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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]用于分配UV被处理材料的系统-CN201720877783.0有效
发明人：廖翊韬;卧龙宝;D·柯林斯 -专利权人：紫岳科技有限公司
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：用于分配UV被处理材料的系统包括用于处理输入的材料的材料处理部，其中所述材料处理部包括具有侧壁的处理区域、输入部、一个或多个UV‑LED以及输出部，其中所述侧壁配置为反射UV光，其中输入部用于接收输入的材料，其中一个或多个UV‑LED用于向在所述处理区域中的输入的材料提供在UV‑B和/或UV‑C频率范围内的UV‑B和/或UV‑C照射，其中在材料处理部中的输入的材料以响应于UV‑B和/或UV‑C照射而被处理，并且其中所述输出部用于提供所述被处理的材料的输出。
材料处理部被处理材料处理区域侧壁输出照射材料提供接收输入分配反射响应配置

[实用新型]用于分配UV被处理材料的系统-CN201620679183.9有效
发明人：廖翊韬;卧龙宝;D·柯林斯 -专利权人：紫岳科技有限公司
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2017-08-11 - 主分类号： A61L2/10 文献下载
摘要：用于提供被处理的材料设备包括用于处理输入的材料的材料处理部，其中所述材料处理部包括具有侧壁的处理区域、输入部、一个或多个UV‑LED以及输出部，其中所述侧壁配置为反射UV光，其中输入部用于接收输入的材料，其中一个或多个UV‑LED用于向在所述处理区域中的输入的材料提供在UV‑B和/或UV‑C频率范围内的UV‑B和/或UV‑C照射，其中在材料处理部中的输入的材料以响应于UV‑B和/或UV‑C照射而被处理，并且其中所述输出部用于提供所述被处理的材料的输出。
用于分配 uv 处理材料系统

[发明专利]层叠铁心制造装置及层叠铁心制造方法-CN201680050466.X有效
发明人：上坂正宪;千田邦浩;尾田善彦;神谷佳秀;盐入康仁 -专利权人：杰富意钢铁株式会社
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： B21D28/02 文献下载
摘要：本发明的一形态的层叠铁心制造装置具备将多个层叠铁心材料重叠的重叠部、材料缘部整理部、上浮防止部、缘部位置修正部、冲裁加工部。材料缘部整理部将多个层叠铁心材料的缘部位置在各层叠铁心材料之间对齐。上浮防止部防止利用材料缘部整理部将缘部位置对齐的多个层叠铁心材料的上浮。缘部位置修正部修正多个层叠铁心材料的缘部位置。冲裁加工部对于利用重叠部重叠后的多个层叠铁心材料且进行如下处理的多个层叠铁心材料，进行冲裁而得到冲裁体，所述处理为由材料缘部整理部进行的处理、由上浮防止部进行的处理、及由缘部位置修正部进行的处理。
缘部层叠铁心上浮防止部位置修正部冲裁加工重叠部冲裁位置对齐制造装置对齐上浮修正

[发明专利]有机材料除去装置-CN201680083165.7在审
发明人：春日圭一;川澄辛一;小林和仁 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2016-03-08 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C08J11/16 文献下载
摘要：有机材料除去装置具有：容器，其收纳包含无机材料和通过处理液分解的有机材料的复合材料；处理槽，其具有容纳上述容器的容纳部、使上述处理液流入的处理液流入部、以及使上述处理液流出的处理液流出部；温度管理机构，其加热或冷却上述处理液；以及处理液循环机构，其使上述处理液从上述处理液流入部流入上述处理槽内，且使上述处理槽内的上述处理液从上述处理液流出部流出。
处理液有机材料处理槽处理液流出部处理液流入部除去装置流出处理液循环机构温度管理机构容纳无机材料收纳复合材料加热冷却分解

[发明专利]照相晒印装置-CN95117288.3无效
发明人：志摩和伸;山本有治;西川英利 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1995-10-12 - 公布日： 2002-12-25 - 主分类号： G03B27/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能把若干张片状感光材料不弯曲成圈状地集中停留在一处的照相晒印装置。把晒印完毕的片状感光材料从晒印处理部运送往显影处理部的运送途中设有停留供给装置，该装置把超过显影处理部处理能力的数量的晒印完毕片状感光材料由挟持机构暂时地停留若干张，并且根据显影处理部的处理状况，把停留中的晒印完毕片状感光材料依次供给显影处理部能对应于超过显影处理能力数量的晒印完毕片状感光材料调节晒印完毕片状感光材料的停留张数。停留张数是根据在晒印处理部因更换负片而中断晒印处理的时间和显影处理部的显影处理能力的关系而设定的。
照相装置

[发明专利]三维造型装置、三维造型方法及存储介质-CN201710804247.2有效
发明人：石田方哉;冈本英司;角谷彰彦 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2017-09-07 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： B29C64/112 文献下载
摘要：本申请提供三维造型装置、三维造型方法及存储介质，可抑制材料流动引起的立体物造型精度下降。三维造型装置层积由具有流动性的材料形成的材料层来成形立体物，执行第一造型处理、第二造型处理和第三造型处理，在所述第一造型处理中，形成向所述材料层的层积方向突出的多个凸部，形成与两个以上所述凸部相邻且比所述凸部向所述层积方向凹陷的凹部，在所述第二造型处理中，在所述凸部上层积所述材料层，并且在所述凹部内形成与层积在所述凸部上的所述材料层分开的所述材料层，在所述第三造型处理中，在所述凹部内的所述材料层上配置所述材料，从而填埋所述凹部。
三维造型装置方法存储介质

[发明专利]成膜装置、成膜头和成膜方法-CN201080044833.8有效
发明人：小野裕司;林辉幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-30 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。
装置成膜头方法

[发明专利]一种调控贝氏体钢中偏析与基体性能差方法及钢工件-CN202210281582.X有效
发明人：杨志南;张福成;李宏光;董润洲;张明;李艳国;郑春雷;王艳辉;龙晓燕;康杰 -专利权人：燕山大学
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C21D6/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种调控贝氏体钢中偏析与基体性能差方法及钢工件，所述方法包括：获取待处理钢材料，其中，所述待处理钢材料包含基体和偏析部，所述偏析部为所述待处理钢材料出现偏析的部分；对所述待处理钢材料进行第一热处理，以使所述待处理钢材料的基体产生的马氏体含量高于所述待处理钢材料的偏析部的马氏体含量；对所述待处理钢材料进行第二热处理，直至所述待处理钢材料的基体完成贝氏体转变，所述方法提升了钢材料性能的均匀度。
一种调控贝氏体钢中偏析基体性能方法工件

[发明专利]液量监视装置、搭载液量监视装置的半导体制造装置、以及液体材料和液量的监视方法-CN200580026440.3无效
发明人：安室章;饭塚八城 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-10-18 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：半导体制造装置包括：包含收容液体材料的容器(Xb、Ab、Bb、Cb)，从该容器供给上述液体材料的液体材料供给部；使由上述液体材料供给部供给的上述液体材料气化而生成气体的液体气化部；使用由上述液体气化部供给的上述气体进行成膜处理的处理部；对上述处理部进行排气的排气部；以及配置在上述容器的底部，利用声波检测上述液体材料的液位的液位检测器(Xs、As、Bs、Cs)。
监视装置搭载半导体制造以及液体材料方法

[发明专利]表面处理装置及表面处理方法-CN02808238.9有效
发明人：松野竹己 -专利权人：仲田涂覆株式会社
申请日： 2002-10-23 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： B29C59/08 文献下载
摘要：提供了对于车辆零部件之类的难粘合性基体材料能方便地实施粘合、印刷、涂饰等的表面处理装置以及对于难粘合性基体材料的表面处理方法。在此，在采用包含火焰发生部和基体材料处理部的表面处理装置以及用所述装置进行表面处理的方法中，火焰发生部具有用于喷射由含硅烷化物燃烧气体产生的火焰的燃烧罐及喷射装置；基体材料处理部具有用于使难粘合性基体材料固定、同时在表面处理的前后，使该难粘合性基体材料以规定的水平轴为中心旋轴移动的翻转工作台。
表面处理装置方法

[发明专利]成膜装置-CN201210035752.2无效
发明人：金子裕是;林辉幸;小野裕司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-02-16 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：从蒸镀头喷射的成膜材料，在被处理基板和处理室或者其他的蒸镀头之间反冲，成膜材料附着于与应被蒸镀的位置不同的部位，或者作为杂质混入来自各成膜材料喷出部的蒸气混合的相邻的膜中。本发明是一种成膜装置(1)，具有：收纳被处理基板(被处理基板G)的处理室(11)；和向该被处理基板喷出成膜材料的蒸气的成膜材料喷出部(13)，该成膜装置(1)，在处理室(11)的内部具有捕捉部(16、16)，其捕捉从成膜材料喷出部(13)喷出的，被被处理基板(被处理基板G)反冲的成膜材料。
装置

[发明专利]照片处理装置用切刀-CN03178466.6无效
发明人：木村康人 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 2003-07-16 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： G03D15/04 文献下载
摘要：一种照片处理装置用切刀，具有对片状的记录材料进行处理用的相互邻接的第1处理部及第2处理部、和将记录材料从第1处理部向第2处理部进行传送的传送路径，第1处理部和第2处理部中的至少一个，被设置成为了进行维修而可沿记录材料的宽度方向拉出的单元状，尽可能地以简单的结构不导致照片处理装置的成本上升。切刀(40)，通过从照片处理装置外部的插入操作，可将记录材料(2)在第1处理部(10)和第2处理部(20)之间切断，并且在切断操作后再从照片处理装置内部脱出。
照片处理装置用切刀

[发明专利]热处理装置-CN201580035792.9有效
发明人：胜俣和彦;矶本馨;永田乔裕;中山公;清水勇助;西谷玄 -专利权人：株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： F27B5/08 文献下载
摘要：本发明提供一种热处理装置，能够容易地进行隔热材料的检修等的作业。该热处理装置(1)具备：热处理室(2)，在内部对被处理物(W)进行加热处理；隔热材料(3)，配置在该热处理室的内部，并且包围上述被处理物的容纳区域(R)。上述热处理室具备：侧壁部(2a)和能够相对于该侧壁部拆装的盖部(2c)。上述隔热材料具备配置在上述盖部的内侧的顶板部(3c)。此外，顶板部具备隔热材料盖部(3c1)，构成该顶板部的至少一部分，并且相对于上述盖部一体化。
热处理装置

[发明专利]周缘部处理装置及周缘部处理方法-CN201710735250.3有效
发明人：稻垣幸彦 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种周缘部处理装置及周缘部处理方法。由旋转夹具保持基板，来使该基板旋转。从喷出部向由旋转夹具旋转的基板喷出处理液。喷出部具有沿着一方向排列的多个喷出口，能够从多个喷出口分别选择性地喷出处理液。在喷出部的多个喷出口的排列横穿由旋转夹具旋转的基板的周缘部、且与周缘部相向的状态下，向周缘部的内缘到外侧供给处理液。不向比基板的周缘部的内缘更靠内的内侧供给处理液。
周缘处理装置方法

[发明专利]热处理系统、材料供给方法和热处理装置-CN202210882886.1在审
发明人：广田信之;镰田辉实;铃木启介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-07-26 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： C23C16/02 文献下载
摘要：本发明提供一种热处理系统、材料供给方法和热处理装置。为了能够自动地切换向热处理装置供给原料气体的多个材料容器，热处理系统具有：多个材料容器，其构成为能够贮存材料并使贮存的材料气化而生成原料气体；控制多个材料容器的温度的温度控制部；阀控制部，其对设置在从多个材料容器向热处理装置供给原料气体的供给管路上的阀进行控制，以使得从选择中的一个材料容器向热处理装置供给原料气体；累计部，其对为了从选择中的一个材料容器向热处理装置供给原料气体而开放阀的时间进行累计；状态信号输出部，其输出基于累计的时间得到的状态信号；和切换控制部，其根据状态信号，切换选择中的一个材料容器。
热处理系统材料供给方法装置

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