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[发明专利]一种掩膜板的制备方法、制备装置及掩膜板-CN201810510800.6有效
发明人：赵蓉;张新建;张健;吕守华 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-05-24 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀技术领域，公开一种掩膜板的制备方法、制备装置及掩膜板；其中，掩膜板的制备方法，包括：将掩膜板框架放置于机台的承载面上；提供一按压机构，将所述按压机构的压合面与所述机台的承载面相对，并驱动所述按压机构朝向所述承载面的方向按压上述掩膜板制备方法中，采用了按压机构对承载面上的掩膜板框架进行按压，可以保证掩膜板框架的平整度、避免掩膜板框架发生褶皱，进而可以保证掩膜板的质量，从而提高蒸镀效果和蒸镀产品的良率。
一种掩膜板制备方法装置

[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法-CN201711176490.0有效
发明人：杨成发;尹志;王琦;黄俊杰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，包括蒸镀基板载具，所述蒸镀基板载具用于承载蒸镀基板，所述蒸镀基板载具上蒸镀基板所在的区域上方设有电磁模块，所述电磁模块包括多个电磁铁单元，所述多个电磁铁单元用于按照预定的顺序进行通电根据本申请实施例提供的技术方案，通过设置多个电磁铁单元对金属掩膜板进行吸附，能够解决金属掩膜板整体被吸附导致褶皱或者褶皱得不到释放的问题，同时，电磁铁单元可以更好的进行吸附强度和开关控制，能够提高蒸镀基板上图案的位置精度
蒸镀基板电磁铁单元吸附载具褶皱金属掩膜板电磁模块蒸镀装置蒸镀开关控制申请通电承载图案释放

[发明专利]AMOLED器件的基板及其掩膜板-CN201210258744.4无效
发明人：金正学;洪宣杓 -专利权人：四川虹视显示技术有限公司
申请日： 2012-07-25 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供一种不会出现蒸镀对位问题和混色问题的AMOLED器件的基板及其掩膜板。由于本发明掩模板是用搭桥相互连接的，具有较短排列的挖孔结构，可以防止有机物蒸镀工序时，有可能发生的掩膜板变形现象，同时可以正确蒸镀有机物，达到改善面板品质的目的。
amoled 器件及其掩膜板

[发明专利]一种掩膜法蒸镀柔性砷化镓太阳电池减反射膜的方法-CN202211650636.1在审
发明人：李晓东;程保义;铁剑锐;梁爽;欧伟;杜永超;肖志斌;李昂 -专利权人：中电科蓝天科技股份有限公司;天津恒电空间电源有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜法蒸镀柔性砷化镓太阳电池减反射膜的方法，属于半导体制造技术领域，其特征在于，包括：S1、采用器件工艺，使得太阳电池达到待蒸镀减反射膜的状态；S2、将掩膜材料与焊点粘接；S3、进行真空环境下的减反射膜蒸镀；S4、从真空室内取出太阳电池；S5、通过有机溶剂溶解或热解或光解解除掩膜材料与焊点的连接；S6、若采用热解或者光解法解除掩膜材料与焊点的连接，掩膜材料继续用机器吸盘移除；S7、获得焊点处无减反射膜的电池晶圆
一种掩膜法蒸镀柔性砷化镓太阳电池减反射膜方法

[发明专利]掩膜板-CN201711249267.4有效
发明人：农艳菲;龚建国;冉应刚;吴俊雄;王衣可;柯贤军;苏君海;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2017-12-01 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板，包括：空闲区和至少一个有效蒸镀区，空闲区设置于有效蒸镀区的外侧；至少一个有效蒸镀区开设有多个蒸镀开口，各蒸镀开口均匀分布设置；有效蒸镀区与空闲区之间还设置有过渡区，过渡区包围有效蒸镀区设置，过渡区的厚度小于有效蒸镀区的厚度，且小于空闲区的厚度。通过在有效蒸镀区和空闲区之间设置过渡区，由于该过渡区的厚度相对于有效蒸镀区以及空闲区的厚度更小，使得过渡区的强度较小，当在掩膜板两端施加拉力时，在力的传递过程中，拉力受到的反作用逐渐减小，使得空闲区到有效蒸镀区的变形能平缓过渡，有效减小褶皱，减小有效蒸镀区的形变，使得蒸镀效果更佳，从而提高蒸镀的产品良率。
掩膜板

[发明专利]一种蒸镀装置及蒸镀方法-CN202011100696.7在审
发明人：李灿;池珉昊;李承皇;曹景博 -专利权人：合肥欣奕华智能机器有限公司
申请日： 2020-10-15 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版蒸镀领域，公开一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置，包括：蒸镀室；设置在蒸镀室内用于运送非透明基板的托架；非透明基板具有至少一个第一对位标识；设置在托架用于对第一对位标识加热的加热器；用于对朝向蒸发源的非透明基板进行遮挡的掩膜版，掩膜版具有与第一对位标识一一对应的第二对位标识；位于蒸镀室外部的红外热成像仪，红外热成像仪确定第一对位标识的位置和第二对位标识的位置的距离差；用于控制托架移动的对位平台，根据距离差以使位于托架上的非透明基板的第一对位标识与第二对位标识对位使掩膜版与非透明基板准确对位，提高了产品良率，降低了生产制造成本。
一种装置方法

[发明专利]一种新型蒸镀用金属掩模板及蒸镀装置-CN201910127406.9在审
发明人：褚天舒 -专利权人：湖畔光电科技（江苏）有限公司
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀技术领域，特别是一种新型蒸镀用金属掩模板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体上开有圆形凹槽，所述圆形凹槽内设置有若干用于扩散材料的开口，所述掩膜板本体两侧开有用于安装的卡槽；所述开口处剖面为梯形采用上述结构后，本发明具有以下优点：1.本发明的掩模板可以有效消除硅片与掩模板之间的空隙，显著消除蒸镀过程中的阴影效应；2.本发明的掩模板可有效避免在蒸镀过程中造成掩模板与硅片的移动错位；3.本发明的掩模板在长时间使用后仍未发生明显形变
掩模板蒸镀掩膜板金属掩模板圆形凹槽硅片扩散材料使用寿命阴影效应蒸镀装置开口处形变错位开口移动

[发明专利]激光切割装置以及蒸镀掩膜版的制备方法-CN201810333046.3在审
发明人：舒林和 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-04-13 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光切割装置，用于蒸镀掩膜版的制备工艺，其包括：工作基台，用于承载蒸镀掩膜版，所述蒸镀掩膜版包括掩膜托架以及焊接在掩膜托架上的精细金属掩膜片；激光切割头，设置于工作基台的相对上方，用于沿着预定切割线对精细金属掩膜片的位于焊接位置外侧的余料部分进行切割在沿切割方向上设置于所述激光切割头的后方，用于获取位于其下方的切割位置的距离参数，以判断所述余料部分是否被完全切断；夹持机构，设置于所述工作基台的相对两侧，用于夹持所述余料部分并在切割完成后施加作用力使所述余料部分从所述掩膜托架上脱离本发明还公开了一种蒸镀掩膜版的制备方法，其中应用了如上所述的激光切割装置。
掩膜版蒸镀余料激光切割装置工作基台掩膜托架激光切割头精细金属掩膜片制备切割激光测距仪焊接位置夹持机构距离参数切割方向切割位置相对两侧制备工艺切割线夹持焊接承载施加脱离应用

[发明专利]蒸镀设备-CN201611020039.5有效
发明人：刘耀阳;徐健 -专利权人：上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司
申请日： 2016-11-18 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括：蒸镀腔室，以及掩膜版支撑线圈，所述掩膜版支撑线圈至少包括相对设置的第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈之间包括掩膜版设置区域，所述第一线圈和所述第二线圈上分别通入第一电流和第二电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度均匀。本发明实施例通过利用掩膜版支撑线圈在掩膜版设置区域内形成磁场强度均匀的磁场，解决了现有的蒸镀设备中掩膜版因中央区域受力不平衡易发生形变，同时本发明解决了掩膜版在竖直方向上和水平方向上存在的受力问题，避免了掩膜版在定位过程中的受损以及
掩膜版蒸镀设备磁场设置区域受力支撑定位过程相对设置蒸镀腔室中央区域擦伤形变竖直受损

[实用新型]一种高分辨率掩膜条及掩膜板-CN202320928474.7有效
发明人：张麒麟;林泽 -专利权人：福建华佳彩有限公司
申请日： 2023-04-23 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高分辨率掩膜条及掩膜板，涉及高精细掩膜板技术领域。所述高分辨率掩膜条包括：蒸镀子像素开孔区，对应于显示面板区域设置；蚀刻减薄区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第二蚀刻面，且面积大于所述蒸镀子像素开孔区；补偿蚀刻区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第一蚀刻面，且位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区。本实用新型提供的一种高分辨率掩膜条及掩膜板，通过在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，从而减小像素开孔间隙以提高分辨率。
一种高分辨率掩膜条掩膜板

[发明专利]光学对位补偿装置、贴合度检测装置、蒸镀系统及其方法-CN201410714370.1在审
发明人：林信志 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2016-06-22 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学对位补偿装置、贴合度检测装置、蒸镀系统及其方法，所述光学对位补偿数据获取装置包括影像采集机构，用于采集所述基板与所述金属掩膜交迭后，金属掩膜的开口以及与其对应的基板的像素开口的图像；处理机构，用于根据采集的所述金属掩膜的开口与所述基板的像素开口的图像得到所述金属掩膜的开口与所述基板的像素开口间的一偏移量，计算基板与金属掩膜之间的一位置补偿数据。本发明可以根据在蒸镀前采集基板的像素开口和金属掩膜的开口的图像，对金属掩膜和基板进行对位补偿以及贴合度检测。不需要蒸镀有机材料，基板又可以重复使用，因此可以降低生产成本，提高蒸镀精度。
光学对位补偿装置贴合检测系统及其方法

[发明专利]掩膜板组件、显示装置的蒸镀方法及显示装置-CN202111576345.8在审
发明人：赵成雨;王守坤;秦韶阳;孙增标 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜板组件、显示装置的蒸镀方法及显示装置，掩膜板组件包括第一掩膜板和第二掩膜板。第一掩膜板包括第一边框、位于第一边框内的第一遮挡部、连接第一边框和第一遮挡部的第一连接部、以及第一蒸镀开口，第一蒸镀开口对应于至少部分像素开口位置，第一遮挡部对应于透光区的位置；第二掩膜板与第一掩膜板配合使用，第二掩膜板包括第二边框、位于第二边框内的第二遮挡部、连接第二边框和第二遮挡部的第二连接部、以及第二蒸镀开口，第二蒸镀开口对应于至少两个像素开口之间位置，第二遮挡部对应于透光区的位置。
掩膜板组件显示装置方法

[发明专利]一种蒸镀设备以及对位方法-CN201610177514.3有效
发明人：李浩永;金甲锡;金薰 -专利权人：合肥欣奕华智能机器有限公司
申请日： 2016-03-23 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种蒸镀设备以及对位方法，涉及显示技术领域，用于提高待蒸镀基板和掩膜板的对位精度。所述蒸镀设备包括：真空腔室，安装于所述真空腔室内的承托构件和基台，所述承托构件位于基台的上方并可相对所述基台升降，所述蒸镀设备还包括安装于所述真空腔室内且可升降的支撑构件，在对位过程中，所述支撑构件位于所述承托构件和所述掩膜板之间，并支撑所述待蒸镀基板的中间区域。所述蒸镀设备用于在待蒸镀基板上制备所需的薄膜。
一种设备以及对位方法

[发明专利]一种掩膜板及蒸镀设备-CN201710533788.6有效
发明人：孙中元;薛金祥 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2017-07-03 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及成膜技术领域，公开了一种掩膜板及蒸镀设备。所述掩膜板包括图形区域，所述图形区域设置有镂空图形，在掩膜板的除镂空图形之外的区域设置膜厚测试片，在蒸镀制程中，膜厚测试片上会沉积蒸镀材料，通过检测所述膜厚测试片上薄膜的膜厚，可以获取掩膜板上薄膜的膜厚，从而当薄膜的膜厚达到一定的厚度时，能够及时更换掩膜板，避免出现薄膜剥离污染设备的问题。
一种掩膜板设备

[发明专利]掩膜版组件及掩膜版、蒸镀边界确认及蒸镀偏位校正方法-CN202111668671.1在审
发明人：周丽芳;董耀龙;李文星;韩冰;钱先锐 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩膜版组件及掩膜版、蒸镀偏位校正方法。掩膜版组件包括：多个第一掩膜版。第一掩膜版包括：第一本体以及设置于第一本体上的掩膜开口和边界标识开口。其中，掩膜开口用于制备有机材料图案。边界标识开口位于掩膜开口的边界外侧，用于制备边界标识。边界标识用于确定有机材料图案的边界。不同第一掩膜版中的掩膜开口相对于第一本体的位置相同，不同第一掩膜版中的边界标识开口相对于掩膜开口的位置不同。上述的掩膜版组件及掩膜版、蒸镀偏位校正方法，可以改善有机共通层蒸镀边界及蒸镀偏差难以有效界定的问题，从而提高AMOLED产品的工艺可靠性及生产良率。
掩膜版组件边界确认蒸镀偏位校正方法