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[发明专利]掩膜板及掩膜板涂层的制备方法-CN201880096043.0在审
发明人：马得贵 -专利权人：深圳市柔宇科技股份有限公司
申请日： 2018-10-09 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩膜板涂层(21)的制备方法，掩膜板(10)包括框架(110)和固定在框架(110)上的掩膜片(120)，掩膜板涂层(21)的制备方法包括：清洗掩膜板(10)表面；将铁氟龙分散液(20)形成在掩膜板(10)表面；将带有铁氟龙分散液(20)的掩膜板(10)置于预设温度下，使铁氟龙熔融固化形成铁氟龙涂层(21)。还公开了一种掩膜板(10)。
掩膜板涂层制备方法

[发明专利]掩膜板制作方法和掩膜板-CN202110670150.3有效
发明人：齐英旭;卓林海;王亚;郭宏伟;田斌 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2021-06-17 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： H01L21/266 文献下载
摘要：本申请提供的掩膜板制作方法和掩膜板，涉及掩膜板制作技术领域。在本申请中，首先，制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板，其中，预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域，掩膜图形位于掩膜区域内，堤坝结构位于非掩膜区域内。其次，将堤坝结构所在位置作为焊接位置，并基于焊接位置将预制图形板焊接于边框结构，得到包括预制图形板和边框结构的掩膜板，其中，堤坝结构用于增加将预制图形板焊接于边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积基于上述方法，可以改善基于现有的掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。
掩膜板制作方法

[发明专利]一种掩膜组件及蒸镀方法-CN202310446511.5在审
发明人：杨一新 -专利权人：季华实验室
申请日： 2023-04-23 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩膜组件及蒸镀方法，掩膜组件包括掩膜板组；掩膜板组包括至少一个掩膜板，掩膜板包括阵列排布的多个蒸镀图案；沿第一方向掩膜板的相邻蒸镀图案中心之间的距离为A；采用掩膜板组的至少一个掩膜板沿所述第一方向和本公开实现了增大掩膜板相邻蒸镀图案之间的距离，降低了掩膜板上蒸镀图案的密度，进而使得掩膜板相邻蒸镀图案之间区域尺寸增大，提高了掩膜板强度。
一种组件方法

[发明专利]金属掩膜装置-CN202010420506.3在审
发明人：何仕 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种金属掩膜装置，包括：掩膜板以及设置于所述掩膜板的背面上的掩膜条；所述掩膜板上开设有多个开口，所述掩膜板上与所述掩膜条连接的一面上开设有多个与所述开口连通的第一导流槽，所述掩膜条将部分第一导流槽的局部覆盖本申请实施例提供的金属掩膜装置通过采用该多个第一导流槽将掩膜板与掩膜条的连接处的清洗残留液排出到开口中，以便于对金属掩膜装置的清洗的效果，从而避免未清洗干净的金属掩膜装置对蒸镀操作的影响，从而可以提高OLED
金属装置

[发明专利]一种具有多层结构的掩膜板-CN202110455191.0在审
发明人：茆胜 -专利权人：睿馨（珠海）投资发展有限公司
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有多层结构的掩膜板，所述掩膜板包括至少两层，并且具有至少一个开口；第一掩膜层与基板的距离小于第二掩膜层与基板的距离；所述第一掩膜层的开口横截面小于第二掩膜层的开口横截面；这样蒸发的材料通过所述第二掩膜层进入所述第一掩膜层有益效果是：本发明的掩膜板采用开口的入口大于出口的设计，能够有效减少蒸发材料的阴影效果；该掩膜板由于开口的设计，使得第二掩膜层可以做的比较厚，能够有效支撑第一掩膜层，所以能克服现有掩膜板的脆弱性和下垂问题
一种具有多层结构掩膜板

[发明专利]一种掩膜安装组件和掩膜装置-CN201810228988.5在审
发明人：徐鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-03-20 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜安装组件和掩膜装置，所述掩膜安装组件包括边框和第一拉伸组件，第一拉伸组件可转动的设置在边框的第一侧，用于与掩膜板的第一边缘连接，且能够通过转动方式对掩膜板施加拉力以拉伸所述掩膜板，相应第一拉伸组可以在掩膜板所在的平面内对掩膜板进行拉伸，从而相比于利用焊点拉伸掩膜板的方式可以提高掩膜板的图案部的平整性，相应可以提高掩膜板图案部的PPA的合格率，进而可以降低显示面板在蒸镀过程中产生混色不良的比率。
掩膜板安装组件掩膜边框拉伸组件掩膜装置图案部拉伸边缘连接焊点拉伸显示面板转动方式可转动拉伸组平整性混色蒸镀合格率施加

[发明专利]掩膜板的制作方法及掩膜板-CN201810547816.4有效
发明人：肖志慧;郭远征;王菲菲 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开提供了一种掩膜板的制作方法及掩膜板，以提高掩膜板的受力均匀性和像素位置精度。其中所述掩膜板的制作方法包括：提供开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上具有至少一个开口区；在所述开口区内形成光刻胶层，所述光刻胶层具有掩膜板的网格结构的图案；以所述光刻胶层为掩膜，在所述开口区内沉积掩膜板的网格结构的材料，形成掩膜板的网格结构，所述网格结构的边缘与其所在的开口区的侧壁连接成为一体结构。上述制作方法应用于高PPI、异形或不规则形状的掩膜板的制作。
掩膜板制作方法

[发明专利]掩膜板张网力的仿真预测方法及系统、掩膜板张网设备-CN201911155139.2在审
发明人：毕娜;刘月 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板张网力的仿真预测方法及系统、掩膜板张网设备。" imgFormat="TIFF" orientation="portrait" inline="no" />计算掩膜板的模拟板厚；其中，LP为掩膜板上像素孔的长度；WP为像素孔的宽度；WF为掩膜板沿非拉伸方向的宽度；Thickness为模拟板厚；LAA为掩膜板上有效像素孔区在掩膜板所在平面内沿拉伸方向的长度；α为应变因子，α随有效像素孔区拉伸方向的平均应变设计要求和掩膜板的宽度变化而变化；将模拟板厚输入仿真算法并赋为仿真算法中的掩膜板的厚度值；仿真算法基于模拟板厚仿真预测掩膜板的张网力。该方法能提高张网力计算准确性，还能减小仿真算法的计算量，节约掩膜板设计和测试成本，缩短掩膜板开发周期。
掩膜板张网力仿真预测方法系统掩膜板张网设备

[发明专利]曝光方法、UV掩膜板及其制备方法-CN201810001799.4在审
发明人：廖建;李超 -专利权人：成都天马微电子有限公司
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，其中，所述UV掩膜板的制备方法利用在制备显示面板的过程中必需的黑矩阵掩膜板来进行UV掩膜板的制备，通过在基板上依次形成第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形以形成能够完全覆盖显示面板的显示区域的UV掩膜板，所述UV掩膜板的制备方法在制备UV掩膜板的过程中无需新开专用的掩膜板，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。
曝光方法 uv 掩膜板及其制备

[发明专利]掩膜条及掩膜板-CN202010221322.4在审
发明人：康梦华 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜条及掩膜板。本发明提供的掩膜条开设有多个第一开口的本体和限定出多个第二开口的网格，网格设置于第一开口内，并与本体连接；本体的厚度大于网格的厚度，从而能够有效地提升掩膜条的力学强度，保证蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置可以更为精准地对位
掩膜条掩膜板

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN201910153400.9在审
发明人：李加伟 -专利权人：云谷(固安)科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域，所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口，所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度，所述第一蒸镀区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度所述掩膜组件包括掩膜板框架、支撑条及至少一个所述掩膜板，所述支撑条固定设置在所述掩膜板框架上，至少一个所述掩膜板设置在所述支撑条上，且与所述掩膜板框架固定连接。
蒸镀掩膜板支撑条开口掩膜组件固定设置申请

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN201910153513.9在审
发明人：李加伟 -专利权人：云谷(固安)科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域，所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口，所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度，所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的横截面的面积小于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的横截面的面积
蒸镀开口掩膜板掩膜组件申请

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN202111436501.0在审
发明人：臧公正;李文星;李伟丽;韩冰;张继帅;邱岳 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜板及掩膜组件，掩膜板包括蒸镀区域和周边区域，蒸镀区域包括至少一个蒸镀开口；周边区域包括围绕蒸镀区域设置的实体区，实体区上开设有应力释放部，应力释放部围设蒸镀区域呈周向分布。该掩膜板中，在周边区域形成应力释放部，应力释放部减少了实体区中应力集中部分的体积，且由于应力释放部围绕蒸镀区域的周向分布，从而使得实体区的应力得到均匀的释放，通过在周边区域形成应力释放部使得掩膜板在张网时的应变趋于均一，进而使得掩膜板在张网时不易产生褶皱，从而提高了蒸镀良率。
掩膜板组件

[发明专利]掩膜框架及掩膜板-CN202211406670.4在审
发明人：臧公正 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2022-11-10 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜框架及掩膜板，其中，所述掩膜框架包括支撑条，支撑条包括沿第一方向间隔排布的多个第一支撑条和多个第三支撑条、以及沿第二方向间隔排布的多个第二支撑条，第一方向与第二方向相交，第一支撑条、
框架掩膜板

[发明专利]掩膜组件及掩膜板-CN202310092962.3在审
发明人：杨峰;李有鹏;李慧;赵晶晶;邹敏;王盼盼 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜组件及掩膜板，所述掩膜组件包括本体和垫片，所述本体包括第一通孔、以及围设在所述第一通孔外侧的凹槽，所述垫片可拆卸安装于所述凹槽内，所述垫片具有第二通孔，当所述垫片安装于所述凹槽内，所述第二通孔在所述本体上的投影至少部分位于所述第一通孔在所述本体上的投影内
组件掩膜板

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