专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氮掺杂污泥炭载纳米四氧化三铁的制备方法及其应用-CN201910410648.9有效
  • 庄海峰;平立凤;单胜道;张昌爱;唐浩杰;张进;方程冉 - 浙江科技学院
  • 2019-05-16 - 2021-12-21 - C02F3/28
  • 本发明公开了一种以废弃物污水污泥为原料,通过水热和热解炭化,制备氮掺杂污泥炭载纳米四氧化三铁的方法及其强化废水厌处理工艺性能的应用。其步骤如下:脱水的污水污泥通过水热炭化进行氮源掺杂,高温热解制备生物炭过程通入氮气进行二次氮掺杂,最终制得氮掺杂污泥炭,通过铁盐共沉淀制得氮掺杂污泥炭载纳米四氧化三铁。本发明制备的炭材料具有高的比表面积和孔隙,有利于厌污泥颗粒化,并能提升厌污泥的导电性,促进厌降解的电子传递,强化难降解废水厌活性污泥的去除效能并促进甲烷产生。本发明炭材料成本低廉,性能高效稳定,不仅有效解决了废弃物污水污泥高附加值资源化利用,更提高了难降解废水厌处理工艺的性能。
  • 一种掺杂污泥纳米氧化制备方法及其应用
  • [发明专利]JFET器件的制备方法、JFET器件及其版图结构-CN202010146282.1有效
  • 蔡莹;金锋 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-03-05 - 2023-10-20 - H01L21/337
  • 本申请公开了一种JFET器件的制备方法、JFET器件及其版图结构,该方法包括:提供一衬底,衬底中形成有深N型阱,衬底上形成有场层;在衬底中形成P型阱,P型阱与场层的底部相交叠;在场层上形成第一栅场板、第二栅场板和第三栅场板;在衬底中形成第一P型重掺杂区和第二P型重掺杂区;在衬底中形成第一N型重掺杂区、第二N型重掺杂区和第三N型重掺杂区。本申请通过在制备JFET器件的过程中,使P型阱向漏极扩张,包覆场层底部的部分区域,从而降低了靠近第一栅极的场层的电场强度,在一定程度上降低了在对场层进行减薄后的击穿风险,提高了JFET器件的可靠性
  • jfet器件制备方法及其版图结构

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