专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电子级六硅烷萃取提纯的方法及萃取精馏系统-CN201810182085.8有效
  • 李金金 - 李金金
  • 2018-03-06 - 2021-05-07 - C01B33/107
  • 本发明公开了电子级六硅烷萃取提纯的方法及萃取精馏系统,所述提纯获取电子级六硅烷包括3N、4N、5N级,通过低密度萃取剂A和高密度萃取剂B进行萃取以及精馏提纯,具体经过脱去六硅烷中低沸点杂质、脱去六硅烷中低密度杂质、脱去六硅烷中萃取剂A杂质、脱去六硅烷中高沸点杂质、脱去六硅烷中高密度杂质、脱去六硅烷中萃取剂B杂质、产出电子级六硅烷步骤,并对萃取剂进行精馏回收获取萃取剂A和萃取剂B;与常规精馏吸附过程相比,本发明的萃取精馏方法提纯能耗小,提纯成本大约仅为传统精馏方法成本的12%~25%,消耗相同能耗生产出的产品质量品级高,提纯过程中损失更小,提纯六硅烷产品收率更高
  • 电子级六氯乙硅烷萃取提纯方法精馏系统
  • [发明专利]半导体装置的形成方法-CN201910921640.9在审
  • 林资敬;林建智;朱峯庆;吴卓斌 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-09-27 - 2020-04-03 - H01L21/336
  • 在一实施例中,方法包括:形成第一栅极堆叠与第二栅极堆叠于鳍状物上;蚀刻鳍状物以形成凹陷于第一栅极堆叠与第二栅极堆叠之间的鳍状物中;以及形成外延的源极/漏极区于凹陷中,包括:配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢于凹陷中,以成长第一层衬垫凹陷的侧部与底部,以及在成长第一层之后,配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢于凹陷中,以成长第二层于第一层上,其中成长第一层时以第一流速配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢的每一者,而成长第二层时以第二流速配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢的每一者。
  • 半导体装置形成方法
  • [发明专利]一种硅烷水解的方法-CN201110149586.4无效
  • 夏烈文;龚韬 - 乐山市立胜科技有限责任公司
  • 2011-06-04 - 2012-01-18 - C01B33/12
  • 一种硅烷水解的方法,工艺步骤如下:(1)乳化剂质量∶水的质量=0.005~0.2∶1,水的体积∶与水不相溶的溶剂的体积=0.05~0.9∶1,将乳化剂、水、与水不相溶的溶剂混合均匀,即形成乳状液;(2)硅烷体积∶与水不相溶的溶剂的体积=1~25∶1,将硅烷、与水不相溶的溶剂相混合,即形成硅烷溶液;(3)以步骤(1)配制的乳状液和步骤(2)配制的硅烷溶液为原料,所述乳状液与硅烷溶液的配比为乳状液中水的摩尔数∶硅烷溶液中硅烷的摩尔数=1∶0.2~2,将所述乳状液与硅烷溶液相混合,反应1分钟~120分钟,即生成含水量小于60wt%的二氧化硅/硅酸粉粒和氯化氢气体。
  • 一种硅烷水解方法
  • [实用新型]一种二甲基二硅烷的提纯系统-CN201620410388.7有效
  • 曹华俊;方红承;谭军;彭金鑫;聂长虹;贾勇;赵晓辉;欧阳玉霞 - 合盛硅业股份有限公司
  • 2016-05-06 - 2016-10-19 - C07F7/12
  • 本实用新型公开了一种二甲基二硅烷的提纯系统,包括:脱低塔,底端出料口连通脱高下塔的进料口,用于除去二甲基二硅烷粗品中的低沸物;脱高下塔,顶端出料口连通固定床反应器的进料口,用于除去二甲基二硅烷粗品中的高沸物;固定床反应器,出料口连接脱高上塔的进料口,用于与氯化氢反应,将二甲基二硅烷粗品中残余的含氢硅烷转化成相应的硅烷;脱高上塔,用于除去所述的硅烷。直接法生产获得的二甲基二硅烷粗品经脱低塔和脱高下塔先除去低沸物和高沸物,再在固定床反应器中将粗品中的含氢硅烷与氯化氢反应转变成相应的硅烷,然后在脱高上塔中除去硅烷,从而获得高纯度的二甲基二硅烷
  • 一种甲基硅烷提纯系统

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