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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]制造聚合物波导的方法-CN201210238921.2有效
发明人：曾俊豪;李宛谕;陈海清;包天一 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-07-10 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： G02B6/13 文献下载
摘要：方法包括提供具有电互连区和波导区的衬底以及在电互连区内的衬底上方形成图案化介电层和图案化再分布层(RDL)。方法还包括通过接合叠层将图案化RDL接合至垂直腔面发射激光器(VCSEL)。在波导区内的衬底中形成反射镜沟槽，并在波导区内部的反射镜区上方形成反射层。方法进一步包括在波导区内部的波隧道区中形成并图案化底覆层以及在波导区中形成并图案化芯层和顶覆层。
制造聚合物波导方法

[发明专利]掩膜及其制造方法-CN201210109750.3有效
发明人：萧智鸿;张玮志;翁照钦 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：掩膜包括一透明基板以及一图案化玻璃胶层。透明基板具有一图案区以及一非图案区。图案化玻璃胶层位于图案区的部分为透光状态，且位于非图案区的部分是不透光状态。本发明更提出一种掩膜的制造方法。首先，提供一透明基板，透明基板具有一图案区以及一非图案区。接着，在透明基板上配置一玻璃料层。再来，固化玻璃料层，以形成不透光的一玻璃胶层。最后，将位于图案区的玻璃胶层转换为透光状态，以形成一图案化玻璃胶层。本发明的掩膜及其制造方法可减少化学药剂的使用量、降低成本并且简化制造流程。
及其制造方法

[发明专利]薄膜图案化的方法和显示面板的制备方法-CN202011485217.8在审
发明人：孟虎 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：本公开提供一种薄膜图案化的方法和显示面板的制备方法，属于显示技术领域，本公开的薄膜图案化的方法，包括：在衬底基板上，通过构图工艺形成包括辅助结构的图形，以形成图案保留区和图案去除区；辅助结构至少与衬底基板接触表面的材料不同；在辅助结构的图形背离衬底基板的一侧形成第二薄膜层，并将图案去除区的第二薄膜层的材料去除，形成位于图案保留区的第二薄膜图案。本公开的薄膜图案化方法可以实现高深度比的图案，同时工艺简单。
薄膜图案方法显示面板制备

[发明专利]画素结构的制造方法以及导体结构的制造方法-CN201210550593.X有效
发明人：高金字;吕雅茹;吴国伟;欧阳志升 -专利权人：福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司
申请日： 2012-12-18 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：于底层上形成第一导体层与第一图案化光阻层。以第一图案化光阻层为罩幕，对第一导体层进行等向性移除制程以形成第一图案化导体层。等向性移除制程移除第一导体层的第一部分以及位于部分第一图案化光阻层下方的第二部分以暴露出底层的第一表面区以及第二表面区。形成第二导体层，其自断开而包括覆盖第一图案化光阻层的剥除部分以及位于第一表面区上的保留部分。移除第一图案化光阻层以及剥除部分且留下保留部分以形成第二图案化导体层。第一图案化导体层与第二图案化导体层之间具有暴露出第二表面区的间隙。
结构制造方法以及导体

[发明专利]单向平面TVS芯片及其制备方法-CN202311078728.1在审
发明人：吴同同;管国栋 -专利权人：马鞍山市槟城电子有限公司
申请日： 2023-08-24 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L21/329 文献下载
摘要：单向平面TVS芯片的制备方法包括：提供P型衬底，在P型衬底的双面生长氧化层；图案化第一表面的氧化层，形成第一图案区，图案化第二表面的氧化层，形成第二图案区，第二图案区包括至少一个柱状的氧化层结构；对第一图案区进行掺杂，形成第一N型掺杂区，对第二图案区进行N型掺杂，形成第二N型掺杂区。图案化第二表面的氧化层时，选择性刻蚀，保留至少一个柱状的氧化层结构不被刻蚀，使后续形成的第二N型掺杂区中包括P型衬底，降低单向平面TVS芯片的正向压降。
单向平面 tvs 芯片及其制备方法

[发明专利]图像显示系统及其制造方法-CN200910136346.3有效
发明人：刘侑宗;李淂裕;张美玲 -专利权人：统宝光电股份有限公司
申请日： 2009-05-11 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明有关于一种包含显示面板的图像显示系统以及其制造方法，显示面板包括：具有第一、二、三区的基板，第一图案化半导体层设置于基板的第一区之上，第一绝缘层覆盖于第一图案化半导体层及基板的第一、二、三区上，第二图案化半导体层分别设置于第一、三区的第一绝缘层上，第二绝缘层覆盖于第二图案化半导体层及第一绝缘层上，以及图案化导电层设置于第二绝缘层上，其中于第一区构成第一薄膜晶体管，于第三区构成第二薄膜晶体管。
图像显示系统及其制造方法

[发明专利]芯片封装体与液晶显示面板-CN200710152913.5无效
发明人：陈财茂 -专利权人：奇美电子股份有限公司
申请日： 2007-09-21 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：芯片封装体包括一软性基板、一图案化线路层、数个强化垫以及一芯片。软性基板具有一第一接合区、一第二接合区与位于两者之间的一非接合区。图案化线路层配置于软性基板上。强化垫配置图案化线路层的两侧，且这些强化垫由第一接合区延伸至非接合区。芯片配置于非接合区上，并与图案化线路层电性连接。液晶显示面板应用了该芯片封装体。由于本发明在芯片封装体的图案化线路层两侧配置强化垫，因此在热压合下，使用此种芯片封装体的液晶显示面板将具有较佳的可靠度。
芯片封装液晶显示面板

[发明专利]区别对象区与基底区的方法及用该方法测量三维形状的方法-CN201110096894.5有效
发明人：权达颜 -专利权人：株式会社高永科技
申请日： 2011-04-18 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种区别对象区与基底区的方法及用该方法测量三维形状的方法。该方法包括：将光照射在形成有测量目标的基板上，以通过接收被所述基板反射的光来拍摄图像；在图像的检查区中，确定布置有测量目标的对象区和与剩余区域对应的基底区；将光栅图案化光照射在形成有测量目标的基板上，以通过接收被基板反射的光栅图案化光来拍摄图案化图像；以及利用图案化图像来获取检查区中各个位置处的高度，从而以所述基底区的高度来确定相对于所述测量目标的基底高度。
区别对象基底方法测量三维形状

[发明专利]增进图案均匀度的方法-CN200710079428.X有效
发明人：陈育锺;蔡世昌;李俊鸿 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2007-03-12 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种增进图案均匀度的方法，适用于包含有图案密集区与图案半空旷区的基底。基底上已依序形成有阻绝层与底抗反射层。此方法是先在底抗反射层上形成一层图案化光阻层，图案化光阻层包括位于图案密集区的第一光阻图案，与位于图案半空旷区的第二光阻图案，其中，第二光阻图案的尺寸大于第一光阻图案的尺寸。之后，进行第一修剪步骤，微缩图案化光阻层，同时，以图案化光阻层为罩幕，移除部分底抗反射层。接着，进行第二修剪步骤，同时微缩图案化光阻层与底抗反射层，并且缩小第二光阻图案与第一光阻图案的尺寸差。本发明具有增进图案均匀度的功效。
增进图案均匀方法

[发明专利]显示面板及其制造方法-CN201910831105.4有效
发明人：刘少伟;塗俊达;林富良;何子维;李曼曼 -专利权人：友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：该制造方法包括提供一基板；形成一第一图案化遮光层；设置一缓冲层；形成一图案化半导体层；设置一第一绝缘层；形成一第一图案化金属层；以所述第一图案化金属层为掩模而进行一第一离子浓度注入，形成一轻掺杂区与一沟道区于所述半导体层；设置一遮光材料层于所述第一图案化金属层上，且图案化所述遮光材料层以形成一图案化遮光材料层；以及以所述图案化遮光材料层为掩模而进行一第二离子浓度注入，形成一重掺杂区于所述半导体层。
显示面板及其制造方法

[发明专利]一种像素结构及液晶显示面板-CN201410843004.6无效
发明人：赵锋 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2014-12-29 - 公布日： 2015-04-29 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：本发明公开了一种像素结构及液晶显示面板，其中像素结构包括绝缘层以及铺设于绝缘层上方的像素电极层，绝缘层包括图案化的第一绝缘区和无图案化的第二绝缘区，像素电极层包括铺设在第一绝缘区上方的无图案化的第一像素电极区，以及铺设在第二绝缘区上方的图案化的第二像素电极区。
一种像素结构液晶显示面板

[发明专利]微型显示器的制作方法-CN200810173464.7无效
发明人：李政勋;吴沂庭;孙伟宸;姜元升 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2008-11-14 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：一种微型显示器的制作方法，其是先提供具有像素区与周边电路区的基底，其中像素区已形成有金属反射层，且周边电路区已形成有周边电路。然后，在基底上形成介电层，以覆盖像素区与周边电路区。接着，在介电层上形成图案化掩模层，此图案化掩模层暴露出位于金属反射层上方的介电层。而后，以图案化掩模层为掩模，移除暴露出的介电层的一部分。继之，移除图案化掩模层。
微型显示器制作方法

[发明专利]元件基板及其制造方法-CN201910398899.X有效
发明人：陈逸祺;童腾赋;李铭轩;邱冠焴 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：元件基板包括基板以及图案化层。图案化层位于基板上。图案化层包括由第一光罩所定义的第一区以及由第二光罩所定义的第二区。第一区包括第一对位标记。第二区包括第二对位标记。第一对位标记与第二对位标记相邻于第一区与第二区的交界处。
元件及其制造方法

[发明专利]晶体管的制造方法-CN201110354662.5有效
发明人：苏国辉;陈逸男;刘献文 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2011-10-25 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：在基底上形成图案化牺牲层，图案化牺牲层包括多个开口，开口暴露基底。透过图案化牺牲层为掩模，对基底进行掺杂制程，以在开口所暴露的基底中形成源极掺杂区与漏极掺杂区。进行选择性成长制程，以分别在源极掺杂区与漏极掺杂区上形成源极与漏极。移除图案化牺牲层，以暴露源极与漏极之间的基底。在源极与漏极之间的基底上形成栅极。
晶体管制造方法

[发明专利]按键组及其制造方法-CN200510087731.5无效
发明人：徐敏原;刘定国 -专利权人：宣德科技股份有限公司
申请日： 2005-08-08 - 公布日： 2007-02-14 - 主分类号： H04M1/00 文献下载
摘要：一种按键组，其包括基板、金属层、图案化遮光层、透光材料层以及按键电路模块。其中，基板具有第一表面及第二表面，而金属层设置于基板之第一表面。此外，图案化遮光层设置于金属层上，以于金属层上定义出透光区以及遮光区，其中图案化遮光层对应于遮光区，而透光材料层设置于基板之第二表面，且透光材料层对应于透光区。另外，按键电路模块设置于图案化遮光层上。
按键及其制造方法

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