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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]掩膜版版图的修正方法-CN202010022648.4有效
发明人：杜杳隽 -专利权人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2020-01-09 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：一种掩膜版版图的修正方法，包括：提供目标版图，所述目标版图包括若干主图形；获取每个所述主图形的位置信息；根据每个所述主图形的位置信息，获取与每个主图形相邻的辅助图形的位置信息；根据与每个主图形相邻的辅助图形的位置信息，在每个所述主图形周围设置与所述主图形相邻的辅助图形。从而，提高形成的光刻图形的精度。
掩膜版版图修正方法

[发明专利]图形处理方法-CN201410287015.0在审
发明人：刘夺福;赵金钟 -专利权人：上海盛致文化发展有限公司
申请日： 2014-06-24 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： G06T1/00 文献下载
摘要：本发明属于移动终端图形处理技术领域，提供了图形处理方法，包括如下步骤：步骤一，读入要处理的图形，获取图形的每一个像素的RGB数据；步骤二，由于数字图形是像素的集合，组成数字图形的基本单位是像素P，故对读入的每一个所述像素P的RGB数据进行处理；步骤三，根据用户选择的要处理的图形方式，具体包括：灰度图形处理、底片图形处理、柔化图形处理、黑白图形处理、光照图形处理、放大镜图形处理、浮雕图形处理，采用安卓系统的NDK进行打包生成SO库，使用SO库进行本地编辑接口JNI的调用，实现C语言对图形进行处理，得到相应处理效果的新图形，本发明具有高效率，低资源的优点。
图形处理方法

[发明专利]一种修正模型的建立方法及装置、掩模优化方法及装置-CN202010419225.6在审
发明人：马乐;韦亚一;张利斌;陈睿 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种修正模型的建立方法及装置、掩模图形优化方法及装置，预先基于历史掩模图形的图形参数、历史掩模图形曝光得到的历史曝光图形的实际参数和历史掩模图形对应的历史权重建立修正模型，历史权重基于历史掩模图形的图形参数和/或历史曝光图形的实际参数，以及历史掩模图形的初始权重确定，在获取待修正掩模图形后，可以利用修正模型，得到待修正掩模图形对应的待修正曝光图形的预测参数，基于预测参数以及待修正曝光图形的目标参数，对待修正掩模图形进行修正这样确定的历史权重是具有针对性的，据此建立的修正模型也是较为准确的，对待修正掩模图形的修正也更加具有针对性。
一种修正模型建立方法装置优化

[发明专利]用于定义光刻图形侧壁形貌的掩模版-CN201910742911.4在审
发明人：王辉;张雪 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于定义光刻图形侧壁形貌的掩模版，在掩模版上形成有掩模版图形，掩模版图形用于定义光刻图形；光刻图形具有侧壁，在掩模版图形上设置有定义光刻图形的侧壁形貌的掩模版侧面图形结构，掩模版侧面图形结构具有使曝光光强逐渐变化的结构，曝光光强越大的区域光刻图形的侧壁的高度越低以及曝光光强越小的区域光刻图形的侧壁的高度高，掩模版侧面图形结构通过使曝光光强逐渐变化来定义光刻图形的侧壁形貌。本发明还公开了一种用于定义光刻图形侧壁形貌的光刻工艺方法。本发明能定义光刻图形侧壁形貌，方便形成侧面倾斜的光刻图形侧壁。
光刻图形侧壁形貌掩模版曝光光侧壁掩模版图形图形结构侧面逐渐变化光刻工艺

[发明专利]临床科研表单的低代码配置方法、装置及电子设备-CN202111572844.X在审
发明人：秦晓宏;叶大江 -专利权人：上海柯林布瑞信息技术有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G06F8/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种临床科研表单的低代码配置方法、装置及电子设备，该方法包括：调用图形连线控件；获取待配置图片，基于待配置图片确定待配置图片对应的图形信息；将图形信息与图形连线控件相关联，将关联后的图形信息和图形连线控件进行格式转换，得到图形连线表单组件，其中，图形连线表单组件用于在被调用的情况下形成表单页面。通过上述技术方案，调用图形连线控件和生成图形信息，并将图形信息与图形连线控件相关联，实现了包含图形连线题型的配置；进一步的，将图形信息和图形连线控件进行格式转换得到图形连线表单组件，在被调用的情况下形成表单页面
临床科研表单代码配置方法装置电子设备

[发明专利]掩膜制作方法-CN200910054504.0有效
发明人：田明静 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-07-07 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了掩膜制作方法，以提高掩膜质量，该方法包括步骤：提供电路原始图形；在电路原始图形之间添加辅助图形，以提高图形密度分布的均匀度；提供包含不透光层与相位移层的基板；将电路原始图形及辅助图形构成的整个图形转移至所述不透光层上，形成不透光层图形；用光刻胶覆盖不透光层图形中的辅助图形区域，并暴露出不透光层图形中的原始图形区域；干法刻蚀所述暴露出的原始图形区域下的相位移层，将不透光层图形中的原始图形转移至相位移层，形成相位移层图形
制作方法

[发明专利]一种电网图形数据的生成方法及装置-CN201310693556.9有效
发明人：曹占峰;刘海涛;田田 -专利权人：北京中电普华信息技术有限公司;国家电网公司
申请日： 2013-12-17 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本申请公开了一种电网图形数据的生成方法及装置，应用于预设的数据资源库，所述数据资源库包括文件库及图形数据库，所述文件库包括至少一个图形文件，所述图形数据库包括每个所述图形文件的关联数据，所述方法包括：接收用户的图形生成指令，所述图形生成指令包括图形标识及图形编辑信息；在所述文件库中获取与所述图形标识相对应的目标图形文件，并在所述图形数据库中获取与所述图形标识相对应的目标关联数据；依据所述目标关联数据及所述目标图形文件，生成电网场景图；依据所述图形编辑信息，对所述电网场景图进行编辑，得到电网图形数据。
一种电网图形数据生成方法装置

[发明专利]图形化膜层的方法、形成栅极、MOS晶体管的方法-CN201110139487.8有效
发明人：何其旸;张翼英 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-05-26 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：一种图形化膜层的方法、形成栅极、MOS晶体管的方法，所述图形化膜层的方法包括：提供基底；在所述基底上形成图形化的牺牲层；在所述基底上形成需要图形化的膜层，所述膜层的上表面与所述图形化的牺牲层的上表面相平；在所述膜层上形成图形层，所述图形层和图形化的牺牲层共同定义出膜层图形化的图形；以所述图形层为掩膜刻蚀所述膜层，形成图形化的膜层；去除所述图形层、图形化的牺牲层。本技术方案以图形层为掩膜刻蚀膜层时即完成了对膜层的图形化，节省了刻蚀膜层的步骤。
图形化膜层方法形成栅极 mos 晶体管

[发明专利]提高光刻工艺中图形关键尺寸的均匀性的方法-CN201710530447.3有效
发明人：王雷 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高光刻工艺中图形关键尺寸的均匀性的方法，包括如下步骤：步骤一、测量各种不同的图形周期下，各种不同的局部图形密度对相应的图形周期下的图形关键尺寸的影响，并根据测量结果建立光刻工艺调整规则；步骤二、对已经设计好的产品版图的本层图形进行局部图形密度统计；步骤三、根据本层图形的局部图形密度分布，按照光刻工艺调整规则对本层图形的各图形对应的光罩关键尺寸进行调整。本发明能消除版图中局部图形密度的变化对图形关键尺寸的影响，使各种局部图形密度下的各图形关键尺寸趋于和设计要求相同，提高图形关键尺寸的均匀性。
提高光刻工艺图形关键尺寸均匀方法

[发明专利]报表图形展示内存优化方法及装置-CN200710000739.2有效
发明人：熊剑;熊鹰 -专利权人：中兴通讯股份有限公司
申请日： 2007-01-10 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： G06F9/44 文献下载
摘要：本发明提供了一种报表图形展示内存优化方法及装置，该方法包括以下步骤：步骤S102，生成用于将位图与压缩信息进行相互转换的工具类以及用于展示图形的展示组件；步骤S104，根据报表图形产生图形信息，通过工具类将图形信息压缩成图形信息句柄并将其传递给展示组件；步骤S106，展示组件将图形信息句柄传递给工具类，工具类将图形信息转换为位图图形对象，并将位图图形对象传递给展示组件；以及步骤S108，展示组件接收位图图形对象，并将位图图形对象展示成图形。因此，可以降低多个窗口展示图形带来的内存占用量，提高同时打开图形展示窗口的数量，较好地解决报表图形在速度和空间上的冲突。
报表图形展示内存优化方法装置

[发明专利]图形处理方法、装置、设备及存储介质-CN201910657411.0有效
发明人：赵士彭;苏孟豪;刘苏;张立志 -专利权人：龙芯中科（合肥）技术有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G06T1/20 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种图形处理方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：获取图形处理命令，其中，所述图形处理命令包含待处理图形的图形信息的存储地址；根据所述存储地址获取所述图形信息，将所述图形信息存入第一存储区，并将所述图形信息在所述第一存储区中的索引信息发送给图形处理器的渲染单元，以使所述渲染单元根据所述索引信息从所述第一存储区获取所述图形信息，并根据所述图形信息对所述待处理图形进行图形处理。本发明实施例能够使图形处理器的渲染单元不需要通过配置寄存器就能获取所需的图形信息，从而避免图形处理过程中的寄存器写入命令，减少命令开销。
图形处理方法装置设备存储介质

[发明专利]半导体结构版图及半导体结构-CN202210359900.X在审
发明人：李明浩;张凤琴;尚为兵 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-04-07 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本公开提供一种半导体结构版图，包括：有源区图形；第一类栅极图形，与有源区图形交叠，且沿第一方向延伸；金属层图形，沿第一方向延伸，金属层图形通过接触孔图形与位于第一类栅极图形两侧的有源区图形接触。在本公开实施例提供的半导体结构版图中第一类栅极图形与金属层图形的延伸方向一致，相较于第一类栅极图形与金属层图形的延伸方向垂直的结构，随着第一类栅极图形在第二方向上的宽度增大第一类栅极图形的存在不会影响金属层图形与有源区图形之间的交叠，进而能够在保证第一类栅极图形尺寸满足要求的情况下，增大连接金属层图形与对应的有源区图形的接触孔图形的长度，提高了采用半导体结构版图形成的半导体结构的可靠性，优化了器件性能。
半导体结构版图

[发明专利]一种图形码的生成和识别方法及装置-CN201710107864.7在审
发明人：李家旺 -专利权人：李家旺
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： G06K19/06 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种图形码的生成和识别方法及装置，生成方法包括根据图形码要携带的信息生成图形码；将图形码印制在基材上；获得包含图形码和基材的第一图像；从第一图像中获得基材特征信息；将图形码及其基材特征信息对应存储，以使在识别图形码过程中，识别图形码的真伪。可见，在生成图形码后，对应存储图形码及其基材特征信息，并且，基材特征信息具有唯一性，使得在识别图形码的过程中，能够根据对应存储的图形码及其基材特征信息，识别图形码的真伪，使得图形码具有防伪功能。
一种图形生成识别方法装置

[发明专利]一种UI图形生成方法、系统、装置及计算机存储介质-CN202210066634.1在审
发明人：李西峙 -专利权人：深圳市大富网络技术有限公司
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G06T7/11 文献下载
摘要：本申请公开了一种UI图形生成方法、系统、装置及计算机存储介质，用于提高生成UI图形的便捷性。本申请方法包括：获取UI素材图形，所述UI素材图形中包含有至少一个UI图形；获取用户的操作指示，所述操作指示为用户从所述UI素材图形中选择目标UI素材的指示；根据所述操作指示从所述UI素材图形中确定局部素材图形；根据预设的分割规则对所述局部素材图形进行分割，以得到若干张子图形；从所述若干张子图形中确定目标子图形；对所述目标子图形进行调整得到所述目标UI图形。
一种 ui 图形生成方法系统装置计算机存储介质

[发明专利]一种随机图形训练集、全息图的生成方法及系统-CN202210953313.3在审
发明人：闫兴鹏;刘新蕾;汪熙;荆涛;蒋晓瑜;陈卓;宋橙 -专利权人：中国人民解放军陆军装甲兵学院
申请日： 2022-08-10 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G06V10/774 文献下载
摘要：本发明涉及一种随机图形训练集、全息图的生成方法及系统，具体涉及图像处理技术领域。所述随机图形训练集生成方法包括：随机生成多个图形集，每个所述图形集均包括一个正方形、一个圆形和一个正三角形；对所述图形集内的各图形分别进行渐变填充得到渐变图形集；对所述渐变图形集中各图形分别进行设定次数的平移变换得到所述图形集对应的随机图形，确定所有图形集对应的随机图形为随机图形训练集。
一种随机图形训练全息图生成方法系统

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