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[发明专利]用于蓝宝石产品外形抛光的装置、系统及抛光方法-CN201510454790.5有效
发明人：周群飞;饶桥兵;蒋天霖 -专利权人：蓝思科技（长沙）有限公司
申请日： 2015-07-29 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种用于蓝宝石产品外形抛光的装置，所述装置包括抛光盘和软磨皮，所述软磨皮包括磨皮层和与所述抛光盘的盘面固定连接的软质泡棉层。本发明还提供一种蓝宝石外形的抛光方法，所述方法包括步骤一：粗抛蓝宝石面板的A平面和弧面，和步骤二：精抛蓝宝石面板的A平面、弧面及其连接部位：使用如上所述的抛光装置，其中软磨皮与抛光盘固定连接，对蓝宝石施加压力使得其A平面、弧面及其连接部位陷入所述软磨皮中，通过软磨皮与蓝宝石的相对旋转运动并结合使用含SiO2微粒的抛光液进行抛光。使用本发明提供的抛光装置，可将弧面与A平面一体化精抛，使A平面与弧面不存在接痕，达到改善3D蓝宝石外形的目的。
蓝宝石抛光软磨弧面抛光盘产品外形连接部位抛光装置精抛相对旋转运动软质泡棉层施加压力皮层抛光液粗抛接痕盘面一体化

[实用新型]弹性抛光盘-CN201520987792.6有效
发明人：龚福鑫 -专利权人：龚福鑫;无锡市钜程美钢科技有限公司
申请日： 2015-11-25 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种不锈钢板镜面抛光所用的弹性抛光盘，其特征在于：其上部有与抛光轴相连的连接法兰，所述连接法兰下面有一个可以上下运动的活动压盘，两者通过法兰孔用螺栓固定，所述活动压盘的下面是平面抛光盘，所述平面抛光盘由定位轴套、定位螺栓和压力弹簧组成，在平面抛光盘外圆边缘分布有六个螺栓孔，所述活动压盘的外圆边缘同样对应分布有六个通孔，所述定位轴套穿过活动压盘上的六个通孔与下面的平面抛光盘配合，所述定位螺栓穿过定位轴套将活动压盘与平面抛光盘定位连接在一起该弹性抛光盘结构简单、实用，可提高产品质量和工效。
弹性抛光

[发明专利]多向使用新加工垫设计-CN03815470.6无效
发明人： M·瑙科克 -专利权人：因芬尼昂技术股份公司
申请日： 2003-08-14 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种用于平面化半导体晶圆(如，半导体晶圆420)的抛光垫(如，抛光垫305)，依据该抛光垫305的移动方向，该抛光垫305特征化许多不同抛光表面。该抛光垫305可采用抛光盘或抛光皮带的形式。该半导体晶圆420的平面化可接着在较少数目的抛光站进行，由此减少了所需时间并减少了损伤该半导体晶圆420的机率。
多向使用加工设计

[发明专利]一种超薄电子玻璃的精细抛光设备及精细抛光方法-CN201410833462.1在审
发明人：杨德宁 -专利权人：杨德宁
申请日： 2014-12-18 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： B24B7/06 文献下载
摘要：本发明提出了一种超薄电子玻璃的精细抛光设备，其包括用于抛光超薄电子玻璃的抛光机械、抛光液系统、传动带、动力系统、平面托板，所述抛光机械位于所述传动才的上方，所述动力系统带动传动带，所述平面托板位于所述传动带的下方并位于所述抛光机械的下方此外，还包括升降装置，该升降装置用于带动所述平面托板上下移动，所述传动带运动方向的尾部安装有吹气装置。本发明还提出了一种超薄电子玻璃的精细抛光方法，其采用该精细抛光设备对超薄电子玻璃进行抛光。
一种超薄电子玻璃精细抛光设备方法

[发明专利]用于抛光金属的组合物、金属层的抛光方法以及生产晶片的方法-CN200380102127.4无效
发明人：佐藤孝志;西冈绫子;鱼谷信夫 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2003-10-31 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：使用一种金属抛光组合物抛光金属层，所述金属抛光组合物包含在金属层表面聚合、在金属层表面形成聚合物膜的成膜化合物。金属层的抛光方法包括使用金属抛光组合物的金属层的抛光和平面化的步骤。晶片的生产方法，其中包括形成于含有凹槽的晶片顶部以填充和覆盖凹槽的金属层的抛光和平面化的步骤。根据该组合物和抛光方法，避免了凹陷以改善平面性，并且抛光金属层、特别是铜层的抛光速率得到了改善，从而使低压下的膏抛光速率成为可能，由于也防止了金属层的划伤，产能得到了提高。
用于抛光金属组合方法以及生产晶片

[实用新型]一种抛光机构-CN201921633944.7有效
发明人：朱志忠;周星;何卫;罗春友;李荣昌;陈益符;许立干 -专利权人：广州文冲船厂有限责任公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光机构，其包括架体和抛光装置，所述架体具有一工作平面，还包括用于驱动所述抛光装置在所述工作平面上平移至预定加工位的平移机构；所述抛光装置通过所述平移机构连接在所述工作平面上。本实用新型所述的抛光机构，可通过所述平移机构将抛光装置移动至预定加工位，所述抛光装置再对待加工物进行抛光操作，从而取代现有技术采用补焊、襄轴套、打麻点等方法，工装相对更轻巧、简便，节约了维修费用，降低了维修难度
一种抛光机构

[发明专利]用于CMP抛光垫的碎屑移除凹槽-CN201710180712.X在审
发明人： L·M·库克;Y·童;J·索;J·J·亨德伦;P·康奈尔 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2017-03-23 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明提供一种适用于抛光或平面化半导体、光学和磁衬底中的至少一个的抛光垫。所述抛光垫包含抛光层，所述抛光层具有聚合物基质、厚度以及表示所述抛光层的用于抛光或平面化的工作区的抛光轨迹。径向排放凹槽延伸穿过所述抛光轨迹，以促进在所述抛光垫旋转期间穿过所述抛光轨迹且在半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个下面且接着超出所述抛光轨迹朝向所述抛光垫的周边的抛光碎屑移除。
用于 cmp 抛光碎屑凹槽

[实用新型]一种计算机机箱加工装置-CN201921900954.2有效
发明人：陈井霞 -专利权人：哈尔滨商业大学广厦学院
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：更具体的说是一种计算机机箱加工装置，可以通过调节夹紧圆板与夹紧滑动板的螺纹连接长短，进行计算机机箱的固定，开可以通过往复电机带动往复轮转动，往复轮通过往复离心杆和往复连接杆带动机箱的往复运动；还可以通过直角抛光电机带动直角抛光轮转动，在机箱的往复运动下实现对直角处的抛光；还可以通过竖直固定板与滑动板之间的螺栓调节直角抛光电机的高度适应不同高度的机箱；还可以通过丝杆电机驱动平面抛光电机上下运动，平面抛光电机驱动平面抛光轮在机箱往复运动下实现机箱的平面抛光
一种计算机机箱加工装置

[发明专利]抛光垫-CN201811051217.X在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有多个研磨槽。定义一参考平面，参考平面垂直于研磨槽的延伸方向，研磨槽的槽腔在参考平面上的正投影呈倒梯形。本公开提出的抛光垫的研磨槽的槽口宽度大于槽底宽度，使得抛光过程中存在于研磨槽中的杂质较容易被去除，从而改善研磨缺陷。
抛光

[实用新型]抛光垫-CN201821474268.9有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有多个研磨槽。定义一参考平面，参考平面垂直于研磨槽的延伸方向，研磨槽的槽腔在参考平面上的正投影呈倒梯形。本公开提出的抛光垫的研磨槽的槽口宽度大于槽底宽度，使得抛光过程中存在于研磨槽中的杂质较容易被去除，从而改善研磨缺陷。
研磨槽参考平面抛光表面抛光垫抛光过程抛光研磨倒梯形正投影槽口槽腔去除垂直延伸

[实用新型]一种新型地面抛光磨块-CN201720424319.6有效
发明人：夏珂 -专利权人：福州邦泰金研金刚石工具制造有限公司
申请日： 2017-04-21 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： B24D7/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型地面抛光磨块，所述磨块包括圆形的金刚石研磨体，所述研磨体上设置有多个抛光块，至少一个抛光块的抛光面是由抛光平面与斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为斜面的最高边，所述的多个抛光块之间通过纵横交错的凹槽相连通本实用新型优点的优点在于结构简单，能够快速处理地坪及大理石花岗岩的翻新以及剪口打磨，快速抛光、提高了工作效率。同时，由于在抛光块的抛光面上斜面的设置，使得抛光平面与地面接触打磨的过程中，产生的粉屑能够及时经由斜面滑落于各个抛光块之间的凹槽中，然后沿着凹槽画出研磨体，粉屑的及时排出，在提供磨块打磨抛光效率的同时，延长了抛光磨块的使用寿命。
一种新型地面抛光

[发明专利]抛光垫以及化学机械抛光方法-CN200610118833.3有效
发明人：蒋莉;臧伟;季华;小池正博 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-11-28 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： B24D17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫，所述抛光垫的抛光面上具有平面区和凹凸区，所述平面区为粗糙度小于20μm的平坦表面，用于抛光晶圆，所述凹凸区具有槽、孔或者它们的组合，用于抛光后将晶圆从抛光面拔起。采用本发明提供的抛光垫可使化学机械抛光后的晶圆有较高的表面平整度，抛光结束后，将晶圆移动至抛光垫的凹凸区，可以容易的将晶圆从抛光垫表面拔出。
抛光以及化学机械抛光方法

[发明专利]抛光垫以及化学机械抛光方法-CN200610118834.8有效
发明人：蒋莉;臧伟;季华;小池正博 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-11-28 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： B24D17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫，所述抛光垫的抛光面上具有平面区和凹凸区，所述平面区为粗糙度小于20μm的平坦表面，用于抛光晶圆，所述凹凸区具有槽、孔或者它们的组合，用于抛光后将晶圆从抛光面拔起。采用本发明提供的抛光垫可使化学机械抛光后的晶圆有较高的表面平整度，抛光结束后，将晶圆移动至抛光垫的凹凸区，可以容易的将晶圆从抛光垫表面拔出。
抛光以及化学机械抛光方法

[实用新型]平面金属出粉刀-CN201820470126.9有效
发明人：王云桃 -专利权人：中山市威龙精工科技有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： G03G15/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种平面金属出粉刀，包括刀架和焊接在刀架上的平面金属刀片，所述平面金属刀片的工作面上用于接触显影辊的部分设置有采用抛光研磨方式制成的抛光研磨带。实用新型提供的平面金属出粉刀，将金属刀片上用于接触显影辊的部分利用抛光打磨的方式形成抛光研磨带，使得该平面金属刀片与显影辊接触时，由于接触部分的刀片平整光滑，从而可提高出粉的质量。
平面金属刀片抛光研磨出粉刀显影辊刀架本实用新型金属刀片抛光打磨平整光滑焊接

[实用新型]一种抛光机-CN201620383100.1有效
发明人：贺全安 -专利权人：开县伟朋科技服务中心
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光机，包括用于输送板材的输送架，输送架具有放置板材的抛光平台，抛光平台下端设置有滚轮组，滚轮组最上端所在的平面与抛光平台所在的平面为同一平面，输送架的上方设置有抛光架，抛光架上转动设置有抛光轮，抛光架的一侧设置有修磨架，修磨架的上端部转动设置有驱动盘，驱动盘上转动设置修磨砂轮，抛光装置外面设置有安全外罩，安全外罩内设置有风机，安全外罩的出风口处设置有废渣收集箱。本实用新型的抛光机，减少了粉尘的飞扬，减少对操作人员身体的危害，避免了环境污染，降低了安全隐患，提高了抛光效果。
一种抛光机