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[发明专利]金属膜的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置-CN201010244028.1无效
发明人：池田太郎;水泽宁;波多野达夫;横山敦;佐久间隆 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-06-28 - 公布日： 2010-12-15 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：本发明提供金属膜的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置。本发明的金属膜的薄膜沉积方法，包括以下步骤：将表面上形成有凹部的被处理的物体放置在处理容器中的载置台上；抽空处理容器以在其中产生真空；借助于从惰性气体生成等离子体而形成的等离子体，在抽空的处理容器中将金属靶离子化，以产生包括金属离子的金属粒子；通过对放置在载置台上的被处理的物体施加偏压电功率，将等离子体和金属粒子吸向被处理的物体，刮削凹部的底部以形成刮削凹部，并在包括凹部内和刮削凹部内的表面在内的被处理的物体的整个表面上沉积金属膜
金属膜薄膜沉积方法装置

[发明专利]一种处理电镀废水并分离回收铅、铜、镉的方法-CN201611170009.2在审
发明人：周丽花;丁春美 -专利权人：常州市鼎日环保科技有限公司
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：本发明通过对铅、铜和镉具有特定螯合性的植物提取液来螯合相应的金属离子，再用有机酸引流，被处理池前30m部分最先螯合的铅离子经柠檬酸引流进入沉积槽，通过锌板还原，铅离子沉积在锌板的前端，待其沉积饱和后，处理池中间30m部分螯合的铜离子进入沉积槽，铜离子被锌还原后沉积在锌板中间部分，待铜离子沉积饱和后，经处理池后30m部分螯合的镉离子最后进入沉积槽，还原后沉积在锌板的末端，最后再用硫化钠将废水中的锌离子沉淀后即可将处理后的电镀废水达标排放，本发明既起到了处理电镀废水的效果，又能对废水中的重金属离子进行精确分类回收，具有广阔的应用前景。
一种处理电镀废水分离回收方法

[发明专利]检测锂离子电池电极润湿程度的方法-CN202210782733.X在审
发明人：张丹;范丽萍;甘阳 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G01N23/2251 文献下载
摘要：检测锂离子电池电极润湿程度的方法，它属于锂离子电池领域。它解决了现有技术存在的问题。方法：一、组装电沉积体系；二、电解液中加入金属盐Ⅰ并混匀，得溶液A；三、向电沉积体系中注入溶液A，进行电沉积；四、电沉积后取出电极，洗净并干燥，选取电极三个不同高度位置处的样品进行电镜及能谱表征，收集数据进行分析本发明中在锂离子电池的电解液中加入少量待沉积金属盐，通过电沉积的方法将金属颗粒沉积在电极空隙内部，通过表征电极不同位置沉积金属量判断该处润湿情况；本发明提高了润湿表征的分辨率，从毫米级提高到了亚微米级；本发明适用于检测锂离子电池电极润湿程度。
检测锂离子电池电极润湿程度方法

[发明专利]一种在离子液体中电沉积金属镧的方法-CN201110435737.2无效
发明人：杨培霞;安茂忠;苏彩娜;任雪峰 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2011-12-22 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： C25D3/54 文献下载
摘要：一种在离子液体中电沉积金属镧的方法，本发明涉及电沉积金属镧的方法。本发明是要解决现有的在离子液体1-丁基-3一甲基咪唑三氟甲磺酸盐中不能得到单金属镧沉积层的问题。本方法：将无水氯化镧加入到离子液体1-甲基-3-乙基咪唑二(三氟甲基磺酰)亚胺中，混合均匀，得到电镀液，以经过前处理后的铜片做为阴极，以铂、石墨或钛基氧化物做为阳极，采用恒电流方式电镀，得到沉积到基体表面的金属镧本发明采用电沉积的方法制备的La镀层光滑平整，镀液组成简单且易于控制。本发明电沉积金属镧可用于功能材料制备领域。
一种离子液体沉积金属方法

[发明专利]具有金属合金固定层的固结研磨锯丝的制造方法和所制造的锯丝-CN201680015477.4有效
发明人： S·兰格罗克;F·范赫;L·霍夫曼 -专利权人：江阴贝卡尔特合金材料有限公司
申请日： 2016-02-22 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： B23D65/00 文献下载
摘要：公开了一种通过预涂覆有第一金属的研磨颗粒在细长基底丝(104、202)上的电解沉积制造固结研磨锯丝(104)的方法。该方法具体在于添加不同于第一金属的研磨颗粒活化金属离子的初始固着浴(110)。活化金属离子与第一金属离子一起沉积在金属基底丝(104、202)上的固定层中，并且增强了仅仅被部分涂覆的研磨颗粒的活性。然后，从不含添加的金属键合层的沉积浴(108)中沉积键合层。在形成的丝(104)中，所有活化金属的超过70％在固定层和键合层的总厚度的30％的宽度内存在于金属基底丝(104、202)附近。
具有金属合金固定固结研磨制造方法

[发明专利]一种热分层水库沉积物重金属释放控制因子的分析方法-CN202210960581.8在审
发明人：朱雅;李一平;王璨;陈宇;魏尧;刘斯璇;潘泓哲 -专利权人：河海大学
申请日： 2022-08-10 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种热分层水库沉积物重金属释放控制因子的分析方法，方法包括测量沉积物柱状样的沉积物指标和重金属离子浓度；测量沉积物柱状样的沉积物指标和重金属离子浓度，并计算沉积物‑水界面处重金属扩散通量；基于预构建的结构方程概念模型，利用沉积物‑水界面处重金属扩散通量以及气象指标、水动力指标、水体理化指标和沉积物指标训练拟合结构方程模型，并获得各指标中各参数对沉积物‑水界面处重金属扩散通量的贡献系数，则各指标中最大贡献系数对应的参数均为待分析热分层水库沉积物重金属释放的控制因子本发明能够系统地分析气象指标、水动力指标、水体理化指标和/或沉积物指标对热分层水库沉积物重金属释放的影响。
一种分层水库沉积物重金属释放控制因子分析方法

[发明专利]等离子体溅射成膜方法和成膜装置-CN200580035907.0无效
发明人：铃木健二;池田太郎;波多野达夫;水泽宁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-10-18 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种利用等离子体使金属靶(56)离子化，产生金属离子，利用偏置电力将金属离子引入到在处理容器内的载置台(20)上载置的被处理体(S)，使金属膜(74)沉积在形成有凹部(2)的被处理体上以填充凹部的方法设定偏置电力，使得在被处理体表面，因金属离子的引入而产生的金属沉积速率和等离子体溅射蚀刻的蚀刻速率大致均衡。由此，能够向被处理体的凹部填充金属，而不会产生空隙等缺陷。
等离子体溅射方法装置

[发明专利]在高深宽比特征结构中沉积金属的方法-CN201180036678.X有效
发明人：艾伦·里奇;卡尔·布朗;约翰·皮比通 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：本发明提供一种在形成于基板上的高深宽比特征结构中沉积金属的方法。在某些实施例中，一方法包括以超高频(VHF)频率施加第一射频(RF)功率至含金属的靶材以形成等离子体，该靶材设置在基板上方；施加直流(DC)功率至靶材，以引导等离子体朝向靶材；利用等离子体从靶材溅射金属原子，同时维持物理气相沉积(PVD)腔室内的压力使足以离子化大部分的金属原子；在开口的底表面上以及基板的第一表面上沉积第一多个金属原子；施加第二RF功率以将至少某些第一多个金属原子从底表面重分配至该开口侧壁的下部；以及通过减少PVD腔室内的离子化金属原子数量在侧壁上部沉积第二多个金属原子，其中第一多个金属原子与第二多个金属原子形成第一层，该第一层实质上沉积在开口的全表面上。
高深特征结构沉积金属方法

[发明专利]离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺-CN02110190.6无效
发明人：潘俊德;徐重;唐宾;田林海;张高会 -专利权人：太原理工大学
申请日： 2002-03-20 - 公布日： 2003-01-15 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：本发明离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴，其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中，加入一个中低能束离子源，利用真空电弧原理从金属阴极电弧源发射出的金属离子流，快速沉积于利用辉光加热的工件表面，然后由中低能离子束注入碳或氮，使其沉积层与工件基体形成扩散层和镀层，把多弧离子镀沉积速度快和离子束注入反冲形成伪扩散层有机结合起来，在较低温度的工件表面快速形成金属碳、氮化合物硬层涂层。
离子束增强弧辉渗镀涂层装置工艺

[发明专利]一种抗辐照光纤及其制备方法-CN202310480119.2在审
发明人：文建湘;李凌乐;陈子睿;王廷云;董艳华 -专利权人：上海大学
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G02B6/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗辐射光纤及其制备方法，在光纤中掺杂重金属离子形成一层或多层抗辐射掺杂层，其中重金属离子掺杂于光纤的纤芯中、外包层中或涂覆层中。光纤内部通过原子层沉积技术、外层沉积技术或等离子外部气相沉积技术掺杂重金属离子形成抗辐射掺杂层，光纤外包层中利用套管法、SOOT法、等离子喷涂法或溶胶‑凝胶法掺杂重金属离子形成抗辐射掺杂层，掺杂的重金属离子为铅利用这些重金属离子具有较大的康普顿效应截面和丰富的价态的特点，能够更大程度的吸收和消耗γ射线，进而减少有源活性离子因为辐照而导致的发光劣化，借此降低有源光纤的辐照敏感性，提高了光纤的耐辐照性能。
一种辐照光纤及其制备方法

[发明专利]一种多元金属元素掺杂类金刚石膜的制备方法-CN200910217544.2无效
发明人：付志强;王成彪;岳文;彭志坚;于翔 -专利权人：中国地质大学（北京）
申请日： 2009-12-31 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：一种多元金属元素掺杂类金刚石膜的制备方法，特征是首先利用超声波清洗技术去除基体表面污染层，利用离子源产生的惰性气体离子束对基体表面进行离子束轰击清洗，然后在高工件负偏压下利用阴极电弧源产生的金属离子对基体表面进行金属离子轰击清洗，再利用阴极电弧沉积或离子束辅助磁控溅射制备梯度过渡层，最后在过渡层上利用离子束沉积+镶嵌复合靶磁控溅射合成多元金属元素掺杂DLC膜，离子束沉积通过向离子源中通入含碳气体实现，采用镶嵌复合靶掺杂多元金属，嵌镶复合靶的主体材料为Ti、Cr、W、Zr、Nb、Ta中的任何一种，镶嵌块材料为一种或多种除主体材料之外的其他金属。
一种多元金属元素掺杂金刚石制备方法

[发明专利]一种陶瓷基覆铜板的制造方法-CN201510346890.6在审
发明人：祝土富;但敏;金凡亚;沈丽如;童洪辉;谢新林;高明智;杨念群 -专利权人：核工业西南物理研究院;武汉光谷创元电子有限公司
申请日： 2015-06-23 - 公布日： 2015-12-16 - 主分类号： C04B41/90 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷基覆铜板的制造方法，所述方法包括：陶瓷基板清洗、离子束清洗活化、金属离子注入、真空镀膜、电镀增厚铜膜，真空镀膜根据产品的要求，可采用两种膜系：①金属沉积层/铜沉积层；②金属氧化物沉积层/金属沉积层/铜沉积层。
一种陶瓷铜板制造方法

[发明专利]从废旧锂离子电池中回收金属锂的方法-CN202110898355.7在审
发明人：樊美岑;赵云;李宝华;康飞宇 -专利权人：清华大学深圳国际研究生院
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C25C1/02 文献下载
摘要：一种从废旧锂离子电池中回收金属锂的方法，包括以下步骤：提供手套箱、电化学沉积装置、碳酸酯类电解液、惰性电极、及废旧锂离子电池的锂正极；将电化学沉积装置、碳酸酯类电解液、惰性电极、及废旧锂离子电池的锂正极置于手套箱中；于手套箱中，将碳酸酯类电解液、惰性电极、及废旧锂离子电池的锂正极置于电化学沉积装置中，并以废旧锂离子电池的锂正极为电化学沉积装置的阳极，以惰性电极为电化学沉积装置的阴极；及向电化学沉积装置中通入电流，以使电化学沉积装置的电压大于废旧锂离子电池的锂正极的工作平台电压，废旧锂离子电池的锂正极的结构坍塌，且废旧锂离子电池的锂正极内的锂元素被还原为金属锂并沉积于惰性电极的表面。
废旧锂离子电池回收金属方法

[发明专利]半导体装置结构的形成方法-CN201711295814.2在审
发明人：李雅玲;潘兴强;林耕竹;杨文成;李志聪;卢一斌 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-12-08 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：上述方法包含将半导体基底置于物理气相沉积腔室内。上述方法也包含导入等离子体形成气体至物理气相沉积腔室内，其中等离子体形成气体含有含氧气体。上述方法还包含施加射频功率至位于物理气相沉积腔室内的金属靶，以激发等离子体形成气体而产生等离子体。此外，上述方法包含将等离子体导向位于物理气相沉积腔室内的金属靶，使得蚀刻停止层形成于半导体基底上。
物理气相沉积等离子体形成气体室内等离子体半导体装置结构半导体基底金属靶蚀刻停止层含氧气体射频功率施加激发

[发明专利]石墨散热片材的制造方法-CN201680026205.4在审
发明人：黄晸泰;徐东亮 -专利权人：吉恩特有限公司
申请日： 2016-02-11 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及石墨散热片材的制造方法，其特征在于，包括将卷绕的金属薄板加装于装载腔室内的卷绕器的步骤；在前处理腔室内对所述金属薄板表面进行等离子处理的步骤；利用蒸发方法或溅射方法，在穿过沉积腔室的主筒的经所述等离子处理的金属薄板表面沉积石墨层的步骤；在沉积所述石墨层的步骤中照射离子枪的步骤；及将在所述金属薄板表面沉积了石墨层的石墨散热片材卷绕于卸载腔室内的复绕器的步骤。
石墨散热片制造方法