专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]空腔封装结构及其形成方法-CN202310797073.7在审
  • 俞开源;刘庭;张月升;濮虎 - 江苏长电科技股份有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-10-10 - H01L23/047
  • 一种空腔封装结构及其形成方法,所述空腔封装结构,包括:金属基底,金属基底包括中间区域和环绕中间区域的边缘区域,所述中间区域包括贴装区域,所述金属基底上表面的边缘区域上形成有围堤结构,所述围堤结构环绕所述中间区域所述第一缓冲层的热膨胀系数小于所述金属基底的热膨胀系数;贴装在所述贴装区域的上表面的半导体芯片,所述半导体芯片通过金属引线与引脚电连接;贴装在所述围堤结构上的上盖,所述上盖与所述围堤结构和金属基底之间形成空腔
  • 空腔封装结构及其形成方法
  • [发明专利]空腔类封装结构及其形成方法-CN202310803162.8在审
  • 范荣;刘庭;杨锦柯;李智杰 - 江苏长电科技股份有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-10-10 - H01L23/08
  • 一种空腔类封装结构及其形成方法,所述空腔类封装结构,包括:法兰基底;贴装在法兰基底的上表面边缘区域上的围壳,围壳中固定有管脚,围壳暴露出管脚的两端表面;贴装在围壳内侧的法兰基底的上表面的射频芯片,射频芯片通过第一金属引线与管脚电连接;贴装在围壳上的非金属上盖,非金属上盖、围壳和法兰基底之间形成密封空腔,且非金属上盖中具有贯穿非金属上盖的上下表面的多个穿孔;金属散热器,金属散热器包括金属散热片和凸起于金属散热片的下表面上的多个金属散热柱
  • 空腔封装结构及其形成方法
  • [发明专利]形成不同真空度空腔的方法-CN202211372972.4有效
  • 徐希锐 - 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
  • 2022-11-04 - 2023-02-10 - H01L21/50
  • 本发明提供一种形成不同真空度空腔的方法,所述方法包括:提供形成有第一键合层的第一衬底;刻蚀第一键合层,形成第一键合图形、多个导气槽以及连通多个导气槽的气路,且多个导气槽的尺寸不同;刻蚀第一衬底形成多个凹槽,凹槽与导气槽相对应且通过导气槽与气路连通;提供形成有第二键合图形的第二衬底;将第一衬底形成有第一键合图形的一侧与第二衬底形成有第二键合图形的一侧进行键合,并在不同真空度下按所述导气槽的尺寸从小到大依次闭合尺寸不同的所述导气槽,使与不同尺寸的导气槽连通的凹槽闭合之后形成空腔具有不同的真空度。本发明提供的方法形成的不同空腔具有不同的真空度,从而满足不同产品的需求。
  • 形成不同真空空腔方法
  • [发明专利]形成具有空腔封装构造的方法-CN03158532.9无效
  • 洪居万 - 立朗科技股份有限公司
  • 2003-09-18 - 2005-03-23 - H01L23/12
  • 本发明涉及一种用以形成具有空腔封装构造的方法,该方法包含步骤如下:(a)提供一芯片元件,其具有一表面电路以及数个第一接垫位于该表面电路的外缘;(b)提供一多层陶瓷基板,具有一凹洞以及数个第二接垫位于该凹洞的外缘,其分别对应于该表面电路以及该数个第一接垫;(c)涂覆一胶层于除了该凹洞与该数个第二接垫外的多层陶瓷基板表面上;(d)通过该胶层而将该芯片元件与该多层陶瓷基板紧密接合,使该表面电路对应于该凹洞而形成空腔
  • 形成具有空腔封装构造方法
  • [发明专利]一种空腔结构的形成方法-CN202310262457.9在审
  • 王伟军 - 上海集成电路研发中心有限公司
  • 2023-03-17 - 2023-05-26 - H01L21/225
  • 本发明公开了一种空腔结构的形成方法,包括:提供衬底;在所述衬底的表面以下形成掺杂区域;在位于所述掺杂区域以内的所述衬底表面上形成释放通道;通过所述释放通道选择性去除下方所述掺杂区域中的所述衬底材料,形成空腔结构本发明通过在衬底中形成掺杂区域,利用不同掺杂浓度区域之间存在的刻蚀选择比差异,对掺杂区域中的衬底材料进行选择性去除,可有效控制形成空腔结构时的空腔形貌及空腔深度等参数,获得理想的空腔结构形貌,并增强了工艺的可调性
  • 一种空腔结构形成方法

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