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- [发明专利]一种栓剂灌封机灌装系统及方法-CN202111341380.1有效
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吕国强;何井亮;郑涛
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江苏远恒药业有限公司
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2021-11-12
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2023-10-24
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B65B1/04
- 本发明公开一种栓剂灌封机灌装系统及方法，包括调整室，所述调整室顶部固定安装有存放机构，所述调整室内壁顶部固定安装有灌装机构，所述灌装机构设置于存放机构下方，所述调整室两侧内壁均设置有输送机构，所述调整室顶部转动安装有封盖机构，所述存放机构包括存放室，所述存放室外壁顶部固定安装有推料气缸。本发明通过中空板、侧滑板、连接辊、伸缩簧的配合设计，在中空板与侧滑板进入存放室的下半部分时，保证两个侧滑板可以相向滑动，继续向下推料，通过伸缩簧的设置，在中空板上升后，伸缩簧可以将侧滑板及时推回至原位置，避免了当存放室下半部分为锥形结构，无法继续向下推料的技术问题。
- 一种栓剂机灌系统方法
- [发明专利]一种全息波导显示装置-CN202310976369.5在审
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吕国强;郭敏;蔡佳豪;郭裕嵩;冯奇斌;王梓
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合肥工业大学
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2023-08-03
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2023-10-20
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G02B27/01
- 本发明提供一种全息波导显示装置，属于波导显示技术领域，本发明的全息波导显示装置包括：显示模组和波导。其中，显示模组生成入射光束，波导的入光端设置耦入全息光栅，出光端设置耦出全息光栅，波导在出光端设置相位校准器，相位校准器位于耦出全息光栅的衍射光路上；耦入全息光栅将入射光束衍射为全反射光束，并使全反射光束向出光端全反射传输；耦出全息光栅将全反射光束衍射为出射光束；出射光束经相位校准器调制后从波导内出射；相位校准器补偿出射光束相对于入射光束的显示像差。本全息波导显示装置，通过设置相位校准器来补偿出射光束边缘视场能量衰减，进而提高出射光束显示图像的均匀度以及有效视场角大小。
- 一种全息波导显示装置
- [发明专利]一种全息波导显示装置-CN202310983479.4在审
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冯奇斌;郭裕嵩;蔡佳豪;吕国强;王梓
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合肥工业大学
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2023-08-07
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2023-10-20
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G02B27/01
- 本发明提供了一种全息波导显示装置，属于波导显示装置技术领域。本发明包括：微显示器、准直透镜、波导、入耦合体全息光栅、出耦合体全息光栅、二次准直元件和二次发散元件，二次准直元件密接于入耦合体全息光栅一端，用于减小射入波导的光线角度；二次发散元件密接于出耦合体全息光栅一端，且与二次准直元件镜像对称，用于还原射出波导的光线角度。本发明通过二次准直元件将射入波导的准直光束角度收窄、通过二次发散元件还原射出波导的光线角度，一方面能够抑制体全息光栅的角度选择性，有效提高边缘视场的衍射效率，避免边缘图像信息缺失，使耦出的图像完整且成像均匀；另一方面可以减小边缘光线在波导内的传播周期，便于实现出瞳扩展。
- 一种全息波导显示装置
- [发明专利]一种硅片的清洗工艺-CN202310860314.8在审
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陈秀华;李绍元;马文会;席风硕;吕国强;万小涵;魏奎先;伍继君
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云南大学
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2023-07-13
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2023-09-05
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B08B3/02
- 本发明公开的一种硅片的清洗工艺，喷淋时设置两个喷嘴，所述两个喷嘴同时对硅片两面进行喷淋清洗，每个喷嘴的水压为0.01～0.1Mpa，流量为0.5～1L/min,喷嘴与硅片间隔为5～10cm，去离子水温为20～40℃，喷淋时间为30～60s。所述喷淋包括如下步骤：步骤一，利用去离子水喷淋清洗硅片表面；步骤二，利用含有表面活性剂、螯合剂的清洗液配合超声对硅片表面进行清洗；步骤三，利用电化学清洗法对硅片表面进行清洗；步骤四，利用去离子水浸泡清洗硅片表面。本发明采用电化学法清洗硅片，电解液中大量的‑HO被氧化后能生成大量羟基自由基，这种氧化性极强的自由基很容易将有机物氧化分解为H2O和CO2，同时还可将W氧化为WO3,最终WO3与电解液中的NaOH反应生产溶于水的Na2WO4。
- 一种硅片清洗工艺
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