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- [发明专利]一种小型蓄热式生活垃圾热解气化炉-CN202110908696.8在审
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杨宇;罗培军;陈小龙;焦明鑫;邓渝川
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重庆科技学院
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2021-08-09
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2022-03-22
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F23G5/027
- 本发明公开了一种小型蓄热式生活垃圾热解气化炉,该热解气化炉包括圆柱形外壳,其特征在于:在所述圆柱形外壳内左右对称布置热解气化室和催化改质室,所述热解气化室和催化改质室的中部分别设置有第一填料层和第二填料层;第一填料层和第二填料层上放置的催化剂颗粒由不锈钢孔板相支撑;所述热解气化室和催化改质室的上部通过水平烟道连通;所述热解气化室的底部布置有落渣管、进气口和若干风帽,落渣管与排渣阀连接进行定量排渣;第二填料层的下方设置有裂解气出口,所述催化改质室底部设置有锥形灰斗;预处理后的生活垃圾经螺旋给料机送入热解气化室内,在重力的作用下进入第一填料层上方;本发明可广泛应用在环保、垃圾处理等领域。
- 一种小型蓄热生活垃圾解气
- [发明专利]晶片的生成方法-CN201510854879.0有效
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平田和也;高桥邦充;西野曜子
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株式会社迪思科
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2015-11-30
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2019-04-19
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B23K26/53
- 晶片的生成方法具有:分离起点形成步骤,将对于六方晶单晶锭具有透过性的波长的激光束聚光点定位在距正面相当于要生成的晶片厚度的深度,使聚光点与锭相对地移动而对正面照射激光束,形成与正面平行的改质层和从改质层伸长的裂痕而形成分离起点;晶片剥离步骤,在实施了分离起点形成步骤之后,从分离起点将相当于晶片的厚度的板状物从锭剥离而生成晶片,分离起点形成步骤包含:改质层形成步骤,c轴相对于正面的垂线倾斜偏离角,使激光束的聚光点沿着与在正面和c面之间形成偏离角的方向垂直的方向相对地移动而形成直线状的改质层;转位步骤,在形成偏离角的方向上使聚光点相对地移动而转位规定的量。
- 晶片生成方法
- [发明专利]晶片的生成方法-CN201610080065.0有效
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平田和也;西野曜子;高桥邦充
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株式会社迪思科
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2016-02-04
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2020-01-31
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B23K26/00
- 晶片的生成方法具有:分离起点形成步骤,将对于六方晶单晶锭具有透过性的波长的激光束聚光点定位在距锭的正面相当于要生成的晶片厚度的深度,并且使聚光点与六方晶单晶锭相对地移动而对锭的正面照射激光束,形成与正面平行的改质层和从改质层沿着分离起点形成步骤由如下的步骤构成:第1分离起点形成步骤,利用第1输出形成分离起点;第2分离起点形成步骤,以与第1分离起点形成步骤中形成的改质层重叠的方式,利用比第1输出大的第2输出以每1脉冲的能量成为与第1分离起点形成步骤相同的能量的重复频率照射激光束,而使改质层与裂痕乖离。
- 晶片生成方法
- [发明专利]SiC晶片的生成方法-CN201710740384.4有效
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平田和也
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株式会社迪思科
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2017-08-25
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2021-04-23
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H01L21/304
- SiC晶片的生成方法从单晶SiC晶锭生成SiC晶片,包括:剥离面形成工序,在形成偏离角的方向进行晶锭的转位进给而进行2次以上的改质层形成加工,形成剥离面,该改质层形成加工中,将对SiC具有透过性的波长的脉冲激光光线的聚光点定位在距离晶锭的上表面相当于要生成的晶片的厚度的深度,并在与形成偏离角的方向正交的方向进行晶锭的加工进给,从而在晶锭内部形成改质层和从该改质层沿c面传播的裂痕;晶片生成工序,以剥离面为界面将晶锭的一部分剥离,生成SiC晶片。
- sic晶片生成方法
- [发明专利]芯片的制造方法-CN202110196071.3在审
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佐井星一
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株式会社迪思科
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2021-02-22
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2021-09-10
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H01L21/268
- 芯片的制造方法将晶片沿着分割预定线分割成多个芯片,该芯片的制造方法具有如下的工序:晶片保持工序,利用卡盘工作台对晶片的第1面侧进行保持而使晶片的第2面侧露出;改质层形成工序,通过从晶片的第2面侧将对于晶片具有透过性并且在第1聚光点和第2聚光点处聚光的激光束按照将第1聚光点和第2聚光点定位于晶片的内部的方式进行照射,在第1聚光点和第2聚光点所定位的区域中分别形成改质区域,并形成包含沿着分割预定线排列的多个改质区域的改质层;
- 芯片制造方法
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