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[发明专利]一种掩膜版除尘装置-CN201410260765.9在审
发明人：罗华明;毛智彪;杨正凯;王艳云 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-06-12 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：一种掩膜版除尘装置，包括密闭腔体、转轴、旋转支架、夹具、氮气喷嘴和抽气管路，掩膜版通过悬挂支架水平悬挂于密闭腔体内部的上方并可绕悬挂支架的转轴旋转，扁平形喷口的氮气喷嘴从掩膜版的下方对掩膜版表面进行清洁吹扫，然后通过抽气管路排出吹扫下来的尘埃颗粒和多余的氮气，同时氮气喷嘴的位置可由掩膜版的下方中心部位平移至掩膜版的边缘部位，该结构能避免夹杂有尘埃颗粒的气流对掩膜版的二次污染，还保证了氮气能吹扫到整个掩膜版的表面，以免出现盲区；本发明能全面、彻底的清除掩膜版表面的尘埃颗粒，并节省氮气消耗。
一种掩膜版除尘装置

[实用新型]一种掩膜版用的干燥装置-CN201922122095.5有效
发明人：侯广杰;叶小龙 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： F26B9/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版用的干燥装置，包括晾板架，晾板架包括架体和晾板部，架体用于支撑晾板部，晾板部呈台阶状，晾板部包括间隔设置的若干晾板侧壁和晾板底壁，晾板侧壁和晾板底壁依次连接，晾板侧壁用于与掩膜版的上侧接触，晾板底壁用于承载掩膜版的下侧。当需要晾干掩膜版时，将掩膜版的下侧放置在晾板底壁上，将掩膜版的上侧靠在晾板侧壁上，使得掩膜版倾斜放置在晾板部上。通过台阶状结构的晾板部，有效利用了立体空间，增大了晾板架能够放置掩膜版的数量，有利于批量晾干掩膜版。
一种掩膜版用干燥装置

[发明专利]偏振掩膜版、光刻系统以及用偏振掩膜版结合偏振光形成图案的方法-CN200480033556.5无效
发明人： J·麦基 -专利权人：微米技术股份有限公司
申请日： 2004-11-18 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：揭示了偏振掩膜版、使用偏振掩膜版的光刻系统、以及使用该系统的方法。形成的偏振掩膜版所具有的那个掩膜版包含至少一个第一图案化区域，该区域至少部分地由至少一个第二图案化区域所围绕。该偏振掩膜版的第一图案化区域包括偏振材料，并且偏振掩膜版的第二图案化区域也包括偏振材料。两区域的偏振材料的偏振方向通常彼此正交。当用具有选定偏振方向的线性偏振光来照射偏振掩膜版时，偏振掩膜版的两个区域上的偏振材料可以选择性地被用作滤光片，以能够在最佳照明条件下暴露偏振掩膜版的不同区域。
偏振掩膜版光刻系统以及结合偏振光形成图案方法

[发明专利]掩膜版以及曝光方法-CN201810266147.3在审
发明人：赵鹏;徐猛;张党柱;郭甜;古哲安 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：一种掩膜版以及曝光方法，所述掩膜版包括：基板，所述基板的表面具有掩膜图案；保护膜支架，所述保护膜支架固定连接于所述基板的表面；保护膜，固定于所述保护膜支架；其中，所述保护膜支架、保护膜和基板围成掩膜版腔室，所述掩膜版腔室中充有非氧化性气体。本发明方案可以延长掩膜版的使用周期，降低生产成本且提高产品质量。
掩膜版保护膜支架基板保护膜腔室非氧化性气体使用周期掩膜图案曝光

[实用新型]一种掩膜版涂胶装置-CN202122351432.5有效
发明人：左立波;龚清华;魏辉;马小辉;蔡航;李伟;刘许霞 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： B05C13/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转；本实用新型的掩膜版涂胶装置，通过真空吸附的方法实现对掩膜版进行固定，然后利用旋转的方式实现涂胶，保障待涂胶掩膜版的稳定性，提高涂布膜厚的均一性；在待涂胶掩膜版上设置涂胶盖板，缩小待涂胶掩膜版上部空间大小，改善气流，避免出现大面积、大速度的空气流动问题，实现确保膜厚的稳定性。
一种掩膜版涂胶装置

[发明专利]一种掩膜版传输方法-CN202011055974.1有效
发明人：王军伟 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种掩膜版传输方法，该方法根据掩膜版沿第二方向的尺寸和掩膜版的初始位置，先控制机械手采用沿托盘指向旋转台方向的第1组至第n组吸盘于托盘中吸附掩膜版，并沿托盘指向旋转台方向将所吸附的掩膜版从托盘传输至旋转台的前端；再控制机械手沿旋转台指向托盘方向运动第一距离，采用沿旋转台指向托盘方向的第1组至第n组吸盘于旋转台前端吸附掩膜版，并沿托盘指向旋转台方向将所吸附的掩膜版从旋转台的前端传输至后端；充分的利用了版叉长度，使得夹爪能够于旋转台的后端仅用一个步骤便可将掩膜版传输至工件台，减少了将掩膜版从托盘传输至工件台的时间，提高了掩膜版传输效率。
一种掩膜版传输方法

[发明专利]掩膜版的设计方法、制作方法和设计系统-CN201910498038.9有效
发明人：段芳芳;梁少端;杨晓宇;嵇凤丽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-06-10 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版的设计方法、制作方法和设计系统，该设计方法包括：对蒸镀过程进行模拟仿真，蒸镀过程采用待补偿的掩膜版蒸镀膜层，掩膜版包括框架和固定在框架上的掩膜版本体，掩膜版本体包括交叉设置的多条掩膜条，交叉设置的多条掩膜条限定出多个开口；蒸镀过程结束后，提取每一掩膜条在第一方向和第二方向上的位置偏差数据，第一方向和第二方向为掩膜版的长度方向和宽度方向；根据位置偏差数据，对掩膜版进行位置偏移补偿，得到补偿后的掩膜版的设计数据本发明可以对蒸镀过程中因热和力耦合导致掩膜版产生的不均匀形变进行预补偿，降低掩膜版上的开口的位置与基板上的相应的位置之间的偏差，改善实际蒸镀膜层边界与设计值的差异。
掩膜版设计方法制作方法系统

[发明专利]掩膜版-CN201910822447.X有效
发明人：杜帅;冯宏庆;郑勇;丁文彪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区；掩膜图案区与非掩膜图案区的分界为非直线型几何图形，几何图形向掩膜图案区凹陷；非掩膜图案区内设置有固定区，固定区用于固定掩膜版，几何图形位于固定区的相对面
掩膜版

[发明专利]掩膜版-CN202310195715.6在审
发明人：张丁成;王盼盼;韩冰;李慧 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜版。该掩膜版包括：掩膜框架、遮挡掩膜、支撑掩膜以及拉力机构；其中，掩膜框架围设形成中空区域；交叉设置的遮挡掩膜和支撑掩膜，遮挡掩膜的至少部分和支撑掩膜的至少部分在掩膜框架所在平面上的正投影分别位于中空区域内，且与掩膜框架接触；拉力机构设置于掩膜框架上，并与遮挡掩膜和/或支撑掩膜连接，用于施加作用力于遮挡掩膜和/或支撑掩膜，以张紧或松弛遮挡掩膜和/或支撑掩膜。该掩膜版可以匹配不同的目标基板以及同一目标基板的不同位置对遮挡掩膜和/或支撑掩膜的张紧程度的需求，有效改善了掩膜版与目标基板之间的贴合效果，提升了产品良率。
掩膜版

[发明专利]微型掩膜版、掩膜版装置及激光头-CN201711268527.2有效
发明人：张亮;陈旭;黄俊杰;包珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种微型掩膜版、掩膜版装置及激光头，该微型掩膜版包括遮光区域和开口区域，开口区域被遮光区域包围。根据本发明实施例提供的技术方案，通过开口区域被遮光区域包围微型掩膜版，能够解决传统掩膜版成本高的问题。
微型掩膜版装置激光头

[实用新型]一种大尺寸掩膜版光刻胶烘干装置-CN202321344685.2有效
发明人：李伟 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大尺寸掩膜版光刻胶烘干装置，包括密封的烘烤室，烘烤室内设置有掩膜版支撑架、下烘烤组件、上烘烤组件和换气组件，下烘烤组件和上烘烤组件分别设置于掩膜版支撑架的下方和上方，掩膜版支撑架与上烘烤组件和下烘烤组件之间分别留有上下料抬版空间和上下料抬版臂进出空间；上烘烤组件固定安装于烘烤室内，上下料抬版空间高度为上烘烤组件与掩膜版支撑架之间距离；本技术方案通过升降机构带动掩膜版支撑架和下烘烤组件上升，压缩上下料抬版空间高度和上下料抬版臂进出空间高度，上烘烤组件和下烘烤组件靠近掩膜版支撑架上待烘烤掩膜版，实现掩膜版近距离烘烤，受热均匀，烘干快速，烘干效率高。
一种尺寸掩膜版光刻烘干装置

[实用新型]掩膜版-CN201220171987.X有效
发明人：于航;张锋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2012-04-20 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掩膜版，包括：掩膜版基板，所述掩膜版基板上设置有透光区域和不透光区域，所述透光区域上设置有汇聚光线的光汇聚结构。本实用新型通过设置使照射到掩膜版的透光区域的光汇聚的光汇聚结构，使得使用掩膜版曝光后形成的光刻胶图案的狭缝的宽度小于掩膜版的透光区域的宽度。
掩膜版

[实用新型]一种金属掩膜版-CN202122485917.3有效
发明人：屈博文 -专利权人：上海和辉光电股份有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种金属掩膜版，所述金属掩膜版包括金属掩膜版基板和至少一个垫片；所述垫片设置于所述金属掩膜版基板的一侧；所述垫片的厚度各自独立地为50‑300μm。本实用新型所述金属掩膜版通过设置垫片，缩短了优化时的耗时，降低了成本低，且所述金属掩膜版的位置精度高。
一种金属掩膜版

[发明专利]一种应用于溅镀设备中的夹持装置和溅镀设备-CN201910534657.9有效
发明人：谭伟;李金川 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-06-20 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种应用于溅镀设备中的夹持装置和溅镀设备，夹持装置包括：夹具，用于将基板和掩膜版对应夹紧；与夹具连接的驱动装置，用于驱动夹具夹紧或松开；其中，夹具上设有与掩膜版的开口的形状和大小相匹配的开口，以在夹具夹紧掩膜版和基板后，夹具靠近掩膜版的一侧在基板上的正投影完全覆盖掩膜版在基板上的正投影，且夹具的开口与掩膜版的开口对位连通，裸露出基板的溅镀区域，以供溅镀设备对基板的溅镀区域进行溅镀。本申请可以避免基板溅镀成膜过程中掩膜版上也被溅镀的膜层覆盖，从而避免了掩膜版翘曲变形、掩膜版上溅镀的膜层脱落污染溅镀腔室以及基板成膜出现阴影的问题。
一种应用于设备中的夹持装置

[发明专利]掩膜装置及掩膜系统-CN201510308594.7在审
发明人：曾杰;李安石 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下，滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
装置系统