专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]SiC单晶制造装置-CN201910972545.1有效
  • 歌代智也 - 昭和电工株式会社
  • 2019-10-14 - 2021-09-21 - C30B29/36
  • 本公开提供一种晶体生长用容器内的温度分布的均匀性高的SiC单晶制造装置。SiC单晶制造装置具备:容纳SiC原料的晶体生长用容器、覆盖上述晶体生长用容器的周围的绝热件、对上述晶体生长用容器进行加热的加热器、以及以悬空状态保持上述晶体生长用容器的保持构件。
  • sic制造装置
  • [发明专利]一种晶体生长方法和晶体生长装置-CN202310938720.1在审
  • 赵衡煜;陈泽邦;蔡杰毅 - 厦门钨业股份有限公司
  • 2023-07-28 - 2023-09-08 - C30B29/16
  • 本发明涉及一种晶体生长方法和晶体生长装置,所述晶体生长方法包括依次进行装料、引燃、扩熔池、晶体生长和降温等过程,得到晶体;其中,引燃的过程中使光源的焦点于晶体原料表面运动从而使其表面熔化形成熔池,直至熔池的表面积扩大至目标尺寸,扩熔池的过程中启动设置于坩埚外侧的感应线圈,且同步向坩埚内加入晶体原料,熔池持续向下扩张直至接触到坩埚底部的籽晶,晶体生长的过程中下调感应线圈的功率,使自籽晶顶部由下向上不断结晶,直至晶体达到熔池的顶部本发明提供的晶体生长方法和晶体生长装置能够得到有效熔池,并且能够形成径向的温度梯度,改善晶体的解理程度。
  • 一种晶体生长方法装置
  • [发明专利]一种用于气相升华法生长氮化铝的晶体生长装置-CN202211553254.7有效
  • 高冰;叶宏亮;李俊 - 浙江晶越半导体有限公司
  • 2022-12-06 - 2023-03-10 - C30B29/40
  • 本发明涉及晶体生长领域,公开了一种用于气相升华法生长氮化铝的晶体生长装置,包括隔热层、坩埚部件和加热线圈,所述坩埚部件装置在隔热层的收纳空间中;所述坩埚部件具有晶体生长空间,在晶体生长空间顶部设置籽晶,在坩埚部件的侧壁上设置附加热源部件,所述附加热源部件包括靠近籽晶的第一附加热源部件和远离籽晶的第二附加热源部,且第二附加热源部件的一侧装置有伸入到晶体生长空间内的导热部件,导热部件将晶体生长空间分隔为相互连通的靠近籽晶的第一热空间和远离籽晶的第二热空间本发明提出的晶体生长装置,能够保证较高晶体生长速率的前提下提高晶体生长的均匀性。
  • 一种用于升华生长氮化晶体生长装置
  • [发明专利]一种用于AlN晶体生长的籽晶-CN201310006222.X有效
  • 韩杰才;宋波;金雷;张化宇 - 哈尔滨工业大学
  • 2013-01-08 - 2013-03-27 - C30B29/38
  • 一种用于AlN晶体生长的籽晶,它涉及一种用于AlN晶体生长的材料。它要解决现有采用自发成核难以获得大尺寸AlN晶体,采用异质籽晶方法生长出的AlN晶体杂质含量高的问题。用于AlN晶体生长的籽晶为经过退火工艺处理后的AlN陶瓷片。用于AlN晶体生长的籽晶还可以为经过退火工艺处理后再进行抛光处理的AlN陶瓷片,或者在抛光后的陶瓷片表面镀上AlN薄膜,以得到用于AlN晶体生长的籽晶。采用本发明用于AlN晶体生长的籽晶生长出的AlN晶体尺寸较大,杂质含量少。本发明主要应用于半导体器件中AlN晶体生长
  • 一种用于aln晶体生长籽晶
  • [发明专利]锑化铟晶体生长方法及晶体生长-CN202111656465.9有效
  • 程鹏;程波;陈元瑞 - 无锡晶名光电科技有限公司
  • 2021-12-30 - 2023-09-19 - C30B15/20
  • 本发明公开了一种锑化铟晶体生长方法及晶体生长炉,其可降低锑化铟晶体应力,该方法基于晶体生长炉实现,晶体生长炉包括炉体、设置于炉体内的坩埚、位于坩埚上方的热屏,坩埚内盛装有锑化铟多晶原料,热屏内部设置有电磁感应加热线圈,电磁感应加热线圈套装于锑化铟晶体的外周且与锑化铟晶体的局部间隔对应;使用晶体生长炉并基于切克劳斯基法进行锑化铟晶体生长,锑化铟晶体生长时依次穿过热屏的屏口、电磁感应加热线圈,通过电磁感应加热线圈对锑化铟晶体进行周期性加热
  • 锑化铟晶体生长方法
  • [实用新型]一种晶体生长设备及晶体-CN202123056897.4有效
  • 韩永飞;王欣;刘鹏涛 - 北京滨松光子技术股份有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-06-14 - C30B15/00
  • 本申请公开了一种晶体生长设备及晶体,涉及晶体生长技术领域,解决现有技术中提拉法生长晶体过程中温度梯度变化导致晶体内部出现缺陷的问题。该晶体生长设备包括:生长炉,生长炉内具有生长炉腔;坩埚,设置于生长炉腔内,坩埚内可盛放晶体原料;感应线圈,设置于生长炉腔内,且围绕在坩埚外部;感应线圈驱动机构,与感应线圈连接,可在晶体生长的过程中,驱动感应线圈相对坩埚按照不同的速度向下移动本申请方案能平稳调整坩埚与感应线圈的相对位置,以调整坩埚内液面上方的温度变化,使晶体生长界面的温度梯度与初始状态保持一致,为晶体生长提供持续稳定的温场环境,避免晶体生长产生缺陷,极大提高了毛坯良品率和材料利用率
  • 一种晶体生长设备晶体
  • [实用新型]一种GaN晶体生长装置-CN201520345573.8有效
  • 陈蛟;李成明;刘南柳;巫永鹏;罗睿宏;李顺峰;张国义 - 北京大学东莞光电研究院
  • 2015-05-26 - 2015-10-21 - C30B29/40
  • 本实用新型公开了一种GaN晶体生长装置,包括高压釜,该高压釜内装设有坩埚,该坩埚内填充有晶体生长溶液,坩埚内放置有位于晶体生长溶液内的GaN籽晶,所述坩埚内设有浮在晶体生长溶液上的漂浮体,GaN籽晶生长面的背面与该漂浮体连接,漂浮体利用浮力带着GaN籽晶漂浮在晶体生长溶液上。本实用新型通过使GaN籽晶漂浮于高N浓度生长溶液顶部区域,GaN晶体可在生长溶液顶部区域的N过饱和溶液下高速率高质量生长,相对于传统的低N浓度生长溶液底部区域GaN晶体生长,顶部区域不仅为GaN晶体生长提供了丰沛的N源而快速生长,而且还有利于避免生长溶液顶部区域GaN自发形核产生多晶的问题。
  • 一种gan晶体生长装置
  • [实用新型]一种晶体生长炉加热装置-CN202222706083.9有效
  • 曹国峰;李勇;李思华 - 宁夏晶创智能装备有限公司
  • 2022-10-13 - 2023-01-10 - C30B15/14
  • 本实用新型涉及晶体生长装置技术领域,且公开了一种晶体生长炉加热装置,包括晶体生长炉和底座,所述底座设置于晶体生长炉的底部,所述晶体生长炉包括炉室、进料口、电子观测口、出气口、副炉管、阀门、炉体、加热器和传动装置该晶体生长炉加热装置,通过在炉体的周围设置有不同的加热装置使得能精准对炉体加热的温度进行把控,底部采用电阻加热块进行热传导,保证加热的稳定性,炉体上方采用电磁加热,减少热量的衰减,同时能对炉体内的晶体生长进行阶梯加热,提高晶体生长效率底部设置的传动装置,将炉体在炉室内进行旋转,使得炉体受热均衡,保证晶体生长稳定。
  • 一种晶体生长加热装置
  • [实用新型]一种晶体生长装置-CN201922114666.0有效
  • 赵有文;段满龙;卢伟;杨俊;刘京明 - 珠海鼎泰芯源晶体有限公司
  • 2019-11-28 - 2020-07-14 - C30B29/10
  • 本实用新型公开一种晶体生长装置,涉及晶体制备技术领域;包括晶体生长炉;其特征在于,还包括底座以及角度调整装置;所述晶体生长炉具有转轴,所述晶体生长炉通过所述转轴安装在所述底座上,与所述底座可活动连接;所述角度调整装置的驱动端连接所述晶体生长炉的所述转轴;所述角度调整装置驱动所述转轴转动以调整所述晶体生长炉的倾斜角度。本实用新型的晶体生长装置结合相应的晶体制备工艺,除了满足晶体生长的需求,同时还能满足晶体退火的需求以及脱埚前的准备,保证了工序的连贯性,减少了部分人工作业;并且能够减少脱埚过程中对坩埚的损伤,使得长晶过程中出现栾晶及花晶的比例明显降低,进一步提高了晶体的质量。
  • 一种晶体生长装置
  • [实用新型]一种晶体生长炉冷却装置-CN202222627946.3有效
  • 曹国峰;李勇;李思华 - 宁夏晶创智能装备有限公司
  • 2022-10-08 - 2023-03-14 - C30B29/06
  • 本实用新型涉及晶体生长技术领域,且公开了一种晶体生长炉冷却装置,包括生长炉体和炉体盖板,炉体盖板的边缘螺纹连接有螺纹螺栓,生长炉体内部的底端表面焊接有转动装置,转动装置的顶端表面连接有晶体生长反应釜,生长炉体的后端螺纹连接有冷却机构,冷却机构的正面焊接有连接机构,生长炉体的后端安装有推动装置,生长炉体螺纹连接于炉体盖板的底端表面。该晶体生长炉冷却装置,注射装置将冷却液向冷凝管内部注射,让冷却液可以在冷凝管内部进行流动,同时转动装置带动晶体生长反应釜旋转,让冷凝管对晶体生长反应釜均匀快速降温,使得人们取拿晶体生长反应釜时,避免工作人员的皮肤被烫伤,可以花费少量时间等候,可以增加晶体产量。
  • 一种晶体生长冷却装置

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