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[实用新型]真空电弧离子镀膜设备镍铬镍硅测温装置-CN202223010057.9有效
发明人：高琳;王宇;佟鑫 -专利权人：大连金泰正新科技有限公司
申请日： 2022-11-12 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G01K7/00 文献下载
摘要：本实用新型属于一种真空电弧离子镀膜设备镍铬镍硅测温装置，包括转架（5），其特征在于支撑杆（4）固定在转架（5）上，镍铬镍硅下触点（9）固定在炉体（8）上，镍硌镍硅下触点（9）与温控表（10）连接，镍铬镍硅测温探头（1）套在探头固定管（3）内的陶瓷绝缘套（2）里，再把探头固定管（3）用卡套固定在支撑杆（4）上，通过转架（5）底部上的镍铬镍硅连接套（6）把镍铬镍硅探头（1）引线与镍铬镍硅上触点（7）连接，转架（5）落在炉体（8）上使镍铬镍硅上触点（7）与镍铬镍硅下触点（9）接触导通，并将温控数据传送给温控表（10）；该实用新型结构简单，测温更准确能真实反映镀膜产品温度，适合多种形式转架使用，有效提升产品品质，降低不良率
真空电弧离子镀膜设备镍铬镍硅测温装置

[发明专利]一种镍铬铝钇硅合金靶材的制备方法-CN202010517407.7在审
发明人：黄宇彬;朱刘;童培云;何坤鹏;钱增杰 -专利权人：先导薄膜材料（广东）有限公司
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明揭示了一种镍铬铝钇硅合金靶材的制备方法，包括以下步骤：将镍和铬混合一同置于第一真空熔炼炉内的坩埚里熔炼得到镍铬中间合金熔液；将铝和钇混合一同置于第二真空熔炼炉内的坩埚里熔炼得到铝钇中间合金熔液；将镍铬中间合金熔液、铝钇中间合金熔液和硅混合一同置于第三真空熔炼炉内的坩埚里熔炼得到镍铬铝钇硅合金熔液；将镍铬铝钇硅合金熔融液体置于石墨模具中进行离心浇铸后得到镍铬铝钇硅合金靶材铸锭；将镍铬铝钇硅合金靶材铸锭依次进行退火、去氧化、机加工后，得到镍铬铝钇硅合金靶材。本发明提供的一种镍铬铝钇硅合金靶材的制备方法，采用离心浇铸，能有效解决现有技术使用重力浇铸制合金中存在大量的缩孔和疏松等缺陷等技术问题。
一种镍铬铝钇硅合金制备方法

[发明专利]一种蚀刻液组合物及其镍铬硅薄膜的湿法刻蚀方法-CN201811099021.8在审
发明人：王进 -专利权人：绵阳致知高新科技有限责任公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种蚀刻液组合物及其镍铬硅薄膜的湿法刻蚀方法，所述的蚀刻液组合主要为硝酸铈铵、氢氟酸、十八烷基三甲基氯化铵、2—氧乙酸基丁导酸和水的混合物。与现有技术相比，本发明提出一种针对镍铬硅薄膜的蚀刻组合物，用于镍铬硅薄膜的蚀刻时，能够提高并控制蚀刻速度，并且有效抑制了光刻胶层的劣化，其结果是能够得到表面平坦光滑的蚀刻面。突破现有技术壁垒，研发出了薄膜电阻领域中镍铬硅薄膜的湿法刻蚀技术。推进镍铬硅薄膜电阻的市场化应用，为国家电子信息技术的快速发展贡献一份力量。
镍铬硅薄膜蚀刻液组合物蚀刻薄膜电阻湿法刻蚀十八烷基三甲基氯化铵电子信息技术湿法刻蚀技术蚀刻组合物表面平坦光刻胶层技术壁垒硝酸铈铵有效抑制混合物氢氟酸蚀刻面蚀刻液氧乙酸劣化光滑应用力量

[实用新型]高透镀膜玻璃-CN201620619808.2有效
发明人：刘锋;凌秀琴 -专利权人：南京苏洋玻璃有限公司
申请日： 2016-06-21 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜玻璃，属于玻璃镀膜技术领域，旨在提供一种镀膜玻璃，其能够让玻璃保持良好的透过率，其技术方案要点是一种镀膜玻璃，包括玻璃和透光基层，所述透光基层外依次设有第一硅铝层组、第一镍铬层、银层、第二镍铬层和第二硅铝层组；所述第一镍铬层和第二镍铬层的厚度均为0.4nm～0.8nm，所述第一镍铬层和银层、银层和第二镍铬层之间均设置有氧化钛层。
镀膜玻璃

[实用新型]一种减少光污染的低透射率镀膜玻璃-CN201320420933.7有效
发明人：唐华明 -专利权人：苏州华东镀膜玻璃有限公司
申请日： 2013-07-16 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种减少光污染的低透射率镀膜玻璃，包括玻璃基片，其中，所述玻璃基片上依次镀有第一四氮化三硅膜层、氧化锌膜层、第一镍铬膜层、银膜层、第二镍铬膜层和第二四氮化三硅膜层；所述第一四氮化三硅膜层和第二四氮化三硅膜层的厚度相同；所述第一镍铬膜层和第二镍铬膜层的厚度相同。
一种减少光污染透射率镀膜玻璃

[实用新型]一种快速响应的镍铬镍硅K型热电偶传感器-CN202223002744.6有效
发明人：孔德仁;熊振宇;赵传荣;徐春冬 -专利权人：南京卓砾智测控技术有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G01K7/02 文献下载
摘要：一种快速响应的镍铬镍硅K型热电偶传感器，包括传感器本体、镍铬镍硅K型热电偶丝正极、镍铬镍硅K型热电偶丝负极、氧化铝陶瓷管、隔温绝缘胶、补偿导线正极、补偿导线负极、一阶RC微分电路、并联电阻、补偿电路信号输出端本申请一种快速响应的镍铬镍硅K型热电偶传感器，该传感器具有热端小、裸露热电偶丝短、动态响应快的特点。
一种快速响应镍铬镍硅热电偶传感器

[实用新型]一种还原炉复合隔热屏及还原炉-CN201420095982.2有效
发明人：郭增昌;刘申良;孟华 -专利权人：新特能源股份有限公司
申请日： 2014-03-03 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C01B33/035 文献下载
摘要：本实用新型提供一种还原炉复合隔热屏及还原炉，包括：金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板；所述金属护板、第一镍铬基合金板、复合隔热板和第二镍铬基合金板依次抽真空层压为一体；与所述金属护板层压的第一镍铬基合金板的表面上涂覆有碳化硅涂层，利用金属护板保护第一镍铬基合金板表面的碳化硅涂层，防止其被倒下的硅棒损坏，延长隔热屏的使用寿命，并防止多晶硅生产过程中产生的氯化氢对碳化硅涂层的腐蚀，避免对还原炉气氛产生污染；利用第一镍铬基合金板进行二次热辐射，并利用复合隔热板阻止热辐射向还原炉的内壁传递，能够节能降耗，并降低硅棒中心和表面温度梯度，均匀炉内热场。
一种还原复合隔热

[发明专利]一种低电阻温度系数镍铬硅薄膜的制备方法-CN201610541355.0在审
发明人：韩建强;尹伊君;程冰;牛文举 -专利权人：中国计量大学
申请日： 2016-07-01 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C14/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种低电阻温度系数镍铬硅薄膜的制备方法。所使用靶材的组成及重量百分比为：Ni 45wt％，Cr 50wt％，Si 5wt％。溅射前对腔室抽真空至5×10‑4Pa以下，通入氩气，调节工作气压在0.2～0.6Pa范围内，采用射频磁控溅射法淀积镍铬硅薄膜，射频功率控制在140～160W范围内，溅射的镍铬硅薄膜厚度控制在60‑80nm利用本发明所涉及的低电阻温度系数镍铬硅薄膜的制备方法制备的镍铬硅薄膜在0～125℃温度范围内的电阻温度系数小于±2ppm/℃。
一种电阻温度系数镍铬硅薄膜制备方法

[实用新型]一种双通道铸铁热分析样杯-CN201520242087.3有效
发明人：李晓微;江晓明;黄丽;李辉;赵小娟 -专利权人：武昌工学院
申请日： 2015-04-21 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： G01K7/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双通道铸铁热分析样杯，包括杯体、第一样杯、第二样杯、第一镍铬-镍硅热电偶和第二镍铬-镍硅热电偶；所述第一样杯和第二样杯为设置在杯体内的空腔结构；所述第一镍铬-镍硅热电偶和第二镍铬-镍硅热电偶分别垂直设置在第一样杯和第二样杯中部
一种双通道铸铁分析

[实用新型]一种功能型可钢化低辐射镀膜玻璃-CN202220613805.3有效
发明人：田永刚;陈玉平;陈齐平 -专利权人：新福兴玻璃工业集团有限公司;福州新福兴玻璃有限公司;福建新福兴玻璃智能科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：本实用新型包括依次紧密叠合的玻璃基片、第一硅铝合金膜；第二氧化锌铝合金膜；第三镍铬合金膜；第四银膜；第五镍铬合金膜；第六氧化锌铝合金膜；第七硅铝合金膜；第八镍铬合金膜；第九硅铝合金膜；第十氧化锌铝合金膜，第十一镍铬合金膜；第十二银膜；第十三镍铬合金膜；第十四氧化锌铝合金膜；第十五硅铝合金膜；所述制备方法包括步骤：烧结靶材、玻璃的预处理、镀膜处理。
一种功能型可钢化低辐射镀膜玻璃

[实用新型]一种绕包型耐高温热电偶延长线-CN202222454502.4有效
发明人：王建斌;夏自然 -专利权人：上海杜兰特电子有限公司
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01B7/29 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种绕包型耐高温热电偶延长线，包括若干根镍硅导线和若干根镍铬导线，所述镍硅导线和镍铬导线外分别通过绝缘PTFE绕包带一绕设成两股导线，所述两股导线外依次绕设有PTFE绕包带二、编织屏蔽套和本实用新型通过在镍铬、镍硅导体，经过绕包PTFE带，烧结，对绞，编织，绕包烧结PTFE护套而成。加工后的产品具有柔软、耐腐蚀、耐温等级高特点。
一种绕包型耐高温热电偶延长线

[发明专利]一种耐高温阻燃型精密金属膜电阻器的制造方法-CN202210371838.6有效
发明人：任广;李福喜;黄明怀;王炳超;郁秋君;陈立俊 -专利权人：贝迪斯电子有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H01C17/02 文献下载
摘要：该方法主要为：先在原镍铬薄膜电阻器本体的表面蒸镀硅膜，在硅膜表面浸涂单组份甲基硅漆固化，之后在外层封装有机硅漆；硅膜的致密度高，可将镍铬薄膜与外界环境隔开，减轻镍铬薄膜热老化，在使用过程中可以保持高精度和低温漂特性；有机硅漆的基体为对氨基苯酚和甲醛在碱性环境下聚合而成的热固性酚醛树脂，具有良好的耐高温阻燃性能，对氨基苯酚先与KH560通过开环反应接枝硅氧烷，氮化铝通过KH550提高与树脂的相容性，同时引入硅氧烷，在聚合过程中硅氧烷水解，对漆面形成强化。
一种耐高温阻燃精密金属膜电阻器制造方法

[发明专利]一种功能型可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法-CN202210277944.8在审
发明人：田永刚;陈玉平;陈齐平 -专利权人：新福兴玻璃工业集团有限公司;福州新福兴玻璃有限公司;福建新福兴玻璃智能科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C03C17/36 文献下载
摘要：所述功能型可钢化低辐射镀膜玻璃包括依次紧密叠合的玻璃基片、第一硅铝合金膜；第二氧化锌铝合金膜；第三镍铬合金膜；第四银膜；第五镍铬合金膜；第六氧化锌铝合金膜；第七硅铝合金膜；第八镍铬合金膜；第九硅铝合金膜；第十氧化锌铝合金膜，第十一镍铬合金膜；第十二银膜；第十三镍铬合金膜；第十四氧化锌铝合金膜；第十五硅铝合金膜；所述制备方法包括步骤：烧结靶材、玻璃的预处理、镀膜处理。
一种功能型可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法

[发明专利]高强度镍铬硅铜合金材料及其加工工艺-CN200910248653.0有效
发明人：白继明;杨素娟;王嗣杰;李廷元 -专利权人：沈阳兴工铜业有限公司
申请日： 2009-12-23 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： C22C9/06 文献下载
摘要：高强度镍铬硅铜合金材料及其加工工艺涉及一种铜合金材料及其加工工艺，更具体地说，是涉及高强度镍铬硅铜合金材料及其加工工艺。本发明提供了一种毒性小、成本低的高强度镍铬硅铜合金材料及其加工工艺。
强度镍铬硅铜合金材料及其加工工艺

[实用新型]一种改善膜层强度的低透射率镀膜玻璃-CN201320420931.8有效
发明人：唐华明 -专利权人：苏州华东镀膜玻璃有限公司
申请日： 2013-07-16 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： B32B17/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种改善膜层强度的低透射率镀膜玻璃，包括玻璃基片，其中，所述玻璃基片上依次镀有第一四氮化三硅膜层、第一镍铬膜层、铜膜层、第二镍铬膜层、氧化锌膜层和第二四氮化三硅膜层；所述第一四氮化三硅膜层和第二四氮化三硅膜层的厚度相同；所述第一镍铬膜层和第二镍铬膜层的厚度相同。
一种改善强度透射率镀膜玻璃

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