“极间式靶材”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5036187个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法-CN201511026931.X有效
发明人：王占山;黄秋实;王轶文;蒋励;张众 -专利权人：同济大学
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。
多层膜反射镜样品架基底溅射制备高反射率多层膜真空腔钇靶材靶材镀膜直流磁控溅射电源混合工作气体表面粗糙度工艺重复性高纯氮气高纯氩气光学系统重要应用反射率高效率交替的可控性预溅射钯膜层成膜镀制钇膜停留重复

[发明专利]AlN模板及氮化镓基发光二极管外延片的制备方法-CN201910078253.3有效
发明人：刘旺平;张武斌;王坤;乔楠;吕蒙普;胡加辉;李鹏 -专利权人：华灿光电（浙江）有限公司
申请日： 2019-01-28 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种AlN模板及氮化镓基发光二极管外延片的制备方法，属于GaN基发光二极管领域。方法包括：提供衬底，并将衬底放置于物理气相沉积设备的工艺腔室中，工艺腔室内放置有Al靶材，衬底与Al靶材相对，工艺腔室中设有挡板，当挡板为打开状态时，挡板位于衬底与Al靶材之间；对衬底进行加热；打开挡板，向工艺腔室通入Ar；当工艺腔室的压力达到预处理压力且衬底的温度达到预处理温度时，连通Al靶材和脉冲电源，并在预处理时间内保持工艺腔室的压力为预处理压力不变和衬底的温度为预处理温度不变；向工艺腔室通入反应气体
aln 模板氮化发光二极管外延制备方法

[发明专利]真空工具镀膜的阴极电弧装置-CN201210256776.0无效
发明人：王叔晖;刘竹杨 -专利权人：上海法德机械设备有限公司
申请日： 2012-07-23 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空工具镀膜的阴极电弧装置，其包括靶材等元件，靶材与冷水座连接，辅助阳极通过支撑柱固定在法兰板的一面上，第一密封O型圈位于法兰板的上方，绝缘板位于第一密封O型圈和第二密封O型圈之间，螺钉绝缘套套在第一内六角螺钉上接线座的一端位于冷水座上，螺母与第二内六角螺钉连接，水嘴接头位于电磁线圈的一侧，电磁线圈通过第一十字盘头螺钉与冷水座固定，电磁线圈骨架位于电磁线圈的上方，防护罩通过第二十字盘头螺钉与电磁线圈骨架固定，引弧极压紧在气动引弧机构上，引弧极位于靶材的下方。本发明结构简单，且保证靶材的均匀刻蚀性。
真空工具镀膜阴极电弧装置

[实用新型]真空工具镀膜的阴极电弧装置-CN201220359276.5有效
发明人：王叔晖;刘竹杨 -专利权人：上海法德机械设备有限公司
申请日： 2012-07-23 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空工具镀膜的阴极电弧装置，其包括靶材等元件，靶材与冷水座连接，辅助阳极通过支撑柱固定在法兰板的一面上，第一密封O型圈位于法兰板的上方，绝缘板位于第一密封O型圈和第二密封O型圈之间，接线座的一端位于冷水座上，螺母与第二内六角螺钉连接，水嘴接头位于电磁线圈的一侧，电磁线圈通过第一十字盘头螺钉与冷水座固定，电磁线圈骨架位于电磁线圈的上方，防护罩通过第二十字盘头螺钉与电磁线圈骨架固定，引弧极压紧在气动引弧机构上，引弧极位于靶材的下方。本实用新型结构简单，且保证靶材的均匀刻蚀性。
真空工具镀膜阴极电弧装置

[发明专利]一种利用溅镀实现晶圆的物理镀膜设备-CN201910998723.8在审
发明人：吴浪生 -专利权人：吴浪生
申请日： 2019-10-21 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：其结构包括机体、真空镀膜腔体、机头、散热口，机体与机头为一体化，机头上设有用于控制真空镀膜腔体的控制面板，散热口设于机体的下方侧边，真空镀膜腔体的内部设有真空抽吸口、绝缘体、水冷口、电极发射层、溅镀气体入口、镀膜靶材层、正极基底、靶材均分板、拉杆，真空抽吸口与溅镀气体入口对称分布在真空镀膜腔体的两侧，电极发射层中携带有负极与正极基底、靶材均分板、镀膜靶材层正对，本发明靶材首先喷溅在靶材均分板上，利用集材腔、连接通杆与螺旋式均分腔，螺旋式均分腔配合转盘，在高速转动下将靶材均匀扩散在晶圆表面上，避免出现阶梯披覆合作和厚度不均的问题。
靶材真空镀膜腔均分板溅镀正极真空抽吸口电极发射气体入口螺旋式散热口镀膜基底机头绝缘体对称分布高速转动厚度不均晶圆表面均匀扩散控制面板物理镀膜负极接通杆侧边集材晶圆拉杆披覆水冷正对转盘一体化携带配合合作

[发明专利]一种避免反溅射层剥离的SIP系列靶材及其用途-CN202010377534.1在审
发明人：姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;王少平 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2020-05-07 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种避免反溅射层剥离的SIP系列靶材及其用途。所述SIP系列靶材包括阴极金属，所述阴极金属边缘的倒角半径R≥4mm。针对现有技术中，常规的SIP系列靶材，阴极金属与反溅射层间的界面设计并不能很好地缓解因热膨胀系数差异而产生的界面应力不匹配和应力集中问题，存在反溅射层剥落的风险；且反溅射层剥落会产生异常物理尖端，从而引发尖端放电本发明所述SIP系列靶材能够有效地缓解阴极金属与反溅射层间的应力不匹配和应力集中情形，能够避免反溅射层剥离和等离子体尖端放电的问题。
一种避免溅射剥离 sip 系列及其用途

[实用新型]永磁式平面磁控溅射靶-CN01255955.5无效
发明人：张兴全;李守义 -专利权人：深圳市福义乐磁性材料有限公司
申请日： 2001-09-25 - 公布日： 2002-07-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：永磁式平面磁控溅射靶,包括永磁体,在永磁体的上端面装有导磁极帽,导磁极帽的横截面形状可以为矩形、梯形、楔形、三角形、锥形、半圆形或其它形状,在永磁体的下端面装有导磁调整垫,导磁调整垫固定在极靴上,极靴通过升降调节螺杆支撑在磁控靶体上本实用新型提供了一种能使空间磁场均匀,提高镀膜质量,靶材利用率可达60%,磁性调整范围大,能消除杂散磁场,在非使用区不产生电弧的永磁式平面磁控溅射靶。
永磁平面磁控溅射

[发明专利]极紫外光光刻系统、液滴产生器的靶材供料系统及将靶材连续供料至液滴产生器的系统-CN201711219782.8在审
发明人：蔡明训 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开实施例提供极紫外光光刻系统。此系统包含极紫外光扫描模块，极紫外光收集器用于收集极紫外光辐射并将其引导至极紫外光扫描模块，液滴产生器用于产生熔融态金属的液滴，脉冲激光产生器作用于熔融态的金属液滴，以产生作为极紫外光辐射来源的等离子体，以及靶材供料系统。靶材供料系统包含用于容纳金属的容器，加热装置配置为加热容器内的金属至高于金属的熔化温度的温度，以及供料管具有连接至容器的上游端与和连接至液滴产生器的下游端，使得容器与液滴产生器流体连通。
液滴产生器极紫外光靶材供料系统光刻系统扫描模块金属等离子体熔化加热装置配置熔融态金属紫外光辐射紫外光加热容器金属液滴连续供料流体连通脉冲激光产生器此系统供料管熔融态上游端收集极收集器下游端液滴容纳辐射

[实用新型]靶材的超声波水浸式C扫描探伤设备-CN202121532599.5有效
发明人：石煜;曾墩风;朱永涯;刘玉奇 -专利权人：芜湖映日科技股份有限公司
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G01N29/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种靶材的超声波水浸式C扫描探伤设备，通过在水箱内设置三根套有辊套的旋转轴杆，将旋转圆形靶材放置每相邻的两根旋转轴杆上，这样可放置两根旋转圆形靶材，并且设置可拆卸的支撑脚通过支撑杆设置多个放置台来放置平面靶材，这样可选择性的在旋转轴杆一边上方安装放置台来放置平面靶材，旋转轴杆另一边露出放置圆形靶材，这样适应性强，旋转轴杆通过旋转机构带动转动，对圆形靶材转动起来全方位探伤。
超声波水浸式扫描探伤设备

[发明专利]旋转靶材自动包装设备-CN202211514718.3在审
发明人：陆杨军;郭庆生;蒋波;赖家俊 -专利权人：先导薄膜材料有限公司
申请日： 2022-11-29 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B65B33/02 文献下载
摘要：本发明公开了旋转靶材自动包装设备，具体涉及靶材包装技术领域，本发明靶材由导送辊移动至两个托架板之间，初始状态下，转动杆的末端未进入到靶材背管的内腔中，由托架板在移送台上滑动，使得转动杆进入到靶材背管中部，之后三个电动推杆二推动对应的支撑弧块与靶材背管的内壁紧密接触，进而对靶材背管内壁夹持固定，其中支撑弧块与电动推杆二设计成可拆卸式的结构，便于对支撑弧块的检修更换，方便操作，之后由电动推杆三拉动滑动座在托架板上限位上升并到达打包辊和热压辊的位置，从而实现对靶材的自动覆膜，提高了生产效率；经过旋转气缸的驱动使得辅助推板转动，辅助推板发生转动，将覆膜后的靶材推送移动，方便靶材的自动出料。
旋转自动包装设备

[实用新型]一种陶瓷旋转靶材邦定的金属密封系统-CN201720023307.2有效
发明人：胡茂横 -专利权人：深圳恒泰克科技有限公司
申请日： 2017-01-06 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： B22D19/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种陶瓷旋转靶材邦定的金属密封系统，包括金属背管和套置在金属背管外部的第一陶瓷旋转靶材，其中，金属背管和第一陶瓷旋转靶材在底部由一堵头密封形成空腔；金属背管的管内设置有内加热器，并且，第一陶瓷旋转靶材的外部设置有外加热器；金属背管和第一陶瓷旋转靶材之间的空腔内浇铸有低熔点金属绑定层。在邦定过程中保持两段靶材间保持密封，使低熔点金属不致流失，本实用新型同时在邦定完成时取出密封的低熔点金属绑定层，使其仍然具有热膨胀收缩缝，本实用新型解决了原有专利中采用有机密封，可靠性低，温度局限性大，
一种陶瓷旋转靶材邦定金属密封系统

[发明专利]连续式溅镀设备以及太阳能选择性吸收膜的制造方法-CN201110160445.2无效
发明人：庄瑞诚;张秉宏;叶咏津 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2011-06-07 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种连续式溅镀设备以及太阳能选择性吸收膜的制造方法。所述连续式溅镀设备，至少包括基材传送装置、一个溅镀腔体、多个靶材及控制构件。其中基材传送装置用以使基材沿一个移动路径移动。而多个靶材设置在溅镀腔体内，用以对基材进行溅镀，其中多个靶材依序设置于基材的移动路径上。控制构件用以控制溅镀时供给至多个靶材的操作参数，其中控制构件将溅镀时供给至多个靶材的操作参数控制为彼此不同。借由使用本发明的连续式溅镀设备，能够利用单一溅镀腔体来形成具有多层结构的太阳能选择性吸收膜。
连续式溅镀设备以及太阳能选择性吸收制造方法

[发明专利]一种金属间化合物纳米颗粒的原位合成方法-CN200810228101.9无效
发明人：董星龙;雷军鹏;黄昊;朱旭光;孙舰鹏;吕波;赵福国 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2008-10-13 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： B21D17/04 文献下载
摘要：一种金属间化合物纳米颗粒的原位合成方法，属于纳米颗粒材料合成技术领域。其特征是以低熔点锡或镁金属及合金微米粉和高熔点金属及合金微米粉为原料，将其均匀混合并压制成块体靶材作为自耗性阳极，在活性和惰性气体混合气氛中，利用等离子体热源蒸发块体靶材，经气-液-固相转变过程，原位形成锡基和镁基二元或多元金属间化合物纳米颗粒本发明的效果和益处是采用复合块体靶材，原位合成金属间化合物纳米颗粒，具有方法简单、成本低廉、杂质少、颗粒形态规整、适于规模化生产的特点。本发明制备的锡基或镁基金属间化合物纳米颗粒在锂离子负极材料、储氢材料等领域具有广阔的应用前景。
一种金属化合物纳米颗粒原位合成方法

[发明专利]一种靶材尺寸测量装置-CN202210084624.0在审
发明人：李东;潘中锋;张贝贝;姬庆玲;郑延梁;刘嘉浩;苗昕铭;沈骄阳;罗丽;刘诗语 -专利权人：武汉城市职业学院
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01B21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种靶材尺寸测量装置，包括定位测量座，所述定位测量座的顶部固定安装有两个对称设置的固定架，且两个固定架之间滑动安装有升降触板，所述升降触板的底部固定连接有竖向焊柱，且竖向焊柱的底端可拆式安装有限位测具该靶材尺寸测量装置，靶材本体压于压力传感器上，压力传感器会显示出压力，表明安装槽内存有靶材本体，以免出现漏测或空测的清洁，随后控制升降触板下移，使限位测具同步下移并与靶材本体接触，使靶材本体得以固定，以便后续的尺寸测量，而当靶材本体恰好与限位测具接触时，测距传感器会显示出一个定值，可更换不同的靶材本体进行重复测量，以确保同规格的靶材本体是否符合要求。
一种尺寸测量装置

[发明专利]一种钼靶材端面密封槽的加工方法-CN202210518041.4在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;徐礼升 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： B23P17/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种钼靶材端面密封槽的加工方法，所述加工方法包括采用特定的切槽刀具对钼靶材进行刀啄式切削，调整切削参数，并经冷却、排屑和抛光打磨，得到钼靶材端面密封槽。在本发明中，提供的钼靶材加工方法，通过采用特定的切槽刀具配合相应的切削参数，可以精准的得到特定尺寸的密封槽，且一定程度上降低了钼靶材的切削难度，提高了产品的外观，适合广泛推广使用。
一种钼靶材端面密封加工方法