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[实用新型]多角度自动抛光系统-CN201420575594.4有效
发明人：李凯格;周雪峰;莫庆龙;程韬波;徐永谦;罗俏 -专利权人：广东省自动化研究所
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多角度自动抛光系统，包括工作台、夹持装置、抛光装置及控制装置，夹持装置具有用于夹持物料的夹持部件、驱动所述夹持部件沿工作台所在平面横向运动的横向驱动装置、驱动所述夹持部件沿工作台所在平面平移运动的平移驱动装置，及驱动所述夹持部件沿工作台所在平面横向转动的转动驱动装置，夹持部件还具有转动装置及驱动所述转动装置转动的旋转驱动装置，抛光装置具有抛光部件及驱动所述抛光部件运转的抛光驱动装置，控制装置连接于横向驱动装置、转动驱动装置、旋转驱动装置及抛光驱动装置。本实用新型涉及的多角度自动抛光系统，能够多角度连续抛光，且抛光精确，保护工人身体健康，成本低。
角度自动抛光系统

[实用新型]曲面壳体抛光头、抛光器件及抛光设备-CN202123172502.7有效
发明人：李倩倩;陈亚兵;付弦;尹振武;许仁 -专利权人：维达力实业（赤壁）有限公司;万津实业（赤壁）有限公司
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： B24B41/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种曲面壳体抛光头、抛光器件和抛光设备。该曲面壳体抛光头包括顶面、底面和侧面；底面上具有底面抛光区域，侧面上具有呈内凹状的侧面抛光区域；侧面具有连接于顶面的顶端和连接于底面的底端，沿底端至顶端的方向侧面抛光区域逐渐圆滑外扩。该曲面壳体抛光头能够同时用于对平面区域和弧面区域进行抛光，能够节约实际抛光过程中更换平面抛光工件和曲面抛光工件的步骤。同时，该侧面可以对曲面壳体的弧面区域进行仿形，以显著提高对弧面抛光时的抛光均匀性，提高抛光良率。
曲面壳体抛光器件设备

[发明专利]一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘-CN202210458271.6有效
发明人：冯耕;李明伟;昌明;杨崇民;张建付;王松林;吴斌;马方斌;张岩;刘青龙;米高园 -专利权人：西安应用光学研究所
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘，包括配形抛光盘和异形零件加工抛光盘，异形零件加工抛光盘嵌入配形抛光盘内，异形零件加工时，柔性抛光盘放置在抛光模上，待抛光面与抛光模表面之间磨削抛光；配形抛光盘包括适配基板和配形介质，配形介质通过第一粘接胶粘贴在适配基板上；异形零件加工抛光盘包括待加工异形零件和异形胶模，待加工异形零件通过第二粘接胶粘贴在异形胶模上。本发明通过采用大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘与传统异形零件抛光盘加工零件相比有了巨大的改善效果，显著提高了高精度大口径超径厚比异形平面光学零件的加工效率和表面质量。
一种口径超径厚异形平面光学零件柔性抛光

[实用新型]手持式弹性抛光块-CN201620771613.X有效
发明人：张贵青;李丹;魏洪涛;毛华斌;单一凡 -专利权人：广州晶体科技有限公司
申请日： 2016-07-21 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： B24B23/00 文献下载
摘要：本实用新型的目的是提出一种可适用于非平面抛光面的手持式弹性抛光块，该种手持式弹性抛光块具有操作方便、抛光质量高的优点。本实用新型的手持式弹性抛光块由弹性基体及固定设置于基体侧面的抛光层构成，所述抛光层的截面为弧面、平面、折面中的一种，或者由弧面、平面、折面中的两种或三种相接而成；所述抛光层由粘结层与磨料层构成，所述粘结层将磨料层与基体粘结在一起本实用新型的手持式弹性抛光块结构简单，可根据待抛光物体的表面形状来选择合适的抛光块，并在抛光过程中能够有效地对抛光面进行冷却和排除粉末，从而提高抛光质量。
手持弹性抛光

[实用新型]一种平面高效抛光工具-CN201920839036.7有效
发明人：肖爱华 -专利权人：苏州市建邦精密模具有限公司
申请日： 2019-06-05 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种平面高效抛光工具，包括连接杆、手柄、耐磨绑带、握持凹槽、过渡面、扁口接头、推头、旋转轴、抛光载板、限位耳、砂纸，所述连接杆呈圆柱形状且上端同轴螺纹连接手柄，所述手柄的表面沿手柄周面切线方向等间距缠绕耐磨绑带通过上述方式，本实用新型提供一种平面高效抛光工具，增加多角度旋转的带有限位耳的推头结构，充分加强易损部位的结构强度，从而提高抛光效率，角度调整的灵活性可使砂纸与抛光平面始终保持平行，抛光时不易产生变形从而保证平面度，显著提高产品抛光质量。
手柄连接杆抛光握持砂纸本实用新型抛光工具绑带耐磨推头等间距缠绕多角度旋转一体成型的长度相等角度调整连接手柄抛光平面抛光效率切线方向手柄表面同轴螺纹易损部位圆柱形状槽面处过渡面平面度限位耳旋转轴上端扁口载板周面平行变形保证

[发明专利]一种超导线阻隔层用铌带的组织的检验方法-CN201610707894.7在审
发明人：马红征;何伟;武晶晶;惠晓原 -专利权人：西部金属材料股份有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：本发明公开了一种超导线阻隔层用铌带的组织的检验方法，该方法为：一、把铌带上的金相观测平面在金相研磨机上研磨，研磨后冲洗掉金相观测平面上的砂粒；二、将铌带置于抛光溶液中进行化学抛光，直至金相观测平面表面发亮；三、将抛光后的铌带置于腐蚀液中腐蚀；四、将腐蚀后的铌带的金相观测平面置于显微镜下进行金相组织的观测。本发明采用由H2SO4、HNO3和HF混合的抛光溶液抛光铌带材的金相表面，时间短，一般小于7S，能得到比物理抛光效果好的表面，抛光后的表面经腐蚀后能得到清晰的组织结构，消除了机械抛光后表面不干净，腐蚀后组织不清晰的影响
一种导线阻隔层用铌带组织检验方法

[实用新型]一种组合抛光治具-CN202021212764.4有效
发明人：邓松青;伍杰;叶国斌;蒋光华 -专利权人：东莞市瑞立达玻璃盖板科技股份有限公司
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种组合抛光治具，包括抛光底座，抛光底座上端面的中间部分为内凹弧面，内凹弧面设有吸槽，吸槽内设有贯穿至抛光底座下端面的吸孔，抛光底座的两侧为平面，在两侧的平面处均开设有贯穿至抛光底座下端面的挡条孔，挡条孔内镶嵌有可更换的抛光挡条。本实用新型的有益效果是：抛光治具两端设有可更换的抛光挡条，通过更换抛光挡条以解决产品在抛光过程出现有塌边现象，减少整个抛光治具的更换频率；抛光挡条采用更加耐磨的尼龙材料，增加抛光治具的使用寿命。
一种组合抛光

[发明专利]抛光波导表面的方法-CN202080074688.1在审
发明人：阿米特·马齐尔;纳玛·勒文;莉亚·洛巴钦斯基;耶谢·丹齐格 -专利权人：鲁姆斯有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： B24B9/08 文献下载
摘要：公开了一种抛光波导的目标表面以实现相对于参考表面的垂直性的方法。该方法包括：i)提供抛光装置，该抛光装置具有抛光盘以及可调节安装装置，抛光盘具有限定参考平面的平坦表面，该可调节安装装置被配置成在抛光期间将波导保持在多个角度取向；ii)定位光学对准传感器及光反射装置，使得第一准直光束从与参考平面平行的表面反射，并使第二垂直准直光束从参考表面反射；iii)将抛光装置内的波导对准，使得由光学对准传感器接收的反射在该光学对准传感器内对准，从而指示参考平面和参考表面之间的垂直性；以及iv)抛光对准的波导的目标表面。
抛光波导表面方法

[发明专利]一种化学预处理和介电泳协同作用的碳化硅平面抛光方法和装置-CN201910477762.3有效
发明人：赵军;方海东;彭浩然 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： B24B31/116 文献下载
摘要：本发明公开一种化学预处理和介电泳协同作用的碳化硅平面抛光方法和装置，能够解决碳化硅平面抛光不均匀的问题。该方法先利用芬顿反应对待抛光工件进行预处理，在其表面生成二氧化硅腐蚀层，降低工件表面的硬度，再将其放置在一个静止的过流腔体内，并在过流腔体内施加非均匀电场将磨粒极化，导致磨粒受力不均匀而向工件表面发生移动聚集磨粒流在非均匀电场作用下对芬顿预处理的待抛光工件的平面进行抛光，达到高效均匀抛光的效果。本发明的抛光方法抛光的工件表面均匀、表面粗糙度低、表面质量高、加工效率高。
一种化学预处理电泳协同作用碳化硅平面抛光方法装置

[实用新型]一种周抛机的抛光模组-CN202120775378.4有效
发明人：龚伦勇 -专利权人：江西瑞美机械设备有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种周抛机的抛光模组，包括毛刷组件、毛刷旋转驱动和毛刷前后驱动，所述毛刷组件呈多棱状套接在毛刷旋转驱动的外周，所述毛刷旋转驱动设置在毛刷前后驱动上，毛刷旋转驱动和毛刷前后驱动分别驱动毛刷组件进行转动和移动利用链条将较大的毛刷分成条状，并通过毛刷前后驱动和毛刷旋转驱动分别驱动其进行转动和横向移动，实现了对较大工件或异形工件的较大平面的抛光。结构简单，操作方便，在进行转动抛光的同时还保证了抛光面的平行，旋转的平面抛光方式抛光效率更高，工件受力也更加均匀。住的弄的抛光方式也便于对工件两个平面连接边的圆角处理，使得抛光效果更好。
一种周抛机抛光模组

[发明专利]一种抛光垫修整器、加工装置及方法-CN201910339084.4在审
发明人：白宗权;具成旻 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： B24B53/02 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫修整器、加工装置及方法，抛光垫修整器包括：基台，所述基台的至少一侧表面上设有多个不同粒径的研磨粒，每侧表面上的所有所述研磨粒的端面位于与所述基台所在的平面平行的同一平面上。根据本发明的抛光垫修整器，基台的表面上设有多个不同粒径的研磨粒，每侧表面上的所有研磨粒的端面位于与基台所在的平面平行的同一平面上，使得修整器的研磨粒端面位于同一平面，保证修整器表面的平整性，提高修整抛光垫的修整效果，减少修整器修整抛光垫的次数和时间，提高修整效率。
研磨粒基台抛光垫修整器修整修整器加工装置平面平行侧表面抛光垫粒径平整性保证

[发明专利]化学机械抛光方法和装置-CN202011042568.1有效
发明人：沙酉鹤;谢越 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司
申请日： 2020-09-28 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光方法和装置。所述方法包括提供待抛光的半导体晶圆；对所述半导体晶圆执行化学机械抛光工艺，其中，在所述化学机械抛光工艺中所述半导体晶圆位于第一平面；对所述半导体晶圆执行悬空处理步骤，其中，在所述悬空处理步骤中所述半导体晶圆位于高于所述第一平面的第二平面并且所述半导体晶圆表面下方悬空根据本发明，将半导体晶圆上升到一定高度远离抛光垫进行悬空处理步骤，使半导体晶圆旋转，半导体晶圆表面的抛光液、抛光液中的抛光颗粒和抛光副产物，脱离半导体晶圆表面，从而避免了晶圆表面粘附的抛光液颗粒和抛光副产物影响后续处理步骤
化学机械抛光方法装置

[实用新型]一种高分子板材抛光装置-CN202120931643.3有效
发明人：徐强 -专利权人：安徽卓畅新材料有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高分子板材抛光装置，包括底座，所述底座的前后两侧设有第一挡板，两侧所述第一挡板上均设有横向抛光机构，所述底座的左右两侧设有第二挡板，两侧所述第二挡板之间设有板材夹持装置，所述板材夹持装置上方设有平面抛光装置，所述平面抛光装置通过支撑架固定再两侧的第二挡板上，本实用新型结构简单，设计新颖，特设的板材夹持装置，不仅能够带紧紧夹持住板材，同时还能够带动板材进行前后左右移动，从而确保能够全面抛光，提高抛光效果，通过平面抛光装置不仅能够对其表面进行打磨，同时通过横向抛光机构，还能够对高分子板材的侧边一起进行抛光打磨，提高抛光效率，特设的吸尘装置能够将抛光产生的粉尘吸收，减少环境污染。
一种高分子板材抛光装置

[发明专利]抛光设备的抛光平面度控制方法、装置和抛光设备-CN201710774883.5有效
发明人：张敬业;路新春;沈攀;王同庆 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2017-08-31 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光设备的抛光平面度控制方法、装置和抛光设备。该方法包括以下步骤：对抛光设备所加工的晶圆的多个施压区域分别施加对应的抛光压力以进行抛光处理；获取多个施压区域中每个施压区域的抛光厚度，并获取抛光时间；根据每个施压区域的抛光厚度和抛光时间计算每个施压区域的实际去除速率；根据每个施压区域的实际去除速率和对应的基准去除速率计算每个施压区域的去除速率漂移量；根据每个施压区域的去除速率漂移量调整抛光液的落点位置。根据本发明的抛光设备的抛光平面度控制方法，可以延长抛光垫的使用周期、提高抛光设备的使用效率、降低生产成本、提高晶圆的良品率，且简单有效、稳定性高。
抛光设备平面控制方法装置

[发明专利]垫窗插入-CN201180023970.8有效
发明人： B·A·斯韦德克;D·J·本韦格努 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-04-27 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种抛光垫包括：抛光层，该抛光层具有抛光表面；粘着层；该粘着层位于抛光层的一侧而与抛光表面相对；以及固态光透射窗，该固态光透射窗延伸穿透抛光层并成型于抛光层。固态光透射窗的顶表面与抛光表面共平面，且固态光透射窗的底表面与粘着层的下表面共平面。
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