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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]氧化膜厚测量装置以及该方法-CN201980066338.8有效
发明人：乾昌广;高松弘行;中西良太 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2019-10-07 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明的氧化膜厚测量装置针对将膜厚测量范围划分的多个子膜厚测量范围分别存储有膜厚与发光亮度的对应关系的膜厚转换信息，在该子膜厚测量范围内，相对于膜厚变化的发光亮度变化之比处于设定范围内，多个发光亮度测量部各自以不同的多个测量波长测量钢板表面的发光亮度，针对多个发光亮度测量部各自测量的钢板表面的各发光亮度，通过使用与该发光亮度测量部相对应的膜厚转换信息，求出与该测量的发光亮度相对应的膜厚和该膜厚下的比，并且在该求出的比处于与该膜厚转换信息相对应的设定范围内的情况下，将该求出的膜厚作为实际的膜厚的候选值而提取。
氧化测量装置以及方法

[发明专利]氧化膜厚测量装置以及该方法-CN201980066366.X有效
发明人：乾昌广;高松弘行;中西良太 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2019-10-07 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明的氧化膜厚测量装置针对将膜厚测量范围划分的多个子膜厚测量范围分别存储有膜厚与发射率的对应关系的膜厚转换信息，在该子膜厚测量范围内，相对于膜厚变化的发射率变化之比处于设定范围内，以不同的多个测量波长测量钢板表面的发光亮度并测量其温度，求出所述多个测量波长的各个波长下的各发射率，针对按各测量波长求出的各发射率，通过使用与该测量波长相对应的膜厚转换信息，求出与该测量波长下的发射率相对应的膜厚和该膜厚下的比，并且在该求出的比处于与该膜厚转换信息相对应的指定的设定范围内的情况下，将该求出的膜厚作为实际的膜厚的候选值而提取。
氧化测量装置以及方法

[发明专利]膜厚测量装置和膜厚测量方法-CN201410163134.5有效
发明人：张建楠;封宾;袁剑峰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： G01B21/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种膜厚测量装置和膜厚测量方法，其中膜厚测量装置包括：压力装置和台阶仪，所述压力装置用于在待测量膜层上形成沟道，所述沟道的深度与所述待测量膜层的膜厚相等，所述台阶仪用于扫描形成有所述沟道的所述待测量膜层以获取所述沟道的深度，本发明的技术方案通过压力装置以在待测量膜层上形成一与待测量膜层的膜厚相等的沟道，然后再对沟道的深度进行测量，从而实现了对待测量膜层的膜厚的精确测量。
测量装置测量方法

[发明专利]膜厚测量装置、膜厚测量方法、成膜系统和成膜方法-CN202110224635.X在审
发明人：品田正人;竹山环;小野一修;铃木直行;千早宏昭;E·N·阿瓦拉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以in‑situ的方式测量成膜后的非常薄的膜的膜厚的膜厚测量装置、膜厚测量方法、成膜系统和成膜方法。膜厚测量装置是在成膜系统中以in‑situ的方式测量形成在基片上的膜的膜厚的膜厚测量装置。该膜厚测量装置包括：能够载置形成有膜的基片的载置台；测量光射出/检测单元，其具有向载置台上的基片射出膜厚测量用的光的光射出部，和接收光在基片反射后的反射光的受光传感器；使光在基片上的照射点移动的移动机构；测量受光传感器与基片上的照射点之间的距离的测距仪；和调节受光传感器与基片上的照射点之间的距离的距离调节机构。
测量装置测量方法系统方法

[发明专利]一种基于全拆解的乘用车内腔电泳膜厚测量及评价方法-CN202310319574.4在审
发明人：漆东梅;勾天生;侯颖;席建斌;彭金涛;殷俊;陈华;柳亮 -专利权人：东风本田汽车有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G01B21/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于全拆解的乘用车内腔电泳膜厚测量及评价方法，包括以下步骤：流程路线为：裙边量产管理点位A点设定→拆解车加工条件确定→拆解车电泳加工→车身全拆解→一台份膜厚测量→膜厚结果评价→量产生产条件确定→内腔量产膜厚管理基准确定→裙边量产管理点位A点膜厚日常测量→A点膜厚日常测量结果判定→异常时膜厚异常处置并记录→膜厚数据记录。本发明在确保电泳内腔膜厚测量的准确性的同时节约电泳内腔膜厚管理成本。
一种基于拆解乘用车内腔电泳测量评价方法

[发明专利]基片检查系统、基片检查方法和存储介质-CN202010484089.9在审
发明人：中村泰之;鹤田丰久;野田康朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质，其中，基片检查系统包括：拍摄部，其设置于基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于基片处理装置中，测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部(107)，其制作膜厚模型，膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明，能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。
检查系统方法存储介质

[发明专利]一种膜厚测量方法及装置、涂覆机-CN201410184440.7在审
发明人：肖宇;袁剑峰;吴洪江;董明;冯贺 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-05-04 - 公布日： 2014-08-13 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及成膜技术领域，公开了一种膜厚测量方法及装置、涂覆机。在涂覆机上设置膜厚测量装置，所述膜厚测量装置通过获取光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值，来测量形成的湿膜厚度，由于湿膜厚度对应干燥后的膜厚变化量是一定的，通过测量湿膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚，缩短了测量干燥后的膜厚所需的工艺时间，且在测试基板上形成湿膜所需的物料很少，不会造成大量物料的浪费。
一种测量方法装置涂覆机

[发明专利]一种硅片边缘膜厚测量方法-CN201010266786.3有效
发明人：路新春;沈攀;何永勇 -专利权人：清华大学
申请日： 2010-08-30 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： B24B49/04 文献下载
摘要：一种硅片边缘膜厚测量方法属于化学机械抛光膜厚测量技术领域。通过本发明中的数学模型可以对边缘膜厚测量曲线进行修正，使其尽可能与真实边缘膜厚曲线一致，使用本发明后测量得到的边缘膜厚值可作为真实边缘膜厚值。本发明解决了电涡流测量硅片膜厚存在的所测边缘膜厚失真的问题，优点在于不用改变硬件设施，只需对数学模型进行修改；使用时，仅需进行简单的离线标定，不会影响化学机械抛光的产量。
一种硅片边缘测量方法

[发明专利]一种膜厚测量方法和化学机械抛光设备-CN202110895311.9在审
发明人：王成鑫;王同庆;田芳馨;侯映红;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2021-08-05 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中，方法包括：获取膜厚测量装置距金属薄膜的距离和金属薄膜的材质；根据所述距离和材质，确定相应的标定曲线，所述标定曲线用于表征膜厚测量装置的输出信号与膜厚之间的映射关系；实时获取所述膜厚测量装置的输出信号；根据所述标定曲线和所述输出信号，得到当前的金属薄膜的膜厚。
一种测量方法化学机械抛光设备

[发明专利]研磨装置及研磨状态监视方法-CN201410330519.6有效
发明人：小林洋一;渡边和英;盐川阳一;八木圭太;木下将毅 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2014-07-11 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种研磨装置，具有：对处于静止状态的基板的膜厚进行测量的在线型膜厚测量器(80)；以及具有配置在研磨台(30A)内的膜厚传感器(40)的原位分光式膜厚监视器(39)。原位分光式膜厚监视器(39)，从研磨基板前由在线型膜厚测量器(80)取得的初期膜厚中，减去研磨基板前由原位分光式膜厚监视器(39)取得的初期膜厚，由此确定补正值，对研磨基板中取得的膜厚加上补正值，由此取得监视膜厚，基于监视膜厚而监视基板的研磨进度。
研磨装置状态监视方法

[发明专利]研磨装置及研磨状态监视方法-CN201810707673.9有效
发明人：小林洋一;渡边和英;盐川阳一;八木圭太;木下将毅 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2014-07-11 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种研磨装置，具有：对处于静止状态的基板的膜厚进行测量的在线型膜厚测量器(80)；以及具有配置在研磨台(30A)内的膜厚传感器(40)的原位分光式膜厚监视器(39)。原位分光式膜厚监视器(39)，从研磨基板前由在线型膜厚测量器(80)取得的初期膜厚中，减去研磨基板前由原位分光式膜厚监视器(39)取得的初期膜厚，由此确定补正值，对研磨基板中取得的膜厚加上补正值，由此取得监视膜厚，基于监视膜厚而监视基板的研磨进度。
研磨装置状态监视方法

[发明专利]膜层厚度的测试装置-CN202111202728.9在审
发明人：李弘祥;黄鑫 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开涉及半导体技术领域，提出了一种膜层厚度的测试装置，用于测量晶圆的膜厚，膜层厚度的测试装置包括：支撑主体；夹具，夹具设置于支撑主体，夹具用于与晶圆的周向外边缘相接触，以使得晶圆竖直固定于夹具；膜厚测量组件，膜厚测量组件包括光源发送端和接收端，膜厚测量组件用于测量晶圆的膜厚。支撑主体上的夹具将晶圆竖直固定，减小了晶圆的重力对晶圆翘曲度的改变，从而通过膜厚测量组件的光源发送端和接收端能够准确测量得到晶圆的膜层厚度。由于晶圆竖直固定，晶圆在膜层厚度测量过程中翘曲度基本不会发生改变，保证了膜厚测量组件的测试光路光程不受翘曲度的影响，以此获得准确的膜层厚度，从而改善了膜层厚度的测试装置的测试性能。
厚度测试装置

[发明专利]半导体装置的制造方法以及半导体装置-CN201680082698.3有效
发明人：川崎裕二 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2016-03-01 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：在对多个半导体元件(5)进行划分的切割线(6、7)之上形成膜厚测量用配线图案(3、4)。在半导体元件(5)及膜厚测量用配线图案(3、4)之上形成SOG膜(10)。对膜厚测量用配线图案(3、4)的中央部之上的SOG膜(10)的膜厚进行测量。膜厚测量用配线图案(3、4)是长边与切割线(3、4)平行的长方形图案。
半导体装置制造方法以及

[发明专利]一种金属膜厚测量方法和化学机械抛光设备-CN202111658914.3有效
发明人：王成鑫;王同庆;田芳馨;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属膜厚测量方法和化学机械抛光设备，其中方法包括：根据待测的金属薄膜的材质，确定膜厚测量装置在该材质下的标定关系，其中，所述标定关系用于表征K值与金属膜厚的映射关系，所述K值用于表征所述膜厚测量装置的输出信号的虚部与实部的比值；使用所述膜厚测量装置探测所述待测的金属薄膜，采集所述膜厚测量装置的输出信号并计算K值；根据计算的K值和所述标定关系，确定所述待测的金属薄膜的膜厚。
一种金属膜测量方法化学机械抛光设备

[发明专利]测量光阻膜厚的方法-CN201610150889.0有效
发明人：刘静;李启明 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2016-03-16 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：本发明提供一种测量光阻膜厚的方法，所述方法包括：A)随着探针沿基板上各颜色光阻的涂布方向的划动，感测探针划过的每个位置的光阻的膜厚；B)识别探针划过的每个位置的光阻的颜色；C)输出以识别的光阻的颜色来表示对应光阻的膜厚的膜厚曲线；D)根据所述膜厚曲线确定各颜色光阻的膜厚。在根据本发明示例性实施例的测量光阻膜厚的方法中，通过将膜厚曲线中各种颜色的光阻的膜厚曲线段表示为各自的颜色，显示膜厚曲线时同步显示光阻的颜色，方便测量人员直接辨别各段光阻的颜色，可提高薄膜测量仪的手动测量以及设置菜单时的准确性和效率
测量光阻膜厚方法

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