专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光伏电池及其制备方法-CN202011367263.8在审
  • 金井升;杨楠楠;张昕宇 - 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
  • 2020-11-27 - 2021-03-12 - H01L31/0216
  • 本发明实施例提供一种光伏电池及其制备方法,光伏电池的制备方法包括:提供半导体基材,在半导体基材中掺入第一掺杂元素,第一掺杂元素为N型掺杂元素或者P型掺杂元素中的一者;在掺入有第一掺杂元素的半导体基材的一侧形成具有第一厚度的初始钝化层;在初始钝化层远离半导体基材的区域掺入第二掺杂元素以形成具有第二厚度的场钝化层,未掺入第二掺杂元素的初始钝化层作为具有第三厚度的化学钝化层,其中,第二掺杂元素为N型掺杂元素或者P型掺杂元素中的另一者。
  • 电池及其制备方法
  • [发明专利]一种硅氧负极材料及其制备方法和应用-CN202210959559.1有效
  • 王静;罗飞 - 溧阳天目先导电池材料科技有限公司
  • 2022-08-11 - 2023-03-14 - H01M4/48
  • 本发明公开了一种硅氧负极材料及其制备方法和应用,包括:多孔陶瓷、氧化亚硅和掺杂元素;其中,以多孔陶瓷作为骨架,氧化亚硅和掺杂元素通过液相法或固相法均匀弥散分布在多孔陶瓷的孔隙内;掺杂元素包括金属掺杂元素和/或非金属掺杂元素;金属掺杂元素包括:一种或多种Al、Na、Li、Mg、Ca、Ti、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Mo、Ge、Sn任意一种掺杂元素的物质;非金属掺杂元素包括:一种或多种B、N、P、S、C、As、Se任意一种掺杂元素的物质;本发明的硅氧负极材料具有低体积膨胀、高循环和高初始效率的特性。
  • 一种负极材料及其制备方法应用
  • [发明专利]单分子层内δ掺杂的半导体材料及其制备方法和探测器-CN202011550954.1有效
  • 杜鹏 - 湖南科莱特光电有限公司
  • 2020-12-24 - 2023-05-12 - H01L31/0304
  • 本申请提供一种单分子层内δ掺杂的半导体材料及其制备方法和探测器。单分子层内δ掺杂的半导体材料,包括基础缓冲层以及设置在基础缓冲层上的一个或多个单分子掺杂层;基础缓冲层包括III族元素和V族元素;单分子掺杂层包括交替设置的未掺杂部分和掺杂部分,未掺杂部分与基础缓冲层的成分相同,掺杂部分包括与未掺杂部分相同的元素掺杂元素掺杂元素包括II族元素、VI族元素和IV元素中的一种或多种。半导体材料的制备方法,包括:在衬底上生长基础缓冲层,然后在基础缓冲层上交替生长未掺杂部分和掺杂部分得到所述单分子掺杂层。探测器,其原料包括半导体材料。本申请提供的单分子层内δ掺杂的半导体材料,具有更高的载流子浓度。
  • 单分子层掺杂半导体材料及其制备方法探测器
  • [发明专利]用作拓扑绝缘体的铋锑合金-CN202080080281.X在审
  • B·R·约克;黄承业;A·斯普尔;M·格里贝柳克;乐广 - 西部数据技术公司
  • 2020-12-23 - 2022-07-08 - G06F12/00
  • 本发明涉及一种SOT设备,该SOT设备包括位于衬底上方的铋锑掺杂元素(BiSbE)合金层。该BiSbE合金层用作拓扑绝缘体。该BiSbE合金层包含铋、锑和掺杂元素。该掺杂元素是非金属掺杂元素、金属掺杂元素和它们的组合。金属掺杂元素的示例包括Ni、Co、Fe、CoFe、NiFe、NiCo、NiCu、CoCu、NiAg、CuAg、Cu、Al、Zn、Ag、Ga、In或它们的组合。非金属掺杂元素的示例包括Si、P、Ge或它们的组合。该BiSbE合金层可包括多个BiSb薄片层和一个或多个掺杂元素薄片层。该BiSbE合金层具有(012)取向。
  • 用作拓扑绝缘体合金

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