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[发明专利]光学测量-CN97196506.4无效
发明人： M·G·索梅克;C·W·西伊;刘书钢 -专利权人：英国技术集团国际有限公司
申请日： 1997-05-16 - 公布日： 1999-08-11 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：用于相位反衬显微镜或椭圆率测量的装置有带有分束器(HDE)的相干辐射源,以获得射向测试表面的干涉光束和参考光束。物镜接收两路散射或反射光束,合束后提供表示表面结构的光信号。
光学测量

[实用新型]光学测量装置-CN202122543177.4有效
发明人：汪睿;王永超 -专利权人：奕目（上海）科技有限公司
申请日： 2021-10-20 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种光学测量装置，光学待测物装载组件、位移组件及至少两种光学测量组件；光学待测物装载组件设置在位移组件上，光学待测物装载组件通过位移组件进行移动；光学待测物装载组件用于装载固定光学待测物；光学测量组件用于测量光学待测物；位移组件带动所述光学待测物装载组件移动的预设范围至少覆盖各个光学测量组件的测量区域。本实用新型通过多种光学测量组件对不同的待测件进行测量，实现较为方便的光学测量。
光学测量装置

[实用新型]用于测量装置的光学传感器和测量系统-CN201720451603.2有效
发明人：托马斯·延森;P·艾尔格;J·沙尔多南;L·雷梅鲁伯尔;A·纳尔杜利 -专利权人：特莎有限公司
申请日： 2017-04-26 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：用于测量装置的光学传感器和测量系统。一种用于测量装置的光学传感器(1、1’)，具有：光学机械耦合单元，该光学机械耦合单元适于提供光学传感器(1、1’)到测量装置的自动耦合，并且适于提供测量辐射在测量装置与光学传感器(1、1’)之间的双向传输；和第一光学测量通道，借助于其能够提供测量辐射在测量装置与光学传感器(1、1’)的第一出射窗(21a)之间的双向传输；第二光学测量通道，借助于其能够提供测量辐射在测量装置与光学传感器(1、1’)的第二出射窗(21b)之间的双向传输；和开关(10、10’)，该开关用于进行对测量辐射的传输的提供的受控改变，改变至少能够在第一光学测量通道或第二光学测量通道之间提供。
光学传感器测量装置光学测量双向传输测量辐射测量系统光学机械耦合单元出射窗自动耦合受控传输

[发明专利]一种实现高度误差分离的形貌测量装置及方法、系统-CN202210131938.1在审
发明人：程方;张岩;崔长彩;苏杭;陈涛;葛明鑫;周东方;邹彤;余卿 -专利权人：华侨大学
申请日： 2022-02-14 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种实现高度误差分离的形貌测量装置及方法、系统，包括二维运动模组、配置在二维运动模组上测量桥组件和高度误差分离模块；高度误差分离模块包括外置基准光学平晶和误差光学测量组件，外置基准光学平晶固定在误差光学测量组件上端，误差光学测量组件配置在测量桥组件第一端面，外置基准光学平晶下表面与误差光学测量组件上表面耦合形成薄膜气隙，测量桥组件随二维运动模组作二维直线运动，带动误差光学测量组件作二维运动；误差光学测量组件配置为将外置基准光学平晶下表面与误差光学测量组件发生靠近或远离位移转值；位移转值用于补偿测量桥组件采集待测工件形貌值。旨在解决现有光学三维测量方案存在测量精度低，成本高昂的问题。
一种实现高度误差分离形貌测量装置方法系统

[实用新型]一种实现高度误差分离的形貌测量装置及其系统-CN202220289302.5有效
发明人：程方;张岩;崔长彩;苏杭;陈涛;葛明鑫;周东方;邹彤;余卿 -专利权人：华侨大学
申请日： 2022-02-14 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种实现高度误差分离的形貌测量装置及其系统，包括二维运动模组、配置在二维运动模组上测量桥组件和高度误差分离模块；高度误差分离模块包括外置基准光学平晶和误差光学测量组件，外置基准光学平晶固定在误差光学测量组件上端，误差光学测量组件配置在测量桥组件第一端面，外置基准光学平晶下表面与误差光学测量组件上表面耦合形成薄膜气隙，测量桥组件随二维运动模组作二维运动，带动误差光学测量组件作二维运动；误差光学测量组件配置为将外置基准光学平晶的下表面与误差光学测量组件发生靠近或远离位移转值；位移转值用于补偿测量桥组件采集待测工件的形貌值。旨在解决现有光学三维测量方案存在测量精度低，成本高昂的问题。
一种实现高度误差分离形貌测量装置及其系统

[发明专利]用于校准光学测量系统的方法和光学测量系统-CN202180029549.1在审
发明人： M·J·詹森;刘平 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G01B9/02055 文献下载
摘要：本发明提供一种用于校准光学测量系统的方法，所述光学测量系统可以是外差干涉仪系统，其中，第一光学轴线和第二光学轴线具有不同的光学路径长度，所述方法包括：使用第一测量束测量沿着所述第一光学轴线的第一测量值；使用第二测量束测量沿着所述第二光学轴线的第二测量值；改变所述第一测量束和所述第二测量束的波长，使用具有改变后的波长的所述第一测量束测量沿着所述第一光学轴线的另外的第一测量值；使用具有改变后的波长的所述第二测量束测量沿着所述第二光学轴线的另外的第二测量值；基于被测量值来确定所述光学测量系统的循环误差；以及基于所述循环误差来储存校正值。
用于校准光学测量系统方法

[发明专利]光学测量装置-CN201310237895.6有效
发明人：王威;颜孟新;周忠诚 -专利权人：明达医学科技股份有限公司
申请日： 2013-06-17 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：本发明提供一种光学测量装置，用于测量物体的表面特性，光学测量装置包含光学穿透模块、光学测量模块及数据处理模块。光学穿透模块设置于物体的前方并具有至少一光学系数。光学测量模块传送至少一光信号穿透光学穿透模块并射至物体的表面，且经表面反射后的至少一光信号穿透光学穿透模块而形成回馈信号，光学测量模块接收回馈信号。数据处理模块耦接于光学测量模块，其中数据处理模块根据回馈信号与至少一光学系数得到表面特性。
光学测量装置

[发明专利]光学元件的界面测量方法和设备-CN202080018726.1在审
发明人：吉莱斯·弗莱斯阔特;西尔万·珀蒂格朗德 -专利权人： FOGALE纳米技术公司
申请日： 2020-03-02 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：一种用于测量形成包括称为“参考”光学元件的至少一个光学元件的多个类似光学元件的一部分的待测量光学元件(5)的界面的设备和方法(100)，该方法(100)包括以下步骤：所述参考光学元件和测量光束(11)的相对定位(102)；获取(104)“参考”图像；相对于视场定位(106)待测量光学元件(5)，以允许获取“测量”图像；确定(107)所述待测量光学元件(5)相对于参考光学元件的位置差别；调整(110)所述待测量光学元件(5)的位置，以消除所述位置差别；以及，借助于所述测量光束(11)来测量(112)待测量光学元件(5)的界面。
光学元件界面测量方法设备

[发明专利]一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备-CN202310820151.0在审
发明人：窦华成;田芳馨;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2023-07-06 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备，所述光学测量装置包括：在线光学测量组件和参考光学测量组件，所述在线光学测量组件包括用于测量晶圆的非金属膜厚的第一光学传感器和第一窗口，所述参考光学测量组件包括用于获得校准光强的第二光学传感器
一种用于 cmp 光学测量装置化学机械抛光设备

[实用新型]组合式电容性和光学清纱器测量单元-CN201120392710.5有效
发明人：汉斯鲁迪·万普费尔 -专利权人：乌斯特技术股份公司
申请日： 2011-10-14 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： D01H13/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种组合式电容性和光学清纱器测量单元(1)，包括具有光学测量元件(3)和电容性测量元件(2)的组合式传感器体部。光学测量元件(3)的光学元件体部具有光学测量槽(4)，电容性测量元件(2)的电容性元件体部具有电容性测量槽(5)。具有光学测量槽(4)的光学测量元件(3)以及具有电容性测量槽(5)的电容性测量元件(2)沿纵向相互靠近，且待测纱线沿该纵向行经测量槽(4，5)。光学测量槽的宽度(Wo)大于电容性测量槽的宽度(Wc)。
组合式电容光学清纱器测量单元

[发明专利]用于测量焦炭塔变形的方法和系统-CN202180084220.5在审
发明人： J·C·巴克利;R·J·克拉克 -专利权人：阿美科福斯特惠勒电力集团美国公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B01J3/03 文献下载
摘要：一种焦炭塔测量系统包括耦合到焦炭塔的上部外表的第一目标和大体上垂直于第一目标布置的第二目标。第一光学测量设备被布置成可视化第一目标并且测量第一光学测量设备和第一目标之间的距离。第二光学测量设备被布置成可视化第二目标并且测量第二光学测量设备和第二目标之间的距离。处理器电耦合到第一光学测量设备和第二光学测量设备。处理器从第一光学测量设备和第二光学测量设备接收对应于焦炭塔的移动的信号。处理器聚合从第一光学测量设备和第二光学测量设备接收的信号以确定焦炭塔的总移动。
用于测量焦炭变形方法系统

[实用新型]光学辐射测量单元-CN201721710152.6有效
发明人：雷正伟;牛刚;夏明飞;甄红涛;张东;刘海涛;郭晓冉 -专利权人：中国人民解放军63908部队
申请日： 2017-12-11 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学辐射测量单元，涉及光学辐射测量和标定的装置技术领域。所述测量单元包括测量单元外壳、光管外壳、管上夹座、燕尾座、光管座、透镜、分光棱镜、CCD探测单元、光谱仪单元、CCD探测单元座、光谱仪座、棱镜座和棱镜压片。利用标定后的光学辐射标准单元将光学辐射量值传递给光学辐射测量单元，实现光学辐射测量单元的光电测量特性的标定；然后将光学辐射测量单元的光学系统对准被测对象（各种光学辐射输出装置如各类光源），通过测量被测对象的光学辐射量值和光谱特性，从而实现被测对象光学辐射输出特性的标定。且所述光学辐射测量单元具有小型化，自动化等优点。
光学辐射测量单元标定被测对象测量透镜测量单元外壳装置技术领域本实用新型光谱仪单元光谱仪标准单元分光棱镜光电测量光谱特性光学系统量值传递输出特性输出装置光管座棱镜座上夹座燕尾座棱镜光管压片光源对准自动化

[发明专利]一种非接触光学元件中心厚度测量装置及测量方法-CN201510962259.9在审
发明人：刘钰;苗亮;张文龙;马冬梅;金春水 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：一种非接触光学元件中心厚度测量装置及测量方法，涉及光学测量领域，解决了现有测量方法存在的误差大、测量过程复杂的问题。该方法为：在被测光学元件上面及下面均放置一块光学平板，将两块光学平板与被测光学元件调平行，利用镜面定位仪测量上光学平板下表面与下光学平板上表面之间的距离d1，然后将需要测量的光学元件放置在上光学平板与下光学平板之间，测量上光学平板下表面与被测光学元件上表面中心的距离d2以及下光学平板上表面与被测光学元件下表面中心的距离d3，被测光学元件的中心厚度d即为d＝d1-d2-d3。本发明可在无需知道被测光学元件材料折射率情况下就能对被测光学元件中心厚度进行非接触测量，具有快速、简单、精度高等优点。
一种接触光学元件中心厚度测量装置测量方法

[发明专利]一种光学测量辅件及制备方法与应用-CN201811139775.1有效
发明人：刘勇;王贻坤;倪敬书;王全福;王霞;张元志;张洋;朱守明 -专利权人：安徽易康达光电科技有限公司;中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： C11D1/72 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学测量辅件及制备方法与应用，属于光学和医疗卫生领域，光学测量辅件包含光学测量辅件液和光学测量辅件载体两部分：光学测量辅件液是由用于特异性标记的荧光剂、用于消毒杀菌作用的消毒剂、用于提高光学清透作用的清透剂和增加溶解性能的助溶剂等部分组成；光学测量辅件载体为不含荧光剂的木浆纸或无纺布。光学测量辅件液和光学测量辅件载体的质量比为2‑7:1。光学测量辅件的制作方法，是将光学测量辅件液中的各组分按照一定的质量比例混合溶解后，再通过喷淋或将载体置于光学测量辅件液中吸收饱和，进行密封包装。本发明用于皮肤和元器件表面的光学标记、清透以及消毒，尤其适用于光学测量仪器在医疗健康领域的应用。
一种光学测量制备方法应用

[发明专利]光学测量设备-CN201010110472.4无效
发明人：谢孟颖;余威征;何孝恒;张谦成;陈志升;张玉清 -专利权人：隆达电子股份有限公司
申请日： 2010-02-03 - 公布日： 2010-07-07 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开一种光学测量设备，用于测量至少一个待测件的厚度，此光学测量设备包括基座、光学测量模块、转动件及控制模块。光学测量模块及转动件均配置于基座上。转动件用于承载待测件并带动待测件转动。控制模块配置于基座上且电性连接至光学测量模块及转动件。控制模块适于控制光学测量模块与转动件相对移动，使光学测量模块对准待测件，并控制转动件转动，以测量待测件的厚度。上述光学测量设备可提高测量精准度及效率。
光学测量设备

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