专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]单晶硅平面楔形光学零件的抛光方法-CN202211234937.6在审
  • 刘云龙 - 北京创思工贸有限公司
  • 2022-10-10 - 2023-01-10 - B24B1/00
  • 本申请公开了一种单晶硅平面楔形光学零件的抛光方法,其中,所述抛光方法包括:S1.对所述单晶硅平面楔形光学零件的平面S进行光学抛光,以使所述平面S抛光至PV达到第一值的第一平面,第一值为PV优于2.5Lambda@633nm;S2.对第一平面进行离子束抛光,以使第一平面抛光至PV优于第二值的第二平面;S3.对第二平面进行光学抛光,以去除离子束抛光在第二平面上形成的麻点。本申请的方法可以先通过光学抛光将单晶硅平面抛光至面形精度较低的第一平面,再通过离子束抛光对第一平面精修到第二平面,最后通过光学抛光去除离子束抛光形成的麻点,从而能够适于满足单晶硅平面楔形光学零件抛光的高质量
  • 单晶硅平面楔形光学零件抛光方法
  • [发明专利]自动化球面抛光设备抛光平面的方法-CN202310523301.1在审
  • 周立博 - 北京创思工贸有限公司
  • 2023-05-10 - 2023-08-11 - B24B29/02
  • 本发明涉及抛光领域,提供一种自动化球面抛光设备抛光平面的方法,其中,自动化球面抛光设备抛光平面的方法,包括:对光学零件的平面进行一级抛光,使平面的光圈为凹圈;对平面进行二级抛光,使平面的光圈缩小至第一预设值;对平面进行三级抛光,使平面的光圈缩小至第二预设值,并控制面型误差为第三预设值。用以解决现有技术中抛光效率低且价格高的缺陷,本发明提供的自动化球面抛光设备抛光平面的方法,通过采用自动化球面抛光设备对光学零件的平面依次进行一级抛光、二级抛光和三级抛光,达到逐步对光学零件平面的光圈进行缩小,最后达到符合要求的光圈值和面型误差值,提高平面抛光效率。
  • 自动化球面抛光设备平面方法
  • [实用新型]等腰屋脊棱镜的精磨抛光辅具-CN201120235526.X有效
  • 刘海鹰;冯磊;王远方 - 刘海鹰;冯磊;王远方
  • 2011-07-05 - 2012-04-18 - B24B13/02
  • 本实用新型公开了一种等腰屋脊棱镜的精磨抛光辅具,包括第一抛光平面、第二抛光平面、第三抛光平面和第四抛光平面。第一抛光平面和第二抛光平面相交,其夹角与待加工等腰屋脊棱镜底部的两个相交平面的夹角相同。第三抛光平面与第四抛光平面延伸相交,其夹角与待加工等腰屋脊棱镜顶部的两个相交平面的夹角相同。采用本实用新型等腰屋脊棱镜的精磨抛光辅具加工等腰屋脊棱镜,可以降低加工难度,提高等腰屋脊棱镜的角度精度,并提高等腰屋脊棱镜的加工合格率。
  • 等腰屋脊棱镜抛光
  • [实用新型]用于红外焦平面晶片的处理装置-CN202221441284.4有效
  • 龚君挺;关智勇;姚元江;庄春泉;刘大福 - 无锡中科德芯感知科技有限公司
  • 2022-06-09 - 2022-09-27 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种用于红外焦平面晶片的处理装置,包括真空吸盘、抛光装置和测量装置,真空吸盘用于真空吸附贴附有研磨胶膜层的红外焦平面晶片;抛光装置用于对红外焦平面晶片进行减薄抛光处理;测量装置用于测量红外焦平面晶片的平面度;并在判断出平面度大于预设平面度时,调整减薄抛光参数以使得晶片的平面度小于等于预设平面度。本实用新型通过抛光装置对吸附在真空吸盘上的红外焦平面晶片进行减薄抛光处理,通过测量装置在线测量红外焦平面晶片的平面度,通过调整减薄抛光参数直至红外焦平面晶片的平面度小于等于预设平面度,有效地评价后续倒装焊接时红外焦平面晶片的平面度,也有效衔接了倒装焊接过程中红外焦平面晶片的平面度控制。
  • 用于红外平面晶片处理装置
  • [发明专利]一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法-CN202010202480.5有效
  • 周平;耿志超;闫英;王林;王凯;郭东明 - 大连理工大学
  • 2020-03-20 - 2021-09-10 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种平面零件全口径确定性抛光的摇臂式抛光装置和方法,所述装置包括控制系统、基座、升降板、抛光模块和测量模块;抛光模块和测量模块均位于基座上;升降板位于抛光模块和测量模块之间;抛光模块包括摇臂机构、抛光垫表面修整机构、抛光垫面形测量装置和环形抛光工具盘机构;测量模块包括平面零件面形自动化测量装置和机械臂机构。本发明充分考虑了平面零件的具体面形,通过控制平面零件表面材料去除率分布函数,使平面零件表面材料去除率分布函数和平面零件面形成归一化后的镜像对称关系,实现平面零件的确定性抛光,保证了平面零件面形在抛光过程中的高效收敛本发明采用低成本的作业方式完成高精度的抛光过程,降低了设备成本。
  • 一种平面零件口径确定性抛光摇臂装置方法
  • [发明专利]压铸模具散热筋条的抛光方法-CN201310624808.2在审
  • 梁耀婵;莫志龙;程雨梅;覃羡烘 - 广东鸿泰科技股份有限公司;肇庆科技职业技术学院
  • 2013-11-29 - 2014-04-02 - B24B29/02
  • 本发明涉及模具抛光技术领域,具体地说是一种压铸模具热筋条的抛光方法,包括以下步骤:(1)粗抛:采用砂纸碟对平面进行抛光,采用砂纸粒或纤维油石对非平面进行抛光,直至清除所有火花纹;(2)半精抛:在需要抛光的位置涂抹润滑剂,采用砂纸碟对平面进行抛光,采用砂纸粒或纤维油石对非平面进行抛光,直至金属表面出现均匀光泽;(3)精抛:采用砂纸碟对平面进行抛光,采用砂纸粒或纤维油石对非平面进行抛光,直至模具用光照射会出现反光。本发明有效解决了模具散热筋条等小间隙、小孔抛光难的问题,减少压铸过程中出现损伤产品、粘模等问题,保证压铸过程连续而稳定的进行。
  • 压铸模具散热抛光方法
  • [发明专利]抛光加工装置-CN201210100798.8无效
  • 陈柏洲 - 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
  • 2012-04-09 - 2013-10-23 - B24B29/00
  • 一种抛光加工装置,用于对待抛光件进行抛光加工。所述抛光加工装置包括一个可动座体以及一个抛光刀具。所述抛光刀具固定于所述可动座体上。所述可动座体用于带动所述抛光刀具进行抛光加工。所述抛光加工装置还包括一个平面度检测单元,所述平面度检测单元固定设置于所述可动座体上并且位于所述抛光刀具进行抛光加工的行进方向后方,用于循所述抛光刀具的抛光加工轨迹检测抛光加工后所述抛光刀具的表面平面
  • 抛光加工装置
  • [实用新型]一种平面镜片抛光装置-CN202023248535.0有效
  • 陈骏 - 江苏南晶红外光学仪器有限公司
  • 2020-12-29 - 2021-08-17 - B24B13/00
  • 本实用新型具体涉及一种平面镜片抛光装置,本平面镜片抛光装置包括:工作架、工作平台、摆臂、游轮机构、升降机构和抛光盘机构;其中所述游轮机构适于放置平面镜片,所述摆臂适于调节升降机构的位置,以对准游轮机构中心位置后,所述升降机构适于带动抛光盘机构下降扣于游轮机构上,以将平面镜片固定于游轮机构与抛光盘机构之间;以及所述游轮机构与抛光盘机构反向转动,以对平面镜片双面抛光;本实用新型通过设置游轮机构和抛光盘机构能够实现对平面镜片双面抛光的功能,能有效保证平面镜片平整度,实现产品的批量化生产,且生产的成品平整度高,节省了工序,降低了操作难度以及劳动强度。
  • 一种平面镜片抛光装置
  • [发明专利]定盘、抛光设备和抛光方法-CN202211707091.3在审
  • 贺云鹏;王贺 - 西安奕斯伟材料科技有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-03-21 - B24B41/047
  • 本公开涉及定盘、抛光设备和抛光方法,该定盘用于抛光设备,定盘包括用于在其上附接用以对硅片进行抛光抛光垫的定盘平面,定盘平面包括可升降部分,可升降部分能够相对于定盘平面升起及下降,以使得在硅片的抛光过程中抛光垫的与硅片的边缘对应的第一部分能够在与定盘平面垂直的方向上低于抛光垫的与硅片的中央区域对应的第二部分通过本公开的定盘、抛光设备和抛光方法,实现了对硅片表面平坦度的改善。
  • 抛光设备方法
  • [发明专利]去毛刺倒角抛光平面打磨大型设备-CN202011209422.1在审
  • 郭飚;贾永安 - 宁波三葵研磨材料有限公司
  • 2020-11-03 - 2021-01-08 - B24B5/35
  • 本发明涉及一种去毛刺倒角抛光平面打磨大型设备,包括:输送带组件,用于输送工件。机架,横跨于所述输送带组件的上方。去毛刺倒角抛光打磨装置,活动安装于所述机架,所述去毛刺倒角抛光打磨装置包括平面砂轮,所述平面砂轮包括平面状的打磨面。至少一组平面打磨装置,滑动连接于机架并与去毛刺倒角抛光打磨装置间隔设置,所述平面打磨装置相对于去毛刺倒角抛光打磨装置处于输送带组件的输出方向,所述平面打磨装置包括磨砂轮。去毛刺倒角抛光打磨装置和至少一组平面打磨装置向输送带组件方向移动并打磨工件,工件随着输送带组件移动使得整体被去毛刺倒角抛光打磨装置和至少一组平面打磨装置所连续磨削,磨削强度可调控、范围广且稳定性好。
  • 毛刺倒角抛光平面打磨大型设备
  • [实用新型]去毛刺倒角抛光平面打磨大型设备-CN202022511205.X有效
  • 郭飚;贾永安 - 宁波三葵研磨材料有限公司
  • 2020-11-03 - 2021-11-02 - B24B5/35
  • 本实用新型涉及一种去毛刺倒角抛光平面打磨大型设备,包括:输送带组件,用于输送工件。机架,横跨于所述输送带组件的上方。去毛刺倒角抛光打磨装置,活动安装于所述机架,所述去毛刺倒角抛光打磨装置包括平面砂轮,所述平面砂轮包括平面状的打磨面。至少一组平面打磨装置,滑动连接于机架并与去毛刺倒角抛光打磨装置间隔设置,所述平面打磨装置相对于去毛刺倒角抛光打磨装置处于输送带组件的输出方向,所述平面打磨装置包括磨砂轮。去毛刺倒角抛光打磨装置和至少一组平面打磨装置向输送带组件方向移动并打磨工件,工件随着输送带组件移动使得整体被去毛刺倒角抛光打磨装置和至少一组平面打磨装置所连续磨削,磨削强度可调控、范围广且稳定性好。
  • 毛刺倒角抛光平面打磨大型设备
  • [实用新型]一种半自动双头平面抛光-CN202020232434.5有效
  • 吴晓峰 - 诺万五金制造(上海)有限公司
  • 2020-02-28 - 2020-11-13 - B24B21/00
  • 一种半自动双头平面抛光机,包括:安装底座、水槽、工件输送带机构、平面抛光装置、砂带高低调节手轮和电机,水槽与安装底座上部连接,工件输送带机构与水槽内连接,平面抛光装置与工件输送带机构上端连接,砂带高低调节手轮设于安装底座内,砂带高低调节手轮与平面抛光装置连接,电机设于安装底座一侧,电机与平面抛光装置连接。其中,平面抛光装置包括:抛光机机箱、工件固定装置、砂带松紧调节气缸、砂带和自动喷水装置。本实用新型与传统技术相比,不仅减少了抛光强度还提高了产品的合格率,并能减少砂带与工件的阻力,使工件打磨的更细腻。
  • 一种半自动平面抛光机

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