专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]二极管结构及其制备方法-CN201811542384.4有效
  • 陈晓亮;陈天;钱忠健;金兴成;于绍欣 - 无锡华润微电子有限公司
  • 2018-12-17 - 2023-08-25 - H01L29/861
  • 本申请涉及二极管结构及其制备方法,该二极管结构包括半导体衬底;阱区,具有第一导电类型,形成于半导体衬底内;栅区,包括形成于部分阱区上的栅氧层和形成于栅氧层上的多晶硅栅层,多晶硅栅层具有第二导电类型,多晶硅栅层的费米能级与半导体衬底的禁带中心的能带距离小于或等于通过控制多晶硅栅层的功函数,使其费米能级位于半导体衬底禁带中心附近,减小多晶硅栅层与其下方阱区的功函数差,降低两者之间的接触电势,可解决漏电流、耐压不稳定等问题。
  • 二极管结构及其制备方法

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