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- [发明专利]薄膜太阳电池及其制造方法-CN201110183001.0有效
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李贵君;王明华;牛新伟;周曦;丁建;杨立友
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浙江正泰太阳能科技有限公司
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2011-06-30
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2011-11-23
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H01L31/20
- 本发明的制造方法包括:提供一衬底,在衬底上形成透明导电氧化物层;在该透明导电氧化物层上形成包括N型掺杂层,非晶硅本征吸收层和P型掺杂层的PiN结或NiP结;在PiN结或NiP结上形成背电极层;其特征在于:在所述PiN结或所述NiP结中的P型掺杂层和非晶硅本征吸收层之间,形成界面缓冲层,所述界面缓冲层包括与P型掺杂层接触的非晶硅碳层缓冲层和与非晶硅本征吸收层接触的Protocrystalline阻挡层;所述Protocrystalline阻挡层为处于非晶硅/微晶硅过渡区域的靠近非晶硅一侧的非晶硅薄膜。本发明解决了现有薄膜太阳电池缓冲层的缺陷,有效解决了碳元素和硼元素的扩散问题以及温度切换带来的问题,具有大规模应用的前景。
- 薄膜太阳电池及其制造方法
- [发明专利]一种钝化接触结构制备方法和具有钝化接触结构的晶体硅-CN202110130675.8有效
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杜哲仁;赵影文;杨俊楠;张志郢;季根华
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泰州中来光电科技有限公司
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2021-01-29
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2022-10-04
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H01L31/18
- 一种钝化接触结构制备方法,在晶体硅上形成SiOx/AlOx/p‑poly的三层式钝化接触结构,包括:S1:对晶体硅片进行预处理;S2:在预处理后的晶体硅片表面制备AlOx薄膜;S3:在制备完AlOx薄膜的晶体硅片表面再制备非晶硅薄膜,非晶硅薄膜为本征非晶硅薄膜或掺硼非晶硅薄膜;S4:对本征非晶硅薄膜进行硼掺杂处理,本征非晶硅薄膜形成p‑poly层,借助硼掺杂处理中的退火过程,通入过量氧气,在AlOx薄膜下方的晶体硅上形成一层致密SiOx层;或对掺硼非晶硅薄膜进行退火处理,掺硼非晶硅薄膜形成p‑poly层,借助退火过程,通入过量氧气,在AlOx薄膜下方的晶体硅上形成一层致密SiOx层;S5:清洗BSG。本发明可省去单独制备SiOx层的工序,且带负电荷AlOx薄膜的存在可增强p‑poly硅的载流子选择性,从而增强钝化效果。
- 一种钝化接触结构制备方法具有晶体
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