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[发明专利]一种曝光光路复现、光栅复现方法-CN202310674013.6有效
发明人：董文浩;赵宇暄;石磊;孟祥峰 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-06-08 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光光路复现、光栅复现方法，曝光光路复现方法包括如下步骤：获取参考光栅，参考光栅采用第一曝光光路曝光；利用所述参考光栅搭建第二曝光光路，使得第二曝光光路复现所述第一曝光光路。由于在制作不同光栅周期的光栅时，需要基于光栅周期搭建特定的曝光光路，所以本发明的方法可以复现特定光栅周期的特定曝光光路，进而通过特定光栅周期的曝光光路复现特定光栅周期的光栅。
一种曝光复现光栅方法

[发明专利]曝光设备-CN200780045723.1在审
发明人：汉斯·奥普韦 -专利权人：克列奥机械制造股份公司
申请日： 2007-12-07 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于在布置在物体上的感光层中产生曝光结构的曝光设备，包括载物台和曝光装置，其中，载物台和曝光装置在进给方向上可彼此相对运动，并且其中，借助曝光装置可横向于进给方向地在感光层上位置控制地产生曝光光斑，为了如此改进该曝光设备，以使得尽可能高的曝光功率可供使用，也就是说每个单位时间能够产生尽可能大数量的曝光光斑，提出，曝光装置具有至少一个曝光单元，所述曝光单元具有一排在排列方向上相互跟随地布置的辐射出口区域，从所述辐射出口区域射出曝光光束，由这些曝光光束通过将每一个曝光光束引导穿过成像镜头而可以在感光层上产生曝光光斑，并且曝光光束中的每一个都可由偏转单元在横向于排列方向延伸的偏转方向上偏转，从而借助每个曝光光束在偏转方向上在若干相互跟随的曝光光斑位置上可产生彼此至少部分重叠的曝光光斑
曝光设备

[实用新型]一种设有新型曝光组件的曝光机-CN201921960700.X有效
发明人：陈水波 -专利权人：广东柔印机械有限公司
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种设有新型曝光组件的曝光机，包括机架，机架上设有曝光平台，曝光平台上设有曝光板组件，曝光板组件一面上设有多排相互平行的曝光光源，同一排的曝光光源包括若干间隔设置且相互串联的曝光灯珠，相邻的曝光光源上的曝光灯珠相互错开设置本实用新型曝光板组件一面上设有多排相互平行的曝光光源，同一排的曝光光源包括若干间隔设置且相互串联的曝光灯珠，相邻的曝光光源上的曝光灯珠相互错开设置，使得柔性版在曝光的过程中效果更佳，且当其中某排曝光光源出现问题时，也不会影响柔性版的整体曝光效果，十分实用，大大减少了因光源出现问题而导致的麻烦。
一种设有新型曝光组件

[发明专利]曝光设备-CN201710145195.2在审
发明人：朱美娜 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光设备，其包括多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。本发明的曝光设备能够在一个生产节拍周期内使用多块平面曝光光罩对多块基板进行曝光，同时能够全部利用光源提供的曝光光线，从而可以提高曝光效率，同时避免能源的浪费。
曝光设备

[发明专利]全自动高速平行光曝光装置-CN202211186536.8在审
发明人：余燕青;杜志航;周朝平 -专利权人：东莞市友辉光电科技有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了全自动高速平行光曝光装置，包括上料机械手，所述上料机械手的顶部固定连接有来料拉带。本发明通过上料机械手、来料拉带、阵列工位、相机移动机构、曝光工位、曝光光源、出料机械手、出料拉带、翻转机构、反面上料机械手、反面阵列工位、反面曝光工位、反面曝光光源和出料工位的配合使用，能够大大提高HJT光伏电池铜基金属化曝光作业生产效率，且便于控制曝光光罩GAP，从而保证曝光精度，如果使用大面积曝光光罩，曝光光罩会因为重力变形，各个HJT电池基片位置的光罩GAP很难保证一致，且本装置曝光的方式可以是曝光工装定速移动通过曝光光源，也可以是曝光光源定速移动通过曝光工装，或者将曝光工装暂停在曝光光源下完成。
全自动高速平行曝光装置

[发明专利]一种曝光装置以及曝光方法-CN202210400131.3在审
发明人：嵇明明 -专利权人：广州广芯封装基板有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种曝光装置以及曝光方法，曝光装置包括：曝光机台；曝光光源，曝光光源与曝光机台相对设置；其中，曝光机台靠近曝光光源的一侧表面为曝光台面，用于放置待曝光板件；曝光台面上设置有补光层。本申请通过在曝光机台靠近曝光光源的曝光台面上设置补光层，能够在曝光光源自上而下照射待曝光板件和补光层时，使补光层透过待曝光板件的靶标通孔从下至上发光，从而增加了靶标通孔的轮廓清晰度，继而提高了对靶标的识别精度以及降低了拒曝光率
一种曝光装置以及方法

[发明专利]曝光方法及装置-CN200510081797.3无效
发明人：桥口昭浩 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-04-29 - 公布日： 2006-05-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用在副扫描方向上排列有多列曝光头列的曝光部进行曝光的曝光方法，通过延长曝光光源寿命、延长更换周期来实现成本降低，通过对射出曝光光线的激光模块的驱动控制，能够照射或停止曝光头列(163a、163b)单元的曝光光线，在感光材料(150)上不存在曝光头列(163b)所照射的曝光光线的照射范围的情况下，通过驱动控制激光模块来停止该曝光头列(163b)的曝光光线的照射。
曝光方法装置

[发明专利]一种全息光栅的曝光方法及曝光光路-CN201410038074.4有效
发明人：周倩;倪凯;田瑞;逄锦超;许明飞;董昊;张锦超 -专利权人：清华大学深圳研究生院
申请日： 2014-01-26 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种全息光栅的曝光方法及曝光光路，曝光方法包括调节两个曝光光源的位置，形成曝光光路的步骤：（1）确定两个曝光光源的初始位置；（2）计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数；（3）在初始光路中设置补偿镜；（4）根据补偿镜的位置调节曝光光源的位置至新位置；（5）计算仿真的新光路工作后形成光栅的成像质量参数；（6）判断步骤（5）的成像质量参数与步骤（2）的成像质量参数的差值是否相当。在是相当的条件下，将新位置作为曝光光源的最终位置；将新位置下对应的新光路作为最终的曝光光路。本发明的曝光方法及曝光光路，可在不影响光栅制作要求和成像要求的前提下有效地解决曝光光源之间的距离过近的问题。
一种全息光栅曝光方法

[发明专利]边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置-CN201910384249.X有效
发明人：李策;张文轩;蒋龙;尤飞;廖飞;张丛雷;徐哲 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-05-09 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。边缘曝光装置，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。
边缘曝光装置方法显示显示装置

[发明专利]一种用于曝光机的曝光光头标定方法及标定装置-CN202110043203.9有效
发明人：程刚;陈东;项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于曝光机的曝光光头标定方法，包括以下步骤：步骤1、移动光敏标定板至曝光光头下方，然后所有曝光光头在光敏标定板上曝光出标定图案；步骤2、通过对准相机对光敏标定板上的标定图案进行检测；步骤3、根据步骤2中的检测结果计算所有曝光光头的相对位置，进而完成一次曝光光头的位置标定，本申请通过在吸盘上设置有光敏标定板，曝光光头在标定时保持位置不动，所有光头一次性同时在光敏标定板上面爆光出标定图案，然后利用对准相机抓取上述曝光光头在光敏标定板上面爆光的标定图案，以此来计算标定各个曝光光头的相对位置关系，因而避免了曝光光头由于质量很重在移动过程中不可避免的较大运动误差。
一种用于曝光光头标定方法装置

[发明专利]曝光头和曝光装置-CN201280071476.3有效
发明人：梶山康一;水村通伸 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2012-03-19 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的曝光头包含以下部分：透明基板；多个曝光光源，其形成于上述透明基板，辐射曝光光；聚光透镜，其使来自上述曝光光源的曝光光会聚到上述曝光对象物上；摄像机构，其配置于隔着上述透明基板与上述聚光透镜相反的一侧，对上述曝光对象物进行摄像；以及控制机构，其基于由上述摄像机构摄像得到的图像信息，控制上述曝光光源的点亮。另外，本发明的曝光装置包含本发明的曝光头。根据这样的构成，能够提高曝光对象物的对位精度，使曝光对象物的曝光精度提高。
曝光装置

[发明专利]光刻系统中的实时配准-CN202080050319.9在审
发明人：厄于温·塔菲约德;特龙·约尔根森;恩德雷·柯克霍恩;罗伊·阿尔梅达尔 -专利权人：维斯泰克公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于在光刻印刷期间实时测量参考点的装置，包括提供曝光光束的光源、根据曝光图案调制曝光光束的光调制器、被配置为测量预先布置在基板上的多个对准标记的位置的测量系统，以及包括控制单元的曝光光学系统。曝光光学系统将调制曝光光束作为由光调制器提供的图像传送到基板上，并且曝光系统控制单元被配置为基于对准标记的位置计算基板的方位并控制相对于计算出的基板方位的调制曝光光束的传送。
光刻系统中的实时

[发明专利]曝光装置及曝光方法-CN200680019632.6无效
发明人：小森一树;石川弘美;大森利彦;冈崎洋二;马场智之 -专利权人：富士胶片株式会社;富士能株式会社
申请日： 2006-05-30 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置及曝光方法，能高精度地投影曝光图像。作为曝光装置的构成元件，具备：射出曝光光的光源；DMD，其上二维状排列多个像素部，基于图像信号按每个像素部对从光源入射到多个像素部的曝光光进行空间光调制；远心光学系统，其被配置在入射到DMD的曝光光的光路上，使曝光光的主光线平行。
曝光装置方法

[发明专利]一种3D打印装置及其打印方法-CN202211084106.5在审
发明人：孙保福;宋素霜 -专利权人：珠海横琴美加澳光电技术有限公司
申请日： 2022-09-06 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B29C64/277 文献下载
摘要：本发明公开了一种3D打印装置及其打印方法，3D打印装置包括：光源调制模块和曝光光束导光换向模块，光源调制模块用于调制光源以形成曝光光束；曝光光束导光换向模块用于传导曝光光束并能将曝光光束沿至少两个路径照射到打印平面，曝光光束经过所有路径后照射到打印平面的曝光固化面所拼接的图形构成该层完整的打印图形，并且曝光光束经过每一路径到达打印平面的光程相等；本发明利用了光线经过偏振分光棱镜和偏振态调控液晶板的物理特性，通过改变曝光光束的传导路径，使得一个发光部件能在多个位置曝光，该过程无需通过部件的机械移动或变化实现，能有效提高精度，并提高使用的稳定性及寿命，带来更好的使用体验。
一种打印装置及其方法

[实用新型]一种可扩大打印幅面的3D打印装置-CN202222363410.5有效
发明人：孙保福;宋素霜 -专利权人：珠海横琴美加澳光电技术有限公司
申请日： 2022-09-06 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B29C64/135 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可扩大打印幅面的3D打印装置，包括：光源调制模块和曝光光束导光换向模块，光源调制模块用于调制光源以形成曝光光束；曝光光束导光换向模块用于传导曝光光束并能将曝光光束沿至少两个路径照射到打印平面，曝光光束经过所有路径后照射到打印平面的曝光固化面所拼接的图形构成该层完整的打印图形，并且曝光光束经过每一路径到达打印平面的光程相等；本实用新型利用了光线经过偏振分光棱镜和偏振态调控液晶板的物理特性，通过改变曝光光束的传导路径，使得一个发光部件能在多个位置曝光，该过程无需通过部件的机械移动或变化实现，能有效提高精度，并提高使用的稳定性及寿命，带来更好的使用体验。
一种扩大打印幅面装置

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