专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]结构-CN202080009049.7在审
  • B·哈巴;R·卡特卡尔;I·莫哈梅德;J·A·德拉克鲁斯 - 伊文萨思粘合技术公司
  • 2020-01-13 - 2021-08-31 - H01L23/00
  • 结构可以包括第一重构元件,第一重构元件包括第一元件并且具有包括第一表面的第一侧以及与第一侧相对的第二侧。第一重构元件可以包括围绕第一元件的第一侧壁表面设置的第一保护材料。结构可以包括第二重构元件,第二重构元件包括第二元件并且具有包括第二表面的第一侧以及与第一侧相对的第二侧。第一重构元件可以包括围绕第二元件的第二侧壁表面设置的第二保护材料。第二重构元件的第一侧的第二表面在没有沿着界面的中间粘合剂的情况下可以被直接合到第一重构元件的第一侧的第一表面。
  • 结构
  • [实用新型]结构-CN201320878777.9有效
  • 张贺丰;邹杰 - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2013-12-27 - 2014-07-16 - H01L23/488
  • 本实用新型揭露了一种结构,包括金属层以及金属层上的焊垫,其特征在于,所述焊垫和金属层在其接触面上分别形成有凹凸相间的粘结图案,所述焊垫的粘结图案和金属层的粘结图案相互互补。这样的设计,可以增加金属层与焊垫的粘结力,从而减少缺陷的产生,提高器件良率和可靠性。
  • 结构
  • [发明专利]方法和结构-CN201910844589.6在审
  • 丁刘胜;王诗男 - 上海新微技术研发中心有限公司
  • 2019-09-06 - 2021-03-09 - B81C3/00
  • 本申请提供一种方法和结构,该方法包括:在第二基片的表面形成由导电材料形成的导电连接柱;在第一基片的表面形成由胶形成的胶图形,所述胶图形具有凹陷部,所述第一基片的部分表面从所述凹陷部露出,所述凹陷部的位置与所述导电连接柱对应,所述凹陷部的横向尺寸大于所述导电连接柱的横向尺寸,所述胶图形的厚度大于所述导电连接柱的厚度;以及将所述导电连接柱与所述凹陷部对准,在预定的温度条件下,对所述第一基片和所述第二基片施加预定的压力,使所述第一基片与所述第二基片通过所述胶图形合为一体,并且,所述导电连接柱与所述第一基片的从所述凹陷部露出的所述部分表面接触。
  • 方法结构
  • [发明专利]方法及结构-CN202310774100.9在审
  • 庄凌艺;季宏凯 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2023-06-27 - 2023-10-10 - H01L21/60
  • 本公开涉及一种方法及结构。所述方法包括如下步骤:提供第一晶圆和第二晶圆,第一晶圆包括第一介质层、以及暴露于第一介质层的表面的第一导电层,第二晶圆包括第二介质层、以及暴露于第二介质层的表面的第二导电层;对第一晶圆和第二晶圆进行表面处理,形成覆盖第一介质层的第一层、以及覆盖第一导电层的第一处理层,并形成覆盖第二介质层的第二层、以及覆盖第二导电层的第二处理层;去除第一处理层和第二处理层,并连接第一层与第二层,以及连接第一导电层和第二导电层本公开增强了结构强度。
  • 方法结构
  • [发明专利]方法以及结构-CN201510047292.9有效
  • 王之奇;王文斌;杨莹;王蔚 - 苏州晶方半导体科技股份有限公司
  • 2015-01-29 - 2017-01-04 - B81C3/00
  • 本发明提供一种方法以及结构,其中键方法包括:提供待的第一基板以及第二基板,所述第一基板以及第二基板分别具有应力;所述第一基板以及第二基板分别包括面以及相对于所述面的非面;在所述第一基板和/或第二基板的非面形成带有应力的材料层,并使所述材料层的应力与其对应的第一基板或第二基板的应力类型相反;在形成所述材料层之后,将所述第一基板和第二基板各自的面相对地设置,以将所述第一基板和第二基板相互本发明的有益效果在于,改善第一基板和第二基板之间的效果,减少基板因翘曲而报废的几率,以及基板因翘曲而在过程中被压坏的几率。
  • 方法以及结构
  • [发明专利]方法及结构-CN202011080239.6有效
  • 王丽娟;胡陈诚 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2020-10-10 - 2022-02-22 - H01L23/482
  • 本发明实施例提供了一种方法及结构。其中,所述结构包括第一介质层;贯穿第一介质层的第一沟槽;位于第一沟槽侧壁的第一阻挡层;位于沟槽中的第一导电触点;位于第一导电触点底面的第二阻挡层;第二介质层;贯穿第二介质层的第二沟槽;位于第二沟槽侧壁的第三阻挡层;位于沟槽中的第二导电触点;位于第二导电触点顶面的第四阻挡层;位于所述第一介质层和所述第二介质层之间的结合层;其中,所述第一导电触点和所述第二导电触点通过所述第二阻挡层和所述第四阻挡层的接触导电连接
  • 方法结构
  • [发明专利]晶圆结构、晶圆方法及芯片结构-CN202010762646.9有效
  • 叶国梁;易洪昇 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2020-07-31 - 2021-10-26 - H01L21/60
  • 本发明提供了一种晶圆结构、晶圆方法及芯片结构,第一晶圆包括非金属层区域和分布有所述第一金属层的金属层区域;位于非金属层区域的第一调整层低于位于金属层区域的所述第一调整层;第二调整层覆盖第一调整层化学机械研磨所述第二调整层和所述第一调整层,研磨液对第一调整层和第二调整层的研磨速率不同,使在非金属层区域剩余的第二调整层高于或低于在金属层区域剩余的第一调整层,在非金属层区域形成第一凸起部或第一凹陷部,以匹配与其的有凹陷或凸起的晶圆或芯片减少间隙,提高工艺质量以及产品良率。消除或减少由于化学机械研磨工艺带来的局部位置凹陷,修正上下晶圆的空隙,提高强度以及质量。
  • 晶圆键合结构方法芯片
  • [发明专利]合用晶圆、结构以及方法-CN202111581105.7在审
  • 曹语盟;陈凡;袁琨;卢基存;周华 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2021-12-22 - 2022-04-05 - H01L23/544
  • 本发明提供一种合用晶圆、结构以及方法。所述方法包括如下步骤:提供合用的第一晶圆和第二晶圆;在第一晶圆和第二晶圆上形成对准标记,对准标记包括晶圆表面图形或者晶圆通孔。至少有一个晶圆具有通孔,透过该晶圆通孔可以观察到另外一个晶圆的对准标记;以第一晶圆和第二晶圆上的对准标记为基准,将第一晶圆和第二晶圆。本发明由于采用晶圆通孔实现可见光同时观察两个晶圆对准标记的直接对准,不需要透过硅晶圆的红外辅助装置或者对两个晶圆分别预先定位的机械对准过程,并且对晶圆的透光性无特别要求。
  • 合用结构以及方法
  • [发明专利]晶圆结构方法-CN202011478699.4在审
  • 张栖瑜;王学毅 - 联合微电子中心有限责任公司
  • 2020-12-15 - 2021-04-02 - H01L21/60
  • 本发明提供一种晶圆结构方法,通过分别在第一晶圆及第二晶圆上制备对应设置的第一沟槽及第二沟槽,以及进行表面亲水性处理后,可通过在分立的晶粒上添加液体,以进行对应晶粒的贴合处理,从而依靠晶粒实现第一晶圆与第二晶圆的自对准;由于晶圆的自对准是基于晶粒进行的,从而本发明可适用于不同尺寸的晶圆间的自对准,适用范围较广;操作便捷,无需价格昂贵的自动对准机,可降低生产成本;通过表面亲水性处理及等离子体激活处理可提高晶圆表面能,降低退火温度,增加工艺流程的可靠性;第一沟槽及第二沟槽可作为热流道,提高自对准的效果。
  • 晶圆键合结构方法
  • [发明专利]混合结构及混合方法-CN202210069940.0在审
  • 邢程;朱振华 - 芯盟科技有限公司
  • 2022-01-21 - 2022-04-29 - H01L23/488
  • 本发明公开了一种混合结构及混合方法。本发明通过设计垫呈阵列均匀分布于层中,实现工艺均匀性最大化,提高了待晶圆表面平整度,实现提供可靠的质量和上下晶圆的可靠电性连接。由于垫呈阵列均匀分布于层中,界面的垫可以在单个图案化过程中制成,从而降低了工艺成本;在上下晶圆需要连通电路处,采用金属走线与垫电性连接,在不需要连通电路处,金属走线与垫无电性连接,既降低了走线设计难度以及垫制备工艺成本,又不会影响的晶圆中的连通电路。
  • 混合结构方法

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