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[实用新型]一种掩膜版用的曝光补偿装置-CN201922098140.8有效
发明人：叶小龙;王栋 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常因此，在曝光斜面掩膜版时，将斜面掩膜版放置到承载板上，使得斜面掩膜版上表面平行于光刻机平台。
一种掩膜版用曝光补偿装置

[发明专利]掩膜板、掩膜装置及其应用方法-CN201910540107.8在审
发明人：肖世艳 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：为实现OLED CUP技术，本发明提供一种掩膜板、掩膜装置及掩膜板的应用方法，掩膜板用于基板成膜，所述基板包括一预设的开孔区，所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分；所述掩膜板包括一遮挡区；当所述掩膜板与所述基板被对位设置时，所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内；本发明提供一种掩膜板、掩膜装置及掩膜板的应用方法，使用两种不同的掩膜板对同一基板表面先后进行二次沉积处理，使得基板上表面除被遮挡区外的每处位置都被涂覆成膜，且不会产生附膜重叠的现象，可以提高有机材料在通孔周边区域成膜的均匀性，防止基板表面的同一位置存在多个不同色的子像素，从而可以防止混色或者色偏的现象产生，提高显示面板的质量。
掩膜板掩膜装置遮挡区基板表面成膜基板应用基板上表面二次沉积基板成膜通孔周边同一基板同一位置显示面板有机材料均匀性开孔区开口区遮光区子像素对位附膜隔线混色开孔色偏涂覆预设投影

[发明专利]一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具-CN201610522031.2有效
发明人：冯斌;李东滨;王德苗;金浩 -专利权人：浙江大学昆山创新中心
申请日： 2016-07-05 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具，包括上掩膜板、下掩膜板和被上下掩膜板夹于中间的弹性板；所述上掩膜板和下掩膜板上均设置有所需镀膜形状的掩膜开孔、第一紧固孔、第一定位孔；所述弹性板上设置有弹性机构、与上掩膜板和下掩膜板配合使用的第二紧固孔和第二定位孔；所述弹性机构包括第一半岛形结构和第二半岛形结构，第一半岛形结构和第二半岛形结构的形状为任意互补配合的几何形状，并分别向弹性机构平面的上下面翘起。本发明可以低成本地实现样品的一个需镀膜表面与掩膜板掩膜开孔边缘紧贴，以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。
掩膜板半岛形镀膜掩膜弹性机构气相沉积夹具弹性板定位孔紧固孔镀膜表面镀膜产品开孔边缘低成本平面的开孔翘起沉积紧贴粒子遮掩配合

[实用新型]一种掩膜板框架及掩膜板卡组件-CN201921947917.7有效
发明人：魏盘生 -专利权人：上海灏谷集成电路技术有限公司
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种掩膜板框架及掩膜板卡组件，属于显示技术领域，包括框架本体和掩膜板，所述掩膜板上设置有图形区域，所述框架本体中部开设有凹槽，所述凹槽内设置有等间隔分布的若干隔条，所述隔条将凹槽分隔成若干与掩膜板对应的开口，所述隔条侧面以及框架本体内侧安装有用于承载掩膜板的挡条。本实用新型实施例中，在制备有机发光二极管显示装置时，通过将掩膜板嵌入框架本体上部的开口内，并通过挡条对掩膜板进行承托，具有良好的定位效果，同时在使用完毕后还可将掩膜板及时取出，以便对其进行维护和更换；通过压紧件的设置还可将掩膜板压紧在对应开口内部，能够有效的放置掩膜板受热时发生移位，影响制备质量。
一种掩膜板框架板卡组件

[发明专利]一种掩膜板相机的掩膜板-CN201910516138.X有效
发明人：冯华君;周浩;吴迪;徐之海;李奇;陈跃庭 -专利权人：浙江大学
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板相机的掩膜板。二维掩膜板为两个一维序列的积，每个一维序列均由近完美序列组成；具体地，掩膜板由两个一维序列生成，根据所需的掩膜板长度，每个一维序列都由一个或多个完整的近完美序列组成，两个一维序列分别作为列向量、行向量相乘得到所需的二维掩膜板矩阵本发明提高了掩膜板相机的成像质量与图像信噪比，实现掩膜板相机高质量成像，拓展了编码成像编码阵列的设计方式，为掩膜板相机高质量成像奠定基础。
一种掩膜板相机

[实用新型]一种掩膜板吸附装置、光掩膜装置及曝光设备-CN201620739782.5有效
发明人： -专利权人：
申请日： 2016-07-13 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供一种掩膜板吸附装置、光掩膜装置及曝光设备，涉及显示技术领域，可缩小掩膜板下垂导致的光线经过掩模板后产生的偏移。该掩膜板吸附装置包括透明基板，用于将掩膜板吸附到所述透明基板的下方，其中，所述透明基板包括入射表面和出射表面，所述入射表面和所述出射表面中至少一个为凸面，用于补偿当所述掩膜板吸附装置吸附所述掩膜板时所述掩膜板下垂引起的光线偏移
一种掩膜板吸附装置光掩膜曝光设备

[实用新型]一种真空掩膜镀膜装置-CN202121687783.7有效
发明人：陈维强;韩涵;张鹤仙;黄国保;王存辉;范卫芳 -专利权人：陕西众森电能科技有限公司
申请日： 2021-07-23 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种真空掩膜镀膜装置，该装置包括：掩膜板，承载板和固定部件，固定部件包括边框，设置在边框上的若干弹簧针固定条，设置在弹簧针固定条上的若干弹簧针组件；承载板和固定部件通过连接组件连接，掩膜板设置在承载板和固定部件之间，通过调整承载板和固定部件之间的距离，将弹簧针组件压设在掩膜板上，并将掩膜板固定在承载板上。使用该装置对待镀膜样品在真空镀膜设备中进行掩膜镀膜时，弹簧针组件始终对掩膜板保持足够的压力，使位于承载板和掩模版之间的待镀膜样品表面与掩膜板紧密贴合，避免发生掩膜镀膜镂空图案的绕镀和阴影现象。
一种真空镀膜装置

[发明专利]掩膜板及成膜方法-CN201810788659.6有效
发明人：三上瞬;中尾裕利;田宫慎太郎;朝比奈伸一 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。
图案掩膜掩膜板基板透孔遮挡并列设置磁铁阵列紧密贴合磁导率贯通板接触板下表面磁铁突起成膜掩膜薄膜图案

[发明专利]掩膜板及其制备方法、显示基板及显示装置-CN202010976329.7在审
发明人：王彦磊 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2020-09-16 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩膜板及其制备方法显示基板及显示装置，其中，掩膜板包括：掩膜板主体；位于所述掩膜板主体一侧表面的隔垫部，所述隔垫部的侧壁和所述隔垫部背向掩膜板主体的顶面之间平缓过渡。所述掩膜板能够避免在蒸镀过程中对显示基板的损伤，避免显示基板薄膜封装失效。
掩膜板及其制备方法显示显示装置

[发明专利]掩膜板以及应用其检测曝光缺陷的方法-CN201310256981.1有效
发明人：史大为;郭建 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2013-06-25 - 公布日： 2013-09-25 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板以及应用其检测曝光缺陷的方法，涉及显示技术领域，可明确掌握曝光缺陷的产生原因，提升曝光效果，增加基板的参数指标。本发明实施例的掩膜板，包括掩膜图形，掩膜板还包括多个沿曝光机扫描方向排列设置的检测标掩膜图形，检测标掩膜图形设置在掩膜图形的边缘，检测标掩膜图形用于在基板上形成检测标，检测标用于反映曝光机的曝光缺陷。
掩膜板以及应用检测曝光缺陷方法

[发明专利]一种IC专用掩膜板上黑点类缺陷的修补方法-CN200810216703.2有效
发明人：荆学军 -专利权人：清溢精密光电（深圳）有限公司
申请日： 2008-10-13 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明适用于IC专用掩膜板上黑点类缺陷修补领域，提供了一种IC专用掩膜板上黑点类缺陷的修补方法，其步骤为：(1)将IC专用掩膜板的膜面向上放在IC专用掩膜板修补仪上，使用IC专用掩膜板修补仪上设有的显微镜确定IC专用掩膜板的黑点类缺陷的位置；(2)打开IC专用掩膜板修补仪上设有的激光器，根据黑点类缺陷大小和种类选择与之相对应的修补光斑和修补工艺将黑点类缺陷修补掉，所述激光器的发射功率为250Mw至500Mw之间；(3)修补完成后把IC专用掩膜板从IC专用掩膜板修补仪上取下，完成修补操作。
一种 ic 专用掩膜板上黑点缺陷修补方法

[实用新型]一种掩膜板和掩膜板系统-CN201220006968.1有效
发明人：李文波;王刚 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2012-01-09 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供一种掩膜板和掩膜板系统，涉及光刻技术领域，用以使得一个掩膜板可调变呈现不同图案，从而减少在制造中使用掩膜板的数量。所述掩膜板包括：图案显示屏，用于呈现掩膜图案；控制单元，用于根据光刻工艺中所需的掩膜图案的灰阶信息控制所述图案显示屏在不同区域的光透过量，以呈现所述掩膜图案。本实用新型实施例可应用于液晶显示器的生产。
一种掩膜板系统

[发明专利]掩膜板自动清洗系统及方法-CN201611193376.4在审
发明人：祖伟 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2016-12-21 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板自动清洗系统以及方法，该自动清洗系统包括曝光机控制端，与对应的曝光机相连接，用于控制所述曝光机的曝光制程、以及监控曝光机内每一掩膜板的使用次数；清洗装置，用以清洗所述掩膜板；主控装置，连接至所述曝光机控制端与所述清洗装置，所述主控装置根据每一所述曝光机中即将使用的掩膜板信息控制所述清洗装置提前清洗即将使用的掩膜板，并在监测到所述曝光机中的掩膜板的使用次数达到一预设次数时，自动发出掩膜板清洗提醒该清洗系统及方法可提前清洗待使用掩膜板，并根据掩膜板的使用情况发起清洗提醒，不但节省了人力，并且可及时清洁可能影响曝光效果的掩膜板，提升产能。
掩膜板自动清洗系统方法

[发明专利]薄膜图形化方法及掩膜板-CN201410364244.8有效
发明人：刘宇;闵天圭;张琨鹏;徐敬义;任艳伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2014-11-19 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种薄膜图形化方法及掩膜板，涉及微电子技术领域，能够直接在基板上沉积形成具有孔洞的薄膜。本发明的方法包括：在基板上方放置第一掩膜板，在所述第一掩膜板的遮挡下进行第一次薄膜沉积；然后去掉第一掩膜板，在基板上方放置第二掩膜板，在所述第二掩膜板的遮挡下进行第二次薄膜沉积；其中，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板上均设置有与薄膜上的所述孔洞区域相对应的第一遮挡部；所述第一掩膜板的非遮挡区域与所述第二掩膜板的非遮挡区域互补后形成的图形，与所述孔洞之外的薄膜分布区域相对应。
薄膜图形方法掩膜板

[发明专利]一种掩膜板存储装置-CN201710637887.9有效
发明人：胡静;黄文同 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： B25H3/02 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜板存储装置，涉及液晶面板制造领域，能够大大节省掩膜板存储所需空间，同时避免在存储和更换掩膜板时对掩膜板造成污染。所述掩膜板存储装置包括箱体，箱体的侧壁上设置有开口，开口处设置有门体，门体可封闭开口；掩膜板可通过开口进入或退出箱体；箱体的底壁上设置有搭载台，搭载台用于放置掩膜板；箱体内设置有多组沿竖直方向排布的支撑组件，相邻两组支撑组件之间存在间隙；箱体内还设置有驱动单元和与驱动单元连接的抓取单元，抓取单元用于从搭载台上抓取掩膜板；驱动单元可驱动抓取单元移动，使得抓取单元将抓取的掩膜板移动至支撑组件上。本发明用于掩膜板存储。
掩膜板抓取单元存储装置驱动单元支撑组件抓取存储搭载台开口液晶面板制造可封闭开口开口处侧壁底壁两组门体排布竖直移动驱动退出污染