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[实用新型]联动式流体抛光机-CN202121388454.2有效
发明人：郗迎春;王建飞 -专利权人：苏州益满鑫自动化科技有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种联动式流体抛光机，包括模架、工作台、合模装置和挤料研磨装置，所述合模装置安装于所述模架，待抛光的工件通过工装安装于工作台和合模装置之间，通过挤料研磨装置将磨料挤料至工作台处对工件进行抛光；挤料研磨装置包括主出料管道、收料器和多组挤料研磨机构，掉落至收料器的磨料进入挤料研磨机构并通过主出料管道被输送至工作台处对工件进行连续抛光；抛光机还包括控制系统，合模装置和挤料研磨机构分别与控制系统电连接本实用新型通过多组挤料研磨机构的交替往复运动，能够对待抛光的工件进行连续抛光，避免因磨料不能持续到达工作台而造成的抛光中断，提高抛光效率，保证产品的表面光洁度。
联动流体抛光机

[发明专利]一种研磨抛光装置及其使用方法-CN202210622018.X在审
发明人：黄鹤;汪冬;胡晶晶 -专利权人：浙江鑫豪机械有限公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： B24B5/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种研磨抛光装置及其使用方法，属于工件抛光技术领域，可以实现创新性的引入内抛光芯和外套环，依靠各自内部的磁吸块建立磁吸连接，从而将研磨抛光中的加工动作同步起来，同时利用磁吸块和预压杆对各自内侧的抛光环进行预压作用，便于抛光环与待抛光管道的内外壁进行更好的贴合接触，在进行研磨抛光时，可以获得更好的抛光效果，与现有技术相比，本发明利用磁吸作用不仅可以同步对待抛光管道的内外壁进行研磨抛光，极大的提升抛光效率，同时还可以利用磁吸作用对抛光环进行预压，始终保持对待抛光管道表面的贴合效果，进而明显改善抛光质量。
一种研磨抛光装置及其使用方法

[发明专利]抛光装置及抛光方法-CN200410026707.6无效
发明人：翁维襄 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2004-03-27 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： B24B13/06 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光装置及抛光方法，该抛光装置包括容槽、夹具、电控装置、驱动装置及抛光头，其特征在于：该容槽的内部表面为导体并接有导线；该夹具固设于容槽的内部；该驱动装置受控于该电控装置；该抛光头由驱动装置所驱动且可通过该电控装置而具有一个电势；其中该容槽的内部表面与该抛光头间可形成一个电场，且该容槽内部表面的电势高于抛光头的电势，该容槽内容置有研磨浆料，该研磨浆料中含有研磨粉粒，且该研磨粉粒于所述电场内可产生电泳，该抛光头于驱动装置的带动下相较现有的抛光装置及抛光方法，本发明的抛光装置及抛光方法易散热、机械力小、效率高且研磨精度高。
抛光装置方法

[发明专利]一种抛光工艺-CN201710123586.4在审
发明人：刘小龙 -专利权人：中山市科旗金属表面处理设备有限公司
申请日： 2017-03-03 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光工艺，适用于抛光粉末冶金制品。本发明采用离心研磨抛光设备、涡流研磨抛光设备、核桃壳研磨抛光设备、等离子抛光机等核心设备，并配合使用陶瓷圆球石、高频陶瓷长条石、核桃壳颗粒等研磨材料和等离子抛光机所使用的硫酸铵溶液，以将粉末冶金制品进行抛光本发明利用设备组合使用的加工方式替代传统的手工抛光工艺，这样的抛光工艺大幅地减少了人工，能够提高加工效率，降低加工成本，还能避免加工过程中所产生的碎屑飞扬而危害人的健康。
一种抛光工艺

[发明专利]单向阀的宝石阀座密封槽的研磨抛光方法-CN202210607378.2在审
发明人：向久林;陈锋 -专利权人：重庆川仪自动化股份有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：一种单向阀的宝石阀座密封槽的研磨抛光方法，通过对坯料进行打孔、扩孔、磨外圆、磨平加工，再在孔口加工出大油槽和小油槽，端面抛光之后得到宝石阀座坯件；其特征在于：按如下步骤对宝石阀座坯件进行密封槽加工，将宝石阀座坯件固定在研磨机下主轴的弹簧夹头上，将一固定有研磨钢球的工装安装在研磨机的上主轴下端，使研磨钢球的中心与宝石阀座坯件的中轴线处于同一轴线上，通过研磨钢球在宝石阀座坯件的孔口研磨出密封槽，取下固定有研磨钢球的工装，将一固定有抛光钢球的工装安装在研磨机的上主轴下端，使抛光钢球的中心与宝石阀座坯件的中轴线处于同一轴线上，通过抛光钢球对宝石阀座坯件的密封槽进行抛光，得到密封槽抛光后的宝石阀座。
单向阀宝石密封研磨抛光方法

[实用新型]一种设有辅助定向拆装结构的研磨抛光盘-CN202222668571.5有效
发明人：薛文甫 -专利权人：玖研科技（上海）有限公司
申请日： 2022-10-11 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： B24B45/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种设有辅助定向拆装结构的研磨抛光盘，涉及研磨抛光盘技术领域，具体为一种设有辅助定向拆装结构的研磨抛光盘，包括底盘，所述底盘的中间设有空槽，所述空槽的内部设有稳定结构，所述稳定结构的上方设有传动轴本实用新型设置有稳定结构，设置的稳定结构可以在研磨抛光盘抛光时底部装置更平稳，所述托盘的内部设有空腔，所述空腔的上方设有保护壳，设置的保护壳可以在研磨抛光盘抛光时防止灰尘进入装置，所述连接块的上方设有若干个限位柱，设置的限位柱穿过托盘和连接孔通过螺栓固定在轴承座上，轴承座带动研磨抛光盘转动进行抛光。
一种设有辅助定向拆装结构研磨抛光

[发明专利]一种晶圆机械化学研磨方法-CN202310321883.5在审
发明人：姚力军;惠宏业;沈有飞;左威;赵梓聿;柏钧天 -专利权人：上海润平电子材料有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆机械化学研磨方法，所述晶圆机械化学研磨方法包括：将抛光头的底板和抛光机台转动轴进行组装，之后和晶圆配合进行研磨；所述研磨包括依次进行的第一研磨和第二研磨；所述第一研磨的时间＞所述第二研磨的时间；所述第一研磨中对研磨垫施加的压力＜第二研磨对研磨垫施加的压力；所用抛光头包括底板、背胶、顶板和支撑垫；底板与顶板通过背胶进行连接；支撑垫与背胶连接，设置于顶板的环形结构的空心结构内；顶板的厚度＞支撑垫的厚度以解决抛光头在机械化学研磨后所得晶圆平面度较低的缺陷，及抛光头进行装配时装配难度高的问题。
一种机械化学研磨方法

[发明专利]化学机械研磨的研磨修整装置-CN200610108221.6无效
发明人：庄志豪;邱丞伟;庄千莹 -专利权人：力晶半导体股份有限公司
申请日： 2006-08-01 - 公布日： 2008-02-06 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种应用于化学机械研磨的研磨修整装置，包括固定环(Retaining Ring)，用以嵌固晶片，以在抛光垫上进行化学机械研磨；和多个修整器(Dresser)，设置在该固定环底面周围，用以进行该晶片抛光时，同时修整该抛光垫，以维持该抛光垫良好的抛光效率。
化学机械研磨修整装置

[实用新型]一种研磨盘-CN201821625356.4有效
发明人：贺勇;邓有财;林旭明 -专利权人：厦门三安光电有限公司
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型公开一种研磨盘，研磨盘的环形表面上设研磨沟槽，沟槽的槽壁与沟槽的中心线的夹角是0~5°，本实用新型的研磨盘与研磨抛光液配合，可用于对晶片进行研磨或者抛光，具有寿命长、移除率高且避免晶片研磨抛光过程中深刮等优点
研磨盘研磨本实用新型环形表面晶片研磨抛光过程抛光液抛光槽壁晶片可用移除配合

[发明专利]化学机械抛光的方法-CN201310716928.5在审
发明人：蒋莉 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2015-06-24 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光的方法。所述方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底上形成有待抛光的金属层；以及使用研磨浆料对所述金属层执行化学机械抛光，其中所述研磨浆料包括研磨颗粒和氧化剂，施加的压力大于10psi，且研磨转速大于150rpm根据本发明的化学机械抛光的方法能够获得好的抛光表面质量的同时获得高的抛光速率。
化学机械抛光方法

[发明专利]抛光浆料-CN200510025299.7无效
发明人：俞昌;肖正龙;杨春晓 -专利权人：安集微电子（上海）有限公司
申请日： 2005-04-21 - 公布日： 2006-11-01 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光浆料，该抛光浆料包含的研磨颗粒的质量浓度为0.1－2％，该研磨颗粒的平均粒径为1－50nm。本发明的抛光浆料可用于抛光金属及介电薄膜。该抛光浆料中的研磨颗粒在低浓度和小尺寸粒径时，仍可以保持较高的研磨速率，被抛光金属或薄膜表面无腐蚀、缺陷率低、平整度高，同时也增大了制程参数工艺窗口，并可大大降低成本。
抛光浆料

[实用新型]一种抛光布-CN02255538.2无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2002-11-25 - 公布日： 2003-10-08 - 主分类号： B24B11/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于电视机荧光屏及玻璃深加工的抛光布，它是呈环状的圆盘，其特殊之处在于它具有一层海绵橡胶层(1)，在海绵橡胶层(1)上复合一层聚氨酯抛光研磨层(2)，在聚氨酯抛光研磨层(2)上均匀设置沟槽其聚氨酯抛光研磨层耐磨，使用寿命长，其上设置沟槽可放置抛光粉料浆，抛光研磨效果好。
一种抛光

[实用新型]一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座-CN201420262140.1有效
发明人：刘南柳;陈蛟;张国义 -专利权人：东莞市中镓半导体科技有限公司
申请日： 2014-05-21 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： B24B37/27 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座。所述一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座，利用各孔都可独立调控压力的多孔气垫式充气底座，通过调节充气底座的上表面轮廓，使其与待研磨样品的下表面各处均形成紧密接触，或者采用热固性材料支撑底座填充，以大幅减小厚度分布不匀、表面不平整的晶圆样品在研磨抛光时的受力不均匀性，从而避免在研磨抛光中局域受力过大导致样品碎裂，提高研磨抛光产品良率，提高生产效率、节省成本。本实用新型可应用于各种规格的晶圆样品的研磨抛光，其操作简单，适用性强。
一种用于晶圆片研磨抛光支撑底座

[发明专利]一种用于眼镜片研磨抛光的加工流水线设备-CN202210363744.4有效
发明人：王风华;张锐;田水红;叶全标 -专利权人：温州市瓯海眼镜有限公司
申请日： 2022-04-08 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B24B13/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于眼镜片研磨抛光的加工流水线设备，包括镜片粗料、传送带、研磨机、打标机以及抛光机，所述传送带依次穿过研磨机、打标机以及抛光机；所述研磨机、打标机以及抛光机均设有用于移动镜片粗料的机械手，所述研磨机内设有研磨液桶以及研磨头，所述研磨液桶内设有芯轴，该芯轴自顶至底依次连接设有螺旋叶片以及搅拌柱；研磨头连接设有液压伸缩转轴，所述芯轴以及液压伸缩转轴之间设有传动机构；实现了传送带运送镜片依次完成研磨、打标以及抛光，研磨机内液压伸缩转轴传动芯轴，根据研磨头转速自动调整芯轴转速，使研磨液的生成以及出液速度与研磨头的转速相匹，控制研磨液的浪费，提高研磨质量的同时避免温度过高。
一种用于眼镜片研磨抛光加工流水线设备

[实用新型]一种芯片夹具抛光研磨装置-CN201821889072.6有效
发明人：何伟炜;杨明;印文健 -专利权人：众瑞速联（武汉）科技有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了芯片抛光设备技术领域的一种芯片夹具抛光研磨装置，包括42度研磨盘和研磨外盘，所述研磨外盘置于42度研磨盘外侧，所述42度研磨盘内部设有通孔，通孔中安装有研磨配重支撑柱，所述研磨配重支撑柱外侧壁焊接固定有连接座，所述42度研磨盘顶部通过螺栓与研磨配重支撑柱外侧壁的连接座连接，所述研磨配重支撑柱四周通过螺栓安装有垫高支撑。该芯片夹具抛光研磨装置的设置，结构设计合理，在研磨外盘上部设有42度研磨盘，完成平面波导光栅全反射角42度的抛光研磨，使该芯片的端面实现光的全反射功能，一个夹具能够同时完成100颗芯片的抛光研磨，在保证产品功能的同时
研磨抛光研磨研磨盘支撑柱配重芯片夹具外盘芯片连接座外侧壁通孔平面波导光栅夹具本实用新型全反射功能螺栓产品功能焊接固定螺栓安装抛光设备全反射角生产效率垫高支撑保证