专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硅膜及其两步制备方法和用途-CN201710160471.2有效
  • 刘恩秀;张福生;郑旭东;刘恩利;闫永胜 - 江苏大学
  • 2017-03-17 - 2020-06-26 - B01J20/28
  • 本发明提供了一种硅膜及其两步制备方法和用途,制备方法如下:将棉花置于硫酸溶液中,搅拌反应,完毕后取出,用蒸馏水稀释,静置分层;对下层悬浊液离心分离,洗涤;将离心后的悬浊液透析,调pH,超声,得到纳米晶纤维素;将纳米晶纤维素超声,置于圆底烧瓶中,加入葡萄糖,搅拌均匀,加入硅酸四乙酯,搅拌,干燥,得到硅膜A;将硅膜A煅烧,得到硅膜B;将硅膜B置于甲苯中,通氮气后滴加三乙胺,再通氮气后,滴加二乙基磷酰乙基三乙氧基硅烷,密封,振荡,得到硅膜C;将硅膜C置于浓盐酸中反应,得到硅膜D;冲洗硅膜D,烘干后得到最终的硅膜。
  • 一种介孔硅膜及其制备方法用途
  • [发明专利]一种多维催化极板及其制备方法-CN202210259395.1有效
  • 马丹燕;姚娇娇;卢敏;石云峰 - 广州市金龙峰环保设备工程股份有限公司
  • 2022-03-16 - 2022-10-11 - H01M8/16
  • 本发明公开了一种多维催化极板及其制备方法,包括以下步骤:将植物原料剪碎后在惰性气体中煅烧;在煅烧后的植物原料中加入金属氧化物,研磨得到混合物;将混合物在蒸汽下煅烧,得到生物质材料;将生物质材料、钛粉、纤维、水和硝酸混合均匀,得到半固体前驱体;将半固体前驱体涂抹在磨具中,经过微波烧结得到电极板;将电极板放入电解液进行电镀;将电镀后的电极板进行干燥,得到多维催化极板。本技术方案提出的一种多维催化极板及其制备方法,有利于延长多维催化极板的使用寿命及提升多维催化极板的催化效果,解决现有技术中存在的极板使用寿命短、处理效率低和电耗大的技术问题。
  • 一种多维催化极板及其制备方法
  • [发明专利]内埋式电子元件封装结构-CN201210572078.1无效
  • 卓瑜甄;郑伟鸣 - 欣兴电子股份有限公司
  • 2012-12-25 - 2014-07-02 - H01L23/552
  • 本发明公开一种内埋式电子元件封装结构,包括一核心层、一电子元件、一第一电层、一第二电层以及多个导通。核心层具有一开、一第一表面及相对第一表面的一第二表面。电子元件设置于开中。第一电层设置于第一表面上,并填入开中,且覆盖电子元件的一侧。第一电层未填满开。第二电层设置于第二表面上,并填入开中,且覆盖电子元件的另一侧,并与第一电层相接合。第一电层及第二电层完整包覆该电子元件。导通分别围绕电子元件的周围设置并贯穿第一电层、第二电层及核心层,且导通分别连通第一电层及第二电层。
  • 内埋式电子元件封装结构
  • [发明专利]半导体结构的制作方法及半导体结构-CN202110547801.X在审
  • 卢经文 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-05-19 - 2022-11-22 - H01L21/8242
  • 本发明提出一种半导体结构的制作方法及半导体结构,半导体结构的制作方法包含:提供一衬底,衬底表面设置有第一电层,第一电层表面设置多个第一;在第一中填充牺牲层而形成柱体;部分去除第一电层,以使柱体部分露出;在柱体的露出部分的表面设置第二电层,多个柱体侧面的第二电层之间形成过渡;去除第二电层,在对第二电层的侧壁的去除过程中使得过渡形成第二,再将第二转移至第一电层,使得剩余的第一电层具有第二和第一的剩余部分;将第一和第二的图案向下反向转移至衬底。
  • 半导体结构制作方法
  • [发明专利]一种闭氧化硅及其制备方法-CN201210106539.6无效
  • 梁国正;单伟;顾嫒娟;袁莉 - 苏州大学
  • 2012-04-12 - 2012-08-15 - B01J20/10
  • 本发明公开了一种闭氧化硅及其制备方法。利用多氯硅烷对干燥的氧化硅进行处理,制备表面含氯基团的氧化硅,再将其与多面体倍半硅氧烷和多氯硅烷反应,得到粗产物,经洗涤、干燥后,在230~300℃的温度条件下煅烧,得到一种闭氧化硅,它由多面体倍半硅氧烷在氧化硅的外表面及孔口形成包覆层它不仅保留了氧化硅的内部孔道,且通过多面体倍半硅氧烷结构将氧化硅闭,获得更大的比表面积和更多的空隙,有利于降低材料介电常数和提高氧化硅吸附性能,从而保证了氧化硅最大程度发挥制备低介电常数材料的优势
  • 一种氧化及其制备方法

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