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- [发明专利]曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机-CN202010631694.4在审
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项宗齐
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2020-07-03
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2020-11-03
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机，方法包括：对待曝光图形进行分段，得到多个具有预设长度的分段图形，每个分段图形均具有对准标记，预设长度为曝光机的一次曝光长度；若在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段，则直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光；若在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段，则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记，对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正，并对校正后的分段图形进行曝光，迭代执行该步骤，直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。本发明在分段加工图像时，后段图形能够与前段图像通过对准标记进行精准对位，从而提高曝光精度，进而保证产品质量。
- 曝光图形处理方法装置
- [发明专利]双路曝光时序控制方法及控制装置-CN202310649279.5在审
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王环宇;付明阳
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西姆高新技术(江苏)有限公司
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2023-06-02
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2023-09-12
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A61B6/00
- 本发明公开了一种双路曝光时序控制方法及控制装置，该控制方法包括：获取预先设置的正位曝光参数和侧位曝光参数；正位曝光参数包括正位球管的曝光时序和正位平板探测器的工作时序，侧位曝光参数包括侧位球管的曝光时序和侧位平板探测器的工作时序；基于正位曝光参数对正位球管和正位平板探测器进行控制；基于侧位曝光参数对侧位球管和侧位平板探测器进行控制；正位球管和侧位球管的曝光时序均包括多个曝光阶段和多个等待阶段，曝光阶段和等待阶段交替进行；正位平板探测器和侧位平板探测器的工作时序均包括多个曝光累积阶段和多个读取图像阶段；曝光累积阶段和读取图像阶段交替进行。
- 曝光时序控制方法装置
- [发明专利]曝光控制方法-CN202010412855.0有效
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于淼;马伟民
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杭州海康威视数字技术股份有限公司
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2020-05-15
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2023-04-07
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H04N23/71
- 本发明提供了一种曝光控制方法。基于本发明，可以提供包含多个阶段点的预设参数表用于曝光参数的调节，由于各阶段点分别关联表示光圈值、快门值以及增益值的不同组合的曝光参数，因此，通过在预设曝光参数表中匹配阶段点，可以实现兼顾多种参数类型的曝光参数调节而且，作为进一步的优化，当曝光参数既不匹配阶段点、也未落入在阶段点之间的区间内时，还可以对曝光参数进行以匹配阶段点或落入阶段点之间的区间未目标的收敛调节。从而，能够避免预设参数表丧失对包含多参数类型的曝光参数的调节约束。
- 曝光控制方法
- [发明专利]摄像方法和装置-CN201810748497.3有效
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罗宁
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瑞芯微电子股份有限公司
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2018-07-10
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2021-10-12
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H04N5/235
- 本发明提供了一种摄像方法和装置，所述装置包括曝光单元和曝光控制单元；所述曝光单元包括阵列排布的多个像素感光单元；所述曝光控制单元与每个像素感光单元均连接。采用上述方案，在图像预览阶段，可以采用不同的曝光参数进行不同程度的曝光或者第一像素感光阵列采用低于预设值的曝光参数进行曝光，得到预览图像数据，而后根据曝光得到的预览图像数据确定拍摄曝光参数，使得在图像拍摄过程中，可以直接采用图像预览阶段确定的拍摄曝光参数进行拍摄，相较于在图像拍摄阶段先确定拍摄曝光参数、再进行曝光拍摄的方式，上述方案可以有效提高图像拍摄效率，提升用户体验。
- 摄像方法装置
- [发明专利]球管的控制方法及控制装置-CN202310649302.0在审
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王环宇;付明阳
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西姆高新技术(江苏)有限公司
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2023-06-02
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2023-08-25
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H05G1/30
- 球管具有待机阶段、启动阶段和曝光阶段；当球管处于待机阶段时，预先设置球管曝光所需的目标管电压和目标管电流；根据球管的曝光功率选取阴极灯丝；将被选取的阴极灯丝的初始电流设置为第一电流值；当脚踏踩下时，球管进入启动阶段；当球管处于启动阶段时，调用快速启动模式，同时阳极靶启动并按照预定转速转动；当被选取的阴极灯丝的电流达到第二电流值时，当前管电压按照预定速度增长以避免瞬间高压导致击穿电容；待当前管电压上升至目标管电压，X射线产生时，球管进入曝光阶段；当球管处于曝光阶段时，基于自适应调节算法调节当前管电压和当前管电流以获取最佳亮度图像。
- 控制方法装置
- [发明专利]双侧曝光系统-CN00108316.3无效
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冈本惇
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丰和工业株式会社
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2000-03-24
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2001-10-03
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G03F7/20
- 一种双侧曝光系统(1),其包括第1作业保持装置(21L),该装置用于保持与曝光掩模(55)相对的基板(P),以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第1表面进行曝光;第2作业保持装置(21R),其用于保持与另一曝光掩模(55)相对的该基板(P),以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第2表面进行曝光。可使未曝光的基板的接纳,转移和预处理操作阶段,以及具有一个已曝光表面的基板的接纳,转移和预处理操作阶段错开,以便防止在曝光操作过程中进行等待而造成的时间损失。
- 曝光系统
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