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[发明专利]真空沉积腔室-CN201710574813.5有效
发明人：斯蒂芬·班格特;安德烈亚斯·勒普;托马斯·格比利;乌韦·许斯勒;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-11-07 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：描述一种真空沉积腔室。所述真空沉积腔室包括：材料沉积设备，具有分配管道；以及基板支撑件，用于在沉积期间支撑基板，其中所述材料沉积设备的至少一个分配管道与所述基板支撑件之间的距离小于250mm。
真空沉积

[实用新型]真空交换腔室-CN201320336038.7有效
发明人：何*;杨小军 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2013-06-09 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种真空交换腔室，包括：腔体；抽气装置，连接于所述腔体，可抽出该腔体内的气体至真空状态；供气装置，连接于所述腔体；以及通气装置，位于所述腔体内，与所述供气装置相连接。所述通气装置上设置有若干均匀分布的通气孔，可以使气体均匀的通入腔体中，增加气体的流量不会对承载装置上的晶圆造成影响，气体流量的增加降低了真空交换腔室的通气时间，减小单片晶圆的生产时间，从而提高机台每小时能够处理的晶圆数量
真空交换

[实用新型]双腔室真空电机-CN201820707109.2有效
发明人：胡华 -专利权人：成都鸿图电器有限责任公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： H02K5/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了双腔室真空电机，包括电机壳体、第一腔室、第二腔室、阻隔板、排气嘴、隔气盖板、弹簧片、密封条、密封板、定子、转子、转轴孔、转轴所述电机壳体内部设置阻隔板将电机内部空间隔成第一腔室和第二腔室两个腔室，第一腔室内部装有定子和转子，转子的转轴一端伸出电机壳体外，转轴另一端穿过阻隔板上的转轴孔，电机壳体中第一腔室的一侧置有排气嘴，排气嘴的内嘴上置有弹簧片，弹簧片的一端固定在排气嘴的内嘴边沿，弹簧片另一端连接隔气盖板本实用新型避免了转子尾部暴露在外而引起的进气风险，在抽真空的过程中采用抽真空管插入电机上的排气嘴进行抽真空，操作方便、安全，快捷。
排气嘴弹簧片转子第一腔室电机壳体阻隔板转轴本实用新型第二腔室真空电机抽真空密封板双腔室转轴孔盖板隔气内嘴密封条电机内部空间抽真空管螺丝固定腔室内部一端连接转子尾部电机壳体内部进气腔室外嘴电机穿过伸出暴露安全

[发明专利]一种气相沉积反应装置-CN201910168300.3在审
发明人：张迎春;刘洁雅 -专利权人：北京捷造光电技术有限公司
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明公开一种气相沉积反应装置，包括：真空外腔室，真空内腔室，加热装置，加热引流结构，加热源；其中，所述真空外腔室及所述真空内腔室均包括围合成相应腔室的腔壁，所述真空内腔室设置于所述真空外腔室的腔室内；所述加热装置设置于所述真空内腔室腔壁外侧，并通过所述加热引流结构延伸至真空外腔室腔壁之外，与所述加热源相连接；所述真空外腔室和所述真空内腔室设置有与抽真空装置连接的通道。所述真空内腔室设置于所述真空外腔室的腔室内，由于真空环境中不存在热量传递介质，真空内腔室腔壁外侧的加热装置的引入可以避免真空内腔室的热量散失，从而保证PECVD反应腔的恒温绝热状态。
真空内腔外腔室加热装置沉积反应装置引流结构加热源腔壁室腔加热热量传递介质室内抽真空装置绝热状态热量散失真空环境反应腔围合成腔室延伸引入保证

[发明专利]一种气相沉积腔室-CN201910168347.X在审
发明人：张迎春;刘洁雅 -专利权人：北京捷造光电技术有限公司
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本申请公开一种气相沉积腔室，包括真空外腔室和真空内腔室均包括围合成相应腔室的腔壁，真空内腔室设置于真空外腔室的腔室内；真空外腔室和真空内腔室设置有与抽真空装置连接的真空管道；喷淋电极和下电极设置在真空内腔室的内部真空外腔室为不锈钢材质，真空内腔室为全铝质腔室，既满足镀膜的工艺需求，也降低了设备的制造难度和成本，具有很高的性价比；且该结构还可以减少热量外传，从而维持了真空内腔室镀膜工艺所需的温度环境，以及能够对两个腔室进行独立的抽真空，保证真空内腔室中工艺气体的纯度，有利于产品的稳定性和一致性。
真空内腔外腔室腔室沉积腔室下电极电极喷淋不锈钢材质抽真空装置镀膜工艺工艺气体工艺需求温度环境真空管道抽真空围合成镀膜腔壁全铝室内申请制造保证

[实用新型]一种四腔室真空感应熔炼系统-CN201921055457.7有效
发明人：吉红旗;周济;李延伟 -专利权人：陕西宝德赛肯光电材料有限公司
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： F27B14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开的一种四腔室真空感应熔炼系统，四腔室包括下料腔室、真空熔炼腔室、真空溜槽过滤室和真空锭模室，四腔室分别连接真空泵机组；下料腔室一侧设有真空插板阀A，真空插板阀A连接真空熔炼腔室，真空熔炼腔室一侧设有真空插板阀B，真空插板阀B连接真空溜槽过滤室，真空溜槽过滤室一侧设有真空插板阀C，真空插板阀C连接真空锭模室。本实用新型一种四腔室真空感应熔炼系统解决了现有技术中存在结构复杂，故障率高，加料方式单一，不能在线除渣的问题。
一种四腔室真空感应熔炼系统

[发明专利]真空处理系统以及操作真空处理系统的方法-CN201880010466.6在审
发明人：斯蒂芬·班格特;沃尔夫冈·布什贝克;托马斯·伯杰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：描述一种用于输送带有基板的载体的真空处理系统。所述系统包括：第一真空处理腔室，所述第一真空处理腔室用于处理所述载体上的所述基板；真空缓冲腔室，所述真空缓冲腔室为所述基板提供处理时间延迟；第二真空处理腔室，所述第二真空处理腔室用于在所述基板上掩蔽沉积材料层；以及一个或多个传送腔室，所述一个或多个传送腔室用于从所述第一真空处理腔室输送所述载体至所述真空缓冲腔室，以及用于从所述真空缓冲腔室输送所述载体至所述第二真空处理腔室。
真空处理腔室真空缓冲腔基板传送腔室真空处理系统掩蔽沉积材料层

[发明专利]光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机-CN202111417683.7有效
发明人：王魁波;吴晓斌;罗艳;谢婉露;沙鹏飞;李慧;韩晓泉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻机技术领域，具体涉及一种光刻机及其气压控制及监测系统和方法，光刻机气压控制及监测系统包括全量程真空规组件、薄膜真空规组件和真空泵组。全量程真空规组件包括分别设置于主腔室、硅片台腔室、硅片传输腔室和掩模传输腔室的全量程真空规；薄膜真空规组件包括分别设置于主腔室、照明光学腔室、投影光学腔室、硅片台腔室、硅片传输腔室和掩模传输腔室的薄膜真空规；真空泵组包括主腔室真空泵、硅片台腔室真空泵、硅片传输腔室真空泵和掩膜传输腔室真空泵。本发明的光刻机气压控制及监测系统能够对光刻机的整个工作过程进行实时监测，并且能够在工艺操作期间精确地测量各个腔室的工艺气压。
光刻气压控制监测系统方法

[实用新型]泵腔室结构、真空腔室及真空镀膜机-CN202220096229.X有效
发明人：蒋毅;刘伟基;冀鸣;易洪波;赵刚;李宏盛 -专利权人：佛山市博顿光电科技有限公司;中山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： F04D29/52 文献下载
摘要：本申请涉及一种泵腔室结构、真空腔室及真空镀膜机；所述泵腔室结构，应用于真空镀膜机，包括：分设在真空腔室的工作腔室外侧的多个泵腔室；其中，各个所述泵腔室分别内置有真空泵；所述真空泵用于同步对工作腔室进行抽真空；所述泵腔室包括分设在工作腔室两侧的第一泵腔室和第二泵腔室；其中，所述第一泵腔室和第二泵腔室对称设计；该技术方案，基于多个泵腔室连接的真空泵同时抽气，提升了抽气口的面积，有效的增加了工作腔室内粒子到达泵室的机率，从而提升高真空状态的抽气速率。
泵腔室结构空腔真空镀膜

[实用新型]一种磁控溅射镀膜仪换样装置-CN201922160701.2有效
发明人：马毅;黄先伟;宋宇轩;俞越翎;谢续友;吴伊帆;张泰华 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜仪换样装置，包括真空室主腔及真空室副腔，所述真空室主腔与真空室副腔之间中间腔室，所述中间腔室分别与真空室主腔与真空室副腔相连通，所述中间腔室内部设有导轨，所述导轨上配合设置导轨小车，所述导轨小车上设有基片储备盘，所述基片储备盘上沿其周向设有一组基片架，基片架上设有基片；所述导轨小车在导轨上水平移动，从而将基片架在真空室主腔与真空室副腔之间进行转移，进而实现基片的转移。本实用新型的有益效果是：通过设置中间腔室，并设置导轨及导轨小车，从而实现基片在真空室副腔和真空室主腔之间的快速高效转移，节省成本，缩减真空室空间。
一种磁控溅射镀膜换样装置

[发明专利]一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统及其作业方法-CN201711330659.3在审
发明人：张仰平;王贝;刘锐;程明;张超群;葛治亮 -专利权人：中国建材国际工程集团有限公司
申请日： 2017-12-13 - 公布日： 2018-03-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统及其作业方法，在利用本发明的一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统为镀膜作业建立真空环境时，抽真空装置对真空罐进行抽真空而使得真空罐储备真空，在需要对进料腔室抽真空时，抽真空装置对进料腔室进行抽真空的同时，真空罐与进料腔室连通而吸入进料腔室中的气体，从而加快进料腔室的气压降低的速度；在进料腔室与真空罐之间的气压较为接近时，真空罐与进料腔室之间的第二截止阀关闭，抽真空装置仅对进料腔室进行抽真空，从而使得进料腔室的真空度迅速达到要求。
一种用于生产太阳能镀膜玻璃真空系统及其作业方法

[实用新型]一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统-CN201721732571.X有效
发明人：张仰平;王贝;刘锐;程明;张超群;葛治亮 -专利权人：中国建材国际工程集团有限公司
申请日： 2017-12-13 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统，在利用本实用新型的一种用于生产太阳能镀膜玻璃的抽真空系统为镀膜作业建立真空环境时，抽真空装置对真空罐进行抽真空而使得真空罐储备真空，在需要对进料腔室抽真空时，抽真空装置对进料腔室进行抽真空的同时，真空罐与进料腔室连通而吸入进料腔室中的气体，从而加快进料腔室的气压降低的速度；在进料腔室与真空罐之间的气压较为接近时，真空罐与进料腔室之间的第二截止阀关闭，抽真空装置仅对进料腔室进行抽真空，从而使得进料腔室的真空度迅速达到要求。
进料腔室真空罐抽真空抽真空系统抽真空装置太阳能镀膜本实用新型玻璃镀膜作业气压降低真空环境截止阀气压吸入连通生产储备

[发明专利]一种真空镀膜设备-CN201910400704.0有效
发明人：孙启敬;孙剑;高裕弟;洪耀;朱松山;张民井 -专利权人：枣庄睿诺电子科技有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：一种真空镀膜设备，其包括：真空镀膜腔室，包括腔室门和对所述基板进行真空镀膜的至少一个真空制程腔，所述真空制程腔设于所述腔室门内；大气传输腔室，包括至少一个对镀膜后的所述基板进行散热的大气腔；以及移动装置，将所述基板移动至所述真空镀膜腔室或者所述大气传输腔室的输入端；其中所述大气传输腔室的数量少于所述真空镀膜腔室的数量。通过设置镀膜真空室的数量大于大气传输腔室的数量，使得同一大气传输腔室可输入不同真空镀膜腔室内的基板，由此提高了大气传输腔室的利用率，从而提高了镀膜设备的生产效率。
一种真空镀膜设备

[实用新型]一种真空镀膜设备-CN202320698014.X有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：广东利元亨智能装备股份有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空镀膜设备，真空镀膜设备包括进料腔室、缓冲腔室、工艺腔室、出料腔室和真空泵，进料腔室和工艺腔室之间以及工艺腔室和出料腔室之间均设置有缓冲腔室，缓冲腔室的第一端连接工艺腔室，缓冲腔室的第二端连接进料腔室或出料腔室，缓冲腔室的侧壁设置有真空泵，靠近缓冲腔室第一端的真空泵数量多于靠近缓冲腔室第二端的真空泵。利用真空泵在缓冲腔室形成第二端向第一端的气流，在缓冲腔室与工艺腔室连通时，能够减少工艺气体从工艺腔室向缓冲腔室的流动，且在缓冲腔室连通进料腔室或出料腔室时，缓冲腔室中第二端向第一端的气流也能够防止工艺气体泄漏至大气本实用新型可广泛应用于真空镀膜技术领域。
一种真空镀膜设备

[发明专利]真空系统的调度方法及调度系统-CN201811358771.2在审
发明人：王晶 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-11-15 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：本发明提供的真空系统的调度方法及调度系统，包括：设定默认腔室，按等候队列次向各个等候腔室分配真空系统，判断等候队列是否有未抽真空的等候腔室，若是，继续按等候队列依次向各个等候腔室分配真空系统，若否，则根据默认腔室的状态对默认腔室进行抽真空通过本发明提供的真空系统的调度方法，实时监控等候队列的状态，一旦等候队列中不具有未抽真空的等候腔室，则将其分配给默认腔室进行抽真空，提高真空系统的使用率，同时，有利于默认腔室提高真空度。
真空系统调度方法

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