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[发明专利]一种抛光工件轴抛光压力自动补偿机构及抛光设备-CN201910923571.5在审
发明人：吕理营 -专利权人：东莞市尚弘博实业有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：本发明中提供了一种抛光工件轴抛光压力自动补偿机构及抛光设备，抛光工件轴抛光压力自动补偿机构包括用于承载待抛光工件的工件轴组件；用于驱动所述工件轴组件沿相对抛光轮移动的补偿驱动组件；以及用于控制工件轴驱动组件和补偿驱动组件的控制组件；工件轴组件设置有通讯连接控制组件的，且用于检测抛光压力的压力传感器。通过在Z轴补偿机构上设置压力传感器，进而获取工件的实时抛光压力，为实时调节工件的抛光压力提供了有效的保障；通过设置驱动补偿驱动组件，进而有效的降低了抛光工件轴抛光压力自动补偿机构的机构复杂性，降低了抛光设备的制造成本，提升了工件抛光压力调节的灵活性和稳定性。
抛光压力抛光工件工件轴补偿驱动组件自动补偿机构压力传感器控制组件抛光设备补偿机构工件抛光驱动组件实时调节通讯连接压力调节制造成本组件设置驱动抛光轮承载检测移动

[实用新型]一种抛光工件轴抛光压力自动补偿机构及抛光设备-CN201921636056.0有效
发明人：吕理营 -专利权人：东莞市尚弘博实业有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：本实用新型中提供了一种抛光工件轴抛光压力自动补偿机构及抛光设备，抛光工件轴抛光压力自动补偿机构包括用于承载待抛光工件的工件轴组件；用于驱动所述工件轴组件沿相对抛光轮移动的补偿驱动组件；以及用于控制工件轴驱动组件和补偿驱动组件的控制组件；工件轴组件设置有通讯连接控制组件的，且用于检测抛光压力的压力传感器。通过在Z轴补偿机构上设置压力传感器，进而获取工件的实时抛光压力，为实时调节工件的抛光压力提供了有效的保障；通过设置驱动补偿驱动组件，进而有效的降低了抛光工件轴抛光压力自动补偿机构的机构复杂性，降低了抛光设备的制造成本，提升了工件抛光压力调节的灵活性和稳定性。
一种抛光工件压力自动补偿机构设备

[发明专利]一种内孔浮动抛光治具-CN202010875971.6在审
发明人：温小华;陈龙;谭科 -专利权人：广东日信高精密科技有限公司
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种内孔浮动抛光治具，包括楔形棒、支撑套、抛光块、浮动支撑装置和抛光压力调节装置，所述抛光块通过浮动支撑装置安装在支撑套的外表面，所述楔形棒可插入到支撑套内，且所述楔形棒可在支撑套内做相对移动，所述抛光压力调节装置设置在楔形棒的一端，所述抛光压力调节装置可驱动楔形棒在支撑套内做相对移动来调节抛光块对内孔的抛光压力。本发明可以非常方便的调节抛光压力，从而在对内孔的待抛光面进行打磨的时候，可以调节一个合适的抛光压力对内孔进行打磨。
一种浮动抛光

[实用新型]一种内孔浮动抛光治具-CN202021821577.6有效
发明人：陈龙;温小华;谭科 -专利权人：广东日信高精密科技有限公司
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种内孔浮动抛光治具，包括楔形棒、支撑套、抛光块、浮动支撑装置和抛光压力调节装置，所述抛光块通过浮动支撑装置安装在支撑套的外表面，所述楔形棒可插入到支撑套内，且所述楔形棒可在支撑套内做相对移动，所述抛光压力调节装置设置在楔形棒的一端，所述抛光压力调节装置可驱动楔形棒在支撑套内做相对移动来调节抛光块对内孔的抛光压力。本实用新型可以非常方便的调节抛光压力，从而在对内孔的待抛光面进行打磨的时候，可以调节一个合适的抛光压力对内孔进行打磨。
一种浮动抛光

[发明专利]晶圆抛光的抛光压力控制方法、装置和设备-CN201910500512.7有效
发明人：刘明源;朱春雷;姜波 -专利权人：英特尔半导体（大连）有限公司;英特尔公司
申请日： 2019-06-11 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于晶圆抛光设备的抛光压力控制方法、装置和设备。所述晶圆抛光设备包括多区加压方式的抛光头以对晶圆的表面进行抛光，其中，所述抛光头将所述晶圆的受压表面划分为多个受压区域并能够独立地对各个受压区域的抛光压力进行控制。所述方法包括：测量所述多个受压区域中每个受压区域的翘曲度；根据所述每个受压区域的翘曲度来调整所述抛光头对所述每个受压区域的抛光压力，并以调整后的抛光压力对所述晶圆进行抛光处理。采样本发明的抛光压力控制方法，使得抛光后的晶圆表面更加平坦。
抛光压力控制方法装置设备

[发明专利]一种宏微复合恒压抛光装置及方法-CN202010145038.3有效
发明人：朱相优;张嘉荣;邓建南;卓少木 -专利权人：广州精点科技有限公司;广东工业大学
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种宏微复合恒压抛光装置及方法，该方法包括以下步骤：利用杠杆结构、杠杆两端的配重以及杠杆的力臂变化调节抛光压力大小；抛光设备对旋转对称非球面模仁表面进行抛光加工时，利用左右移动轴和旋转摆动轴控制抛光位置，利用空间上的升降伺服轴控制模仁抛光点在空间上竖直方向上的位置不变，结合杠杆原理从宏观上保证抛光压力的稳定；抛光头上安装有压力传感器和电磁力装置，根据抛光压力变化控制电磁力装置从微观上调整补偿抛光压力的变化，闭环控制保证抛光过程的恒压。本发明通过宏微复合的方法控制抛光压力的恒定，具有更高的控制精度。
一种复合抛光装置方法

[实用新型]一种化学机械抛光机的抛光压力分区控制装置-CN201922203051.5有效
发明人：赵惠英;曹明琛;赵怀友;张成瑞;鲁斌;赵家宁;刘孟奇;赵凌宇;包荣振;杨凯;白金峰 -专利权人：北京微纳精密机械有限公司
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： B24B51/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光机的抛光压力分区控制装置，包括工件轴、工件盘、工件保持器，被抛光元件的下端面与抛光盘上端面接触，工件盘上设有抛光压力分区控制机构，抛光压力分区控制机构包括若干个竖直固定在工件盘内的气压缸、固定在气压缸的顶杆末端的压力传感器，压力传感器与被抛光元件的上端面接触，工件轴上轴向由上至下安装有分路器和多通道旋转接头，分路器的进口通过气管与可变起源的相连。与现有技术相比，本实用新型通过压力传感器实时采集抛光压力，再通过分散布置的气压缸对抛光压力进行分区控制，最终实现抛光压力的在线实时控制和分区控制，保证了元件的均匀去除和面形快速收敛，实现更高的加工精度。
一种化学机械抛光机抛光压力分区控制装置

[发明专利]一种抛光压力反馈补偿结构及抛光机-CN202010838517.3有效
发明人：刘小平;凌建军;魏熙阳;郭克文;文斌 -专利权人：湖南宇环精密制造有限公司
申请日： 2020-08-19 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光压力反馈补偿结构及抛光机，抛光压力反馈补偿结构包括控制器、用于驱动旋转工件轴组件沿抛光机的Y轴方向移动的滑移驱动机构以及用于对工件所受到的抛光压力进行实时监测的压力传感器，工件设置在旋转工件轴组件上，压力传感器和滑移驱动机构均与控制器相连接，滑移驱动机构与旋转工件轴组件相连接。该抛光压力反馈补偿结构及抛光机能够对抛光工件压力进行实时监测反馈，并对抛光工件的压力进行补偿，实现抛光工件压力精准恒定，提高抛光效率和工件质量。
一种抛光压力反馈补偿结构抛光机

[发明专利]一种自转轮式末端抛光装置-CN202010238713.7在审
发明人：姚永胜;丁蛟腾;沈乐;赵蒙;马臻;范学武 -专利权人：中国科学院西安光学精密机械研究所
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种自转轮式末端抛光装置，解决现有抛光装置易出现打滑；及抛光压力控制精度较低、对机床运行精度要求较高的问题。该装置包括法兰盘、力控单元、机架、电机、抛光轮、主传动轮及从传动轮，力控单元控制抛光压力，电机带动抛光轮旋转，实现光学元件材料去除。力控单元为输出端上下浮动式结构，不仅降低对运动执行机构的运动精度要求，还可实现高精度抛光压力控制。该抛光装置抛光压力控制精度高，去除函数稳定；去除函数接近高斯形，面形误差收敛快。
一种自转轮式末端抛光装置

[实用新型]一种自转轮式末端抛光装置-CN202020432969.7有效
发明人：姚永胜;丁蛟腾;沈乐;赵蒙;马臻;范学武 -专利权人：中国科学院西安光学精密机械研究所
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种自转轮式末端抛光装置，解决现有抛光装置易出现打滑；及抛光压力控制精度较低、对机床运行精度要求较高的问题。该装置包括法兰盘、力控单元、机架、电机、抛光轮、主传动轮及从传动轮，力控单元控制抛光压力，电机带动抛光轮旋转，实现光学元件材料去除。力控单元为输出端上下浮动式结构，不仅降低对运动执行机构的运动精度要求，还可实现高精度抛光压力控制。该抛光装置抛光压力控制精度高，去除函数稳定；去除函数接近高斯形，面形误差收敛快。
一种自转轮式末端抛光装置

[发明专利]一种可调节抛光压力的抛光机床-CN202310340155.9在审
发明人：罗强;黄大路;罗永念 -专利权人：东莞市春草研磨科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种可调节抛光压力的抛光机床，包括底座，所述底座上设有移动装置，所述移动装置上设有调节装置，所述调节装置上设有抛光盘，所述调节装置上设有检测装置，所述移动装置和检测装置均与控制器电连接；通过移动装置带动调节装置移动使得抛光盘接触待抛光物件，检测调节抛光盘与待抛光物件之间的压力，使得压力达到最佳值，避免抛光压力过大导致抛光过度；同时通过检测装置实时检测抛光时的压力，控制器通过移动装置带动调节装置进行距离补偿，从而调节抛光压力，达到压力平衡
一种调节抛光压力机床

[发明专利]抛光设备的抛光压力控制方法、装置和抛光设备-CN201710776053.6有效
发明人：张敬业;路新春;沈攀;王同庆 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2017-08-31 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光设备的抛光压力控制方法、装置和抛光设备，该方法包括以下步骤：对抛光设备所加工的晶圆的多个施压区域分别施加对应的抛光压力以进行抛光处理；获取多个施压区域中每个施压区域的抛光厚度，并获取抛光时间；根据每个施压区域的抛光厚度和抛光时间计算每个施压区域的去除速率；在抛光预设数量的晶圆后，根据获取的每个施压区域的预设数量的去除速率计算每个施压区域的平均去除速率；根据每个施压区域的平均去除速率对每个施压区域的抛光压力进行调整根据本发明的抛光设备的抛光压力控制方法，可以延长抛光垫的使用周期、提高抛光设备的使用效率、降低生产成本、提高晶圆的良品率，且简单有效、稳定性高。
施压抛光设备抛光压力抛光去除晶圆预设抛光处理时间计算使用效率使用周期速率计算良品率抛光垫施加加工

[发明专利]抛光装置及抛光装置的使用方法-CN202011494220.6有效
发明人：董志刚 -专利权人：江苏集萃精凯高端装备技术有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种抛光装置，所述抛光装置包括球面轴承、与所述球面轴承连接以驱动所述球面轴承的加载杆、用以驱动所述加载杆移动的第一驱动组件、设置在所述球面轴承下方的吸盘、设置在所述吸盘下方的工作台、用以检测所述吸盘与所述工作台之间的抛光压力的压力检测装置本发明的抛光装置，通过设置压力检测装置，从而可以检测抛光压力，从而方便及时对抛光压力做出调整，保证抛光压力在合理范围内。
抛光装置使用方法

[发明专利]一种可调节抛光压力的抛光机床-CN202210591603.8在审
发明人：王锋舟 -专利权人：王锋舟
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种可调节抛光压力的抛光机床，本发明涉及抛光机床技术领域，一种可调节抛光压力的抛光机床，包括机床面板，所述机床面板的底部固定连接有支撑底座，所述机床面板上表面的中间处固定连接有稳固器，所述机床面板的上表面固定连接有收集罩该可调节抛光压力的抛光机床，通过启动电机带动转轴旋转产生离心作用，带动羊毛抛光层对待抛光工件进行打磨，当转轴逐渐降低转动速度时，弹性管逐渐向内回缩，达到持续减小待抛光工件表面抛光压力的效果，避免抛光力度过重导致工件磨损过度的问题
一种调节抛光压力机床

[发明专利]一种光学自由曲面的抛光装置及方法-CN201810234761.1有效
发明人：郭江;康仁科;郭东明 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2018-03-21 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种光学自由曲面的抛光装置及方法属于光学制造领域，该振动抛光装置包括振动抛光头、控制系统、PC机、五轴数控平台、抛光压力控制机构。控制系统、PC机分别位于可移动工作台上下方，控制系统中的驱动器与振动抛光头连接，数控系统与五轴数控平台通信，控制器与抛光压力控制机构连接；PC机与控制系统连接，对抛光参数设定后传至控制系统，控制整个抛光装置；抛光压力控制机构中的微位移驱动器件与抛光头连接。本发明采用振动辅助抛光方式，针对连续表面如轴对称和离轴非球面，可以同时实现对抛光头振动方式、抛光轨迹以及抛光压力的实时精确控制，能够达到亚微米级面形精度和亚纳米级表面粗糙度，抛光装置具有系统集成、体积小
一种光学自由曲面抛光装置方法

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