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[发明专利]对准颗粒层-CN201480080162.9有效
发明人： D·春;N·J·莱昂尼;H·比雷基;O·吉拉 -专利权人：惠普发展公司;有限责任合伙企业
申请日： 2014-04-25 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： G02F1/167 文献下载
摘要：一种用于电子纸组装件的电荷接收层，其包括遍及绝缘基质间隔开的多个导电路径，其中每一个导电路径包括导电颗粒的至少一个伸长图案。
对准颗粒

[发明专利]层间对准提示模块和层间对准提示方法-CN201410729348.4在审
发明人：曾金;陈红军 -专利权人：北大方正集团有限公司;重庆方正高密电子有限公司
申请日： 2014-12-03 - 公布日： 2016-06-29 - 主分类号： G01B7/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种层间对准提示模块和一种层间对准提示方法，其中，所述层间对准提示模块包括：基准孔，所述基准孔下方设置有基准探针，用于插设在待测多层线路板的测试对准孔内；至少一个层间对准检测孔，所述至少一个层间对准检测孔中的每个层间对准检测孔下方均设置有层间对准检测针，当所述基准探针插设在所述测试对准孔内时，所述层间对准检测针将插设在所述待测多层线路板的测试孔内，且所述层间对准检测孔的上方设置有提示装置，用于提示所述测试孔是否偏移所述层间对准检测针。通过本发明的技术方案，可以使用户准确地判断多层线路板上的检测孔是否偏移，以及实际的偏移量，从而有效地提高多层线路板的对准检测的准确性和效率。
对准提示模块方法

[发明专利]用于图案层对准的对准标记系统及对准方法-CN202011061653.2在审
发明人：梁时元;丁明正;贺晓彬;刘强;刘金彪 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种用于图案层对准的对准标记系统及图案层对准方法，系统包括：第一图案层上的第一标记和第二图案层上的第二标记；所述第一标记和所述第二标记能够组合为一个对准标记，以在形成第一图案层和第二图案层之上的第三图案层时，所述第一标记和所述第二标记用于将第三图案层的掩模与所述第一图案层和所述第二图案层对准。在不改变光刻机原有扫描算法基础上，由于第一图案层上的第一标记和第二图案层上的第二标记能够组合为一个完整的对准标记，因此通过一次扫描即可得到两个标记组合形成的完整对准标记在晶圆上的位置，并根据扫描得到的位置进行对准
用于图案对准标记系统方法

[发明专利]自对准层图案化-CN202010690877.3在审
发明人： B·T·曾;Y·K·萧;J·博迈尔斯 -专利权人： IMEC非营利协会
申请日： 2020-07-17 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种方法，包括以下步骤：a.通过自对准多重图案化来在要被图案化的层(3)上形成规则地间隔开的芯模(4)的第一图案，b.随后，在所述芯模(4)的侧壁上形成硬掩模间隔物(5)，由此形成第二图案，所述第二图案由包括芯模(4)和其侧壁上的硬掩模间隔物(5)的组装件(4，5)来形成，以及c.随后，在要被图案化的层(3)中蚀刻所述第二图案。
对准图案

[发明专利]滤色器层对准-CN200880128486.X无效
发明人：奥尔多·萨尔韦斯特罗 -专利权人：柯达图像传递加拿大公司
申请日： 2008-04-24 - 公布日： 2011-03-02 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：在本发明的一个实施例中，提供一种用于使滤色器元件的经图案化层与显示器组合件对准的方法。所述方法包含激活第一组可寻址像素元件以改变所述第一组所述像素元件中的每一像素元件的激活状态。可至少基于所述经激活第一组或第二组所述像素元件而确定滤色器元件的所述经图案化层与所述显示器组合件的所需对准。根据所述所需对准使滤色器元件的所述经图案化层与所述显示器组合件对准。
滤色器层对准

[发明专利]重叠对准标记和具有该重叠对准标记的基片-CN201410100759.7有效
发明人：李天慧 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本申请提供了一种重叠对准标记和具有该重叠对准标记的基片。重叠对准标记设置于基片上，基片包括基础层和设置于基础层上的多个片层，重叠对准标记包括基础层对准标记，基础层对准标记设置于基础层的标记区域上；片层对准标记，各片层对准标记设置于相应的片层上，其中，设置有片层对准标记的各片层中至少两个片层通过相应的片层对准标记和同一个基础层对准标记之间的位置关系实现与基础层的对准在本申请的重叠对准标记布置方式下，更多的标记区域如划线槽的区域被释放出来，节约了重叠对准标记占用的标记区域。
重叠对准标记具有

[发明专利]光刻对准方法及系统-CN202010468233.X有效
发明人：冯耀斌 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻对准方法及系统，方法如下：在有第一图形层的衬底上形成第二图形层，在光刻时获取第一图形层对准标记位置信息；量测第二图形层套刻偏差并计算第一、第二图形层的实际对准标记相对偏差；在第二图形层上形成第三图形层，在光刻时获取第二图形层的对准标记位置信息；将实际对准标记相对偏差代入第二图形层对准标记位置信息，得到第一图形层计算对准标记位置信息并根据计算对准标记位置信息完成第三图形层的对准。本发明通过获取第一、第二图形层的对准标记位置信息及套刻偏差，得到其实际对准标记相对偏差，并用于第三图形层对准。该方法有效消除了第三图形层对第一图形层间接对准的对准偏差，使对准更精确，提升了产品良率。
光刻对准方法系统

[实用新型]套刻对准标记及掩模板组件-CN202120925351.9有效
发明人：沈俊明;吴建宏;林士程 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种套刻对准标记，包括前层对准标记、形变缓存区和当层对准标记，所述前层对准标记和所述形变缓存区位于同一前层材料中，所述形变缓存区位于所述前层对准标记外侧，所述当层对准标记位于所述前层材料上，且所述当层对准标记位于所述前层对准标记内侧或者所述当层对准标记与所述前层对准标记交错设置。通过在前层对准标记的外侧四周设置形变缓存区，在晶圆经过热处理工艺时，所述形变缓存区作为缓冲区，可以减少所述前层对准标记的热膨胀变形，从而能够解决黄光量测时前层的套刻标记产生形变而导致量测失真的问题。
对准标记模板组件

[发明专利]一种对准装置及其对准方法、光刻机-CN202010519014.X有效
发明人：赵晓伟;徐兵;周畅;李煜芝;陈跃飞 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，对准装置包括至少两个对准单元，位于待曝光的基板上方；所述至少两个对准单元包括至少一个透光层对准单元和至少一个阻光层对准单元；所述透光层对准单元被配置为对所述基板中透光膜层的前层对准标记进行测量，所述阻光层对准单元被配置为对所述基板中的透光膜层和/或阻光膜层的前层对准标记进行测量；所有的所述透光层对准单元与所有的所述阻光层对准单元沿第一方向排列成一排，所述第一方向垂直于扫描方向，所述第一方向与所述扫描方向均平行于所述基板本发明提供一种对准装置及其对准方法、光刻机，以实现透光层对准单元与阻光层对准单元在工艺需要时可以切换使用，从而提升了工艺适应性。
一种对准装置及其方法光刻

[发明专利]谐振器及其制造方法-CN201310124937.5在审
发明人：庞慰;张孟伦;张浩 -专利权人：天津大学
申请日： 2013-04-11 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： H03H9/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种谐振器及其制造方法，其中，该制造方法包括：在压电层上方形成对准结构，其中，对准结构包括需要进行对准的多个层、以及用于将多个层进行对准的对准层；利用对准层将多个层中部分或全部层的边缘部分去除，使经去除后多个层的边缘彼此对准。本发明通过设置对准层，能够将谐振器中不同层的图形自对准，避免了不同层的图形未对准导致的谐振器(以及由谐振器构成的滤波器等器件)性能受损的问题，能够有效提高器件的性能。
谐振器及其制造方法

[发明专利]半导体元件及其制备方法-CN202211724216.3在审
发明人：黄则尧 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：该半导体元件包括：设置于基底上的第一导电层以及设置于第一导电层上的第二导电层；第一次组实体对准标记以及第一次组间隔对准标记。第一次组实体对准标记包括：第一层对准标记，经设置于第一导电层中；以及第二层对准标记，经设置于第二导电层中并与第一层对准标记偏离。第一次组间隔对准标记包括：该第一次组间隔对准标记的第一层对准标记，经设置于第一导电层中并与第一次组实体对准标记的第一层对准标记远离；第一次组间隔对准标记的第二层对准标记，经设置于第二导电层中并与第一次组间隔对准标记的第一层对准标记偏离第一次组实体对准标记及第一次组间隔对准标记包括一荧光材料。
半导体元件及其制备方法

[发明专利]晶片对准标记选取方法-CN202210935088.0在审
发明人：郭超;费志平;李玉华;姜冒泉;吴友根;魏育航 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种晶片对准标记选取方法。晶片对准标记选取方法包括以下步骤：选取与晶片各个前层对应的前层对准标记集合，每个所述前层对准标记集合中包括多种前层对准标记；遍历检测光源集合中的所有检测光源，使得每个所述检测光源分别对所有前层对准标记集合中的各前层对准标记进行检测，确定对应不同前层的最佳对准组合；一对所述最佳对准组合包括一种最佳对准标记和一种检测光源的组合；整合对应同一检测光源的最佳对准组合形成最佳对准集合，各个所述最佳对准集合中包括位于不同前层中的最佳对准标记；基于目标对准标记数量，在各个最佳对准集合中设定各种最佳对准标记的最佳分配数量。
晶片对准标记选取方法

[发明专利]用于对液晶层进行图案化的方法和系统-CN202080080827.1在审
发明人： R·K·科曼杜里;吴哲宇 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：在一些实施方式中，通过使用纳米压印对准层来图案化液晶层来创建光学母版。纳米压印对准层和液晶层构成光学母版。光学母版位于光对准层上面。光学母版被照射并且传播通过纳米压印对准层和液晶层的光被衍射，并且随后撞击光对准层。入射的衍射光使液晶层中的图案被转移到光对准层。第二液晶层被沉积到图案化光对准层上，图案化光对准层随后用于对准第二液晶层的分子。在一些实施方式中，图案化光对准层中的第二液晶层可被用作复制光学母版或衍射光学元件，诸如用于引导光学装置中的光，诸如显示装置，包括增强现实显示装置。
用于液晶进行图案方法系统

[发明专利]薄介质层光刻对准标记的制作方法-CN201310675882.7在审
发明人：童宇锋;袁春雨 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄介质层光刻对准标记的制作方法，步骤包括：1）在前前层金属层上对应本层介质层要放置光刻对准标记的区域处放置整块金属档板；2）进行前层介质层的沉积、光刻和填充工艺；3）根据本层介质层光刻对准标记的形状和尺寸，在本层介质层光刻对准标记下方的前层金属层上刻蚀形成相应的开孔；4)进行本层介质层的沉积、光刻和填充工艺，最终形成具有三层厚度的光刻对准标记。本发明通过在介质层对准标记对应的前层金属层位置设计与对准标记形状大小相应的开孔，使最终形成的对准标记具有三层厚度且稳定均匀，如此不仅提高了对准标记的高低差，增强了对准信号的强度，而且提高了对准信号的稳定性和可靠性
介质光刻对准标记制作方法

[发明专利]一种能对准的不干胶标签-CN201310457072.4无效
发明人：侯汉武 -专利权人：昆山众汇复合材料有限公司
申请日： 2013-09-30 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种能对准的不干胶标签，包括纸张层、胶粘剂层和底纸层，所述纸张层连有透明对准膜，所述透明对准膜上印有对准线，所述对准线至少包括相互垂直的两条线，所述纸张层与透明对准膜之间为压痕连接，所述底纸层为涂硅保护纸；本发明结构简单，使用方便，使用时直接去掉底纸层，用透明对准膜上的对准线对准参照物上的线条，就能够贴正不干胶标签，贴好后还能够撕去透明对准膜。
一种对准不干胶标签

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