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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于有机电致发光器件的化合物-CN202280017954.6在审
发明人：埃米尔·侯赛因·帕勒姆;克里斯蒂安·埃伦赖希 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C07D471/14 文献下载
摘要：本发明涉及适用于电子器件中的化合物和含有这些化合物的电子器件，更特别是有机电致发光器件。
用于有机电致发光器件化合物

[发明专利]基板表面处理液、使用其制造清洗过的基板的方法及制造器件的方法-CN202280019620.2在审
发明人：绢田贵史;长原达郎 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2022-03-08 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C11D3/37 文献下载
摘要：[问题]本发明提供一种用于有效地清洗基板的基板表面处理液。[解决方案]本发明的基板表面处理液是含有碱性化合物(A)和溶剂(B)的基板表面处理液，将所述基板表面处理液施涂于基板，用于形成含有至少一部分碱性化合物(A)的基板表面处理层，将基板清洗液施涂于所述基板表面处理层，用于形成基板清洗膜。
表面处理使用制造清洗方法器件

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202310952518.4在审
发明人：吉田幸史;奥谷学;安田周一;金松泰范;上田大;张松;长原达郎;绢田贵史 -专利权人：株式会社斯库林集团;默克专利有限公司
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法，其包括：处理液供给工序，向衬底的表面供给具有溶质及溶剂的处理液；处理膜形成工序，使已被供给至前述衬底的表面的前述处理液固化或硬化，在前述衬底的表面形成保持存在于前述衬底表面的去除对象物的处理膜；和剥离工序，向前述衬底的表面供给剥离液，将前述处理膜与前述去除对象物一同从前述衬底的表面剥离，前述剥离工序包括：贯通孔形成工序，使前述处理膜部分地溶解于前述剥离液而在前述处理膜上形成贯通孔。
衬底处理方法装置

[发明专利]抗蚀剂膜厚膜化组合物和制造厚膜化图案的方法-CN202280015626.2在审
发明人：池田宏和 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：[问题]提供一种抗蚀剂膜厚膜化组合物。[解决方案]抗蚀剂膜厚膜化组合物含有聚合物(A)、含氮化合物(B)和溶剂(C)，其中，所述含氮化合物(B)是取代有1或2个从由羟基、氨基、C1‑4羟基烷基和C1‑4氨基烷基所组成的群组中选出的取代基的5或6元含氮不饱和杂环化合物。
抗蚀剂膜厚膜化组合制造厚膜化图案方法

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN201910467689.1有效
发明人：吉田幸史;奥谷学;安田周一;金松泰范;上田大;张松;长原达郎;绢田贵史 -专利权人：株式会社斯库林集团;默克专利有限公司
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括：处理液供给工序，向具有具备凹凸的图案面的衬底的前述图案面供给处理液；处理膜形成工序，使已被供给至前述图案面的前述处理液固化或硬化，以追随该图案面的凹凸的方式形成保持存在于前述图案面上的去除对象物的处理膜；和除去工序，向前述图案面供给剥离液，将前述处理膜与前述去除对象物一同从前述图案面剥离，在维持前述去除对象物被前述处理膜保持的状态的同时将前述处理膜从前述衬底除去。
衬底处理方法装置

[发明专利]化学放大型正型光致抗蚀组合物以及图案形成方法-CN201880005596.0有效
发明人：铃木理人;河户俊二;高市哲正;明石一通 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：[问题]本发明提供一种可形成具有优异的截面形状的图案的正型化学放大型光致抗蚀组合物与使用了其的图案形成方法。[解决方案]一种正型化学放大型光致抗蚀组合物、以及使用了其的图案形成方法，该正型化学放大型光致抗蚀组合物包含：(A)与酸进行反应而使得相对于碱性水溶液的溶解度增加的聚合物、(B)有机溶剂、(C)包含不具有极性基团的阳离子的第一光酸产生剂、以及(D)包含具有极性基团的阳离子的第二光酸产生剂。
化学大型正型光致抗蚀组合以及图案形成方法

[发明专利]用非极性与极性溶剂混合物溶剂化的溶剂化结晶多核金属配合物、包含客体化合物分析物的此类溶剂化结晶多核金属配合物及其在确定客体化合物分析物的分子结构的方法中的用途-CN202280010214.X在审
发明人： C·屈恩 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C07F3/00 文献下载
摘要：本发明涉及溶剂化的结晶多核金属配合物，所述溶剂化是用极性溶剂或极性与非极性溶剂的混合物进行的。本发明的这些极性溶剂化的结晶金属配合物可以吸收分析物客体化合物，包括极性分析物客体化合物，以形成晶体结构分析样品。可以使用由这种溶剂化结晶多核金属配合物获得的晶体结构分析样品，通过X射线晶体学确定分析物客体化合物的分子结构。
极性溶剂混合物结晶多核金属配合包含客体化合物分析及其确定分子结构方法

[发明专利]多金属氧酸盐和杂多金属氧酸盐组合物及其使用方法-CN201910902154.2有效
发明人： V·G·R·查达;姚晖蓉;M·帕德马纳班;赵俊衍;E·沃尔佛;A·D·迪奥塞斯;S·K·木伦 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2014-12-08 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及新型组合物，其包含选自至少一种多金属氧酸盐、至少一种杂多金属氧酸盐及其混合物的金属组分；以及至少一种有机组分。本发明还涉及制备纳米棒阵列和纳米棒材料和膜的方法。本发明还涉及生成富含金属‑氧化物的膜的新型组合物，还涉及通孔或沟槽填充、反向通孔或沟槽填充和用底层成像的方法。该材料可用于许多行业的多种制造应用，包括半导体器件、光电器件和储能行业。
金属氧酸盐杂多组合及其使用方法

[发明专利]用于电子器件的材料-CN201880042613.8有效
发明人：埃尔维拉·蒙特内格罗;特雷莎·穆希卡-费尔瑙德;弗洛里安·迈尔-弗莱格;弗兰克·福格斯 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2018-06-25 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C07C211/54 文献下载
摘要：本申请涉及一种特定式(I)的螺二芴衍生物，其适用于电子器件中。#imgabs0#
用于电子器件材料

[发明专利]电子器件-CN202310594455.X在审
发明人：弗兰克·福格斯;特雷莎·穆希卡-费尔瑙德;埃尔维拉·蒙特内格罗;托马斯·埃伯利 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2017-10-06 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C07D311/96 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子器件。具体地，本发明涉及一种含有特定式的呫吨或噻吨化合物的电子器件。该电子器件优选是有机电致发光器件(OLED)。本发明还涉及特定的呫吨或噻吨化合物本身及其在前述的器件中的用途，及其制造方法。
电子器件

[发明专利]低介电常数硅质膜制造用组合物和使用其来制造固化膜和电子器件的方法-CN202080055072.X有效
发明人：会田健介;有马一弥;樱井一成 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2020-08-06 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：提供一种低介电常数硅质膜制造用组合物，该组合物能够形成具有优异机械性能和稳定电性能并带有分散的孔的低介电常数硅质膜。[解决手段]本发明提供一种低介电常数硅质膜制造用组合物，其包含：聚硅氧烷、造孔材料、缩合催化剂产生剂和溶剂。
介电常数质膜制造组合使用固化电子器件方法

[发明专利]用于有机电致发光器件的材料-CN202280008632.5在审
发明人：埃米尔·侯赛因·帕勒姆;菲利普·施特塞尔;克里斯蒂安·埃伦赖希;乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴;克里斯蒂安·艾克霍夫 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2022-01-03 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C07D407/14 文献下载
摘要：本发明涉及适用于电子器件中的化合物，以及含有这些化合物的电子器件，特别是有机电致发光器件。
用于有机电致发光器件材料

[发明专利]用于有机电致发光器件的含氮化合物-CN202180084715.8在审
发明人：菲利普·施特塞尔 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：本发明涉及适用于电子器件的含氮化合物以及包含所述化合物的电子器件，特别是有机电致发光器件。
用于有机电致发光器件氮化

[发明专利]用于有机电致发光器件的含氮化合物-CN202280010538.3在审
发明人：埃米尔·侯赛因·帕勒姆;克里斯蒂安·埃伦赖希 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C07D487/04 文献下载
摘要：本发明涉及适用于电子器件中的含氮化合物，并且涉及含有所述化合物的电子器件、特别是有机电致发光器件。
用于有机电致发光器件氮化

[发明专利]负型感光性组合物-CN202180086983.3在审
发明人：山崎章;能谷敦子 -专利权人： 默克专利有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F7/032 文献下载
摘要：[问题]提供一种负型感光性组合物，其能够形成具有特定锥角的图案，并且透射率高的固化膜。[解决方案]一种负型感光性组合物，包含(I)聚硅氧烷、(II)丙烯酸聚合物、(III)含有两个以上(甲基)丙烯酰氧基的化合物、(IV)聚合引发剂、以及(V)溶剂，其中，(III)成分为两种以上的组合，以(I)成分及(II)成分的总含量为基准，(III)成分的含量为10.0～25.0质量％。
感光性组合

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