘夹具，所述研磨圆盘夹具的外圆周上设有均匀设置的、能够固定夹持裸光纤的定位夹板，所述定位夹板中设有并排设置的V型沟槽，每个所述V型沟槽中通过粘接胶固定连接端面待抛光的裸光纤，所述定位夹板上设有一个能够保护所述V型沟槽中待抛光裸光纤的保护盖板，待抛光裸光纤的端面从所述定位夹板中的V型沟槽的端面露出，所述研磨圆盘夹具的圆盘中心设有研磨安装定位块，所述研磨安装定位块中设有能够与研磨抛光机旋转主轴相连的定位轴套；本实用新型一次能够装夹固定几十到几百根裸光纤进行同时研磨，研磨抛光效率高，批量抛光稳定一致，抛光质量好。
一种光纤端面抛光装置

[实用新型]一种螺丝模具研磨抛光加工装置-CN202221749469.1有效
发明人：郭书琴;杨继 -专利权人：东莞市金日五金制品有限公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： B24B19/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及模具技术领域，具体是一种螺丝模具研磨抛光加工装置。包括：底座、研磨抛光机构；所述底座中心固定第一固定座，所述第一固定座可放置模具；所述底座的“T”形口中嵌入第一齿轮，所述第一齿轮与第二齿轮啮合；所述第二齿轮固定在第一电机的旋转轴上；所述第一齿轮的上表面固定所述研磨抛光机构，所述研磨抛光机构中的第三齿轮与所述底座中的齿啮合；所述第三齿轮与丝杆固定，所述第一电机启动时，带动所述研磨抛光机构转动同时所述丝杆旋转带动与其连接的导向块以及间接带动的研磨头和抛光头上下运动，对所述模具进行研磨抛光；其中研磨头和抛光头可在第二电机的启动后进行切换。节约了工人在给模具研磨抛光时更换磨头的时间。
一种螺丝模具研磨抛光加工装置

[发明专利]抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统-CN201310217161.1在审
发明人：姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2013-06-03 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统，修整器包括：研磨颗粒，其形状规则且为多面体；基体，具有研磨面，研磨面的表面粗糙度大小使得研磨面凹凸不平，研磨颗粒固结在研磨面上，至少部分研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内；至少部分研磨颗粒的棱角背向研磨面。通过加大研磨面的表面粗糙度、并选用形状规则且为多面体的研磨颗粒，使得研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内，且凹部内至少部分研磨颗粒的棱角背向研磨面，在对抛光垫进行修整时研磨颗粒的棱角朝向抛光垫，改善了研磨颗粒的切削研磨效果；另外，由于研磨颗粒的形状是规则的，故研磨颗粒的抗断裂强度高，可以大幅减少硅片因金刚石研磨颗粒破碎而被划伤的情形发生。
抛光修整及其制造方法装置系统

[实用新型]自动研磨、抛光及检测设备-CN202020897882.7有效
发明人：郑俊;陈天虎;姚泽鑫;蓝世玉;蔡丹纯 -专利权人：东莞高伟光学电子有限公司
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开一种自动研磨、抛光及检测设备，包括有机架、研磨台、抛光台、检测装置、样照采集装置、水平活动架、水平驱动机构、竖向活动架、竖向驱动机构以及夹持盘；该研磨台可旋转地设置于机架上，研磨台由第一驱动机构带动旋转；该抛光台可旋转地设置于机架上，抛光台由第二驱动机构带动旋转；通过采用本设备，可以实现自动研磨和抛光、自动测量和自动形貌照片采集，首先可以提高数倍研磨和抛光的效率，使用本设备的夹持盘可以同时研磨或者抛光多个产品，并且机械化自动化作业，可以减少人工成本和降低研磨作业中的不良品。
自动研磨抛光检测设备

[实用新型]一种光学镜片研磨抛光机床-CN202122870468.4有效
发明人：洪伟;陈平生;吴海龙 -专利权人：四川晶美光电科技有限公司
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本申请涉及抛光机床的技术领域，尤其是涉及一种光学镜片研磨抛光机床，光学镜片研磨抛光机床包括机床，所述机床上设置有研磨部，所述研磨部上转动设置有研磨头，所述研磨部上设置有喷头，所述喷头朝向研磨头设置，所述研磨部上设置有用于阻挡抛光液飞溅的挡水罩，所述机床的底部设置有用于收集抛光液的收集盒，所述收集盒上设置有用于驱使喷头喷出抛光液的驱动件，所述机床上开设有用于放置治具的放置槽，所述放置槽的底壁上开设有用于与收集盒连通的连通口。本申请具有减少抛光液的飞溅的效果。
一种光学镜片研磨抛光机床

[发明专利]一种晶圆片的研磨抛光方法以及相应的晶圆片-CN201811303290.1有效
发明人：熊帅;王广阳;熊永华;岳爱文 -专利权人：武汉电信器件有限公司
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆片的研磨抛光方法以及相应的晶圆片，该晶圆片的研磨抛光方法包括根据晶圆片的硬度，配置与所述晶圆片相匹配的研磨液；采用所述研磨液对所述晶圆片进行研磨；采用化学方式对研磨后的晶圆片进行抛光，以释放由于研磨操作产生的应力；对抛光后的晶圆片进行清洁处理，得到研磨抛光后的晶圆片。本发明依据晶圆片的硬度配置合适的研磨液，以保证研磨的去除率，达到晶圆片减薄的效果，同时，采用化学方式对晶圆片进行抛光，释放研磨过程中产生的应力，保证晶圆片的平整度，并有效避免了晶圆片裂片情况的发生。
一种晶圆片研磨抛光方法以及相应

[实用新型]研磨机-CN201120464192.3有效
发明人：胡杰;曹锡明;黄云飞 -专利权人：南通瑞尔实业有限公司
申请日： 2011-11-21 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种研磨机，包括研磨机构、与所述研磨机构相连的传动机构，所述传动机构下面连有驱动机构，所述研磨机构包括上抛光片和下抛光片，所述上抛光片下面套有上研磨盘，所述下抛光片上面套有下研磨盘，所述上研磨盘和下研磨盘上均刻有印痕，所述上研磨盘和下研磨盘上的印痕均组成方格，所述传动机构包括支撑所述下抛光片的支撑轴和安装在所述支撑轴周围且与所述驱动机构相连的运行装置。本实用新型研磨机使用寿命长、工作效率高、抛光精确度高。
研磨机