专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高耐压增强的双异质栅极HEMT及其制备方法-CN202210382860.0在审
  • 尹以安;李佳霖 - 华南师范大学
  • 2022-04-13 - 2022-07-12 - H01L29/778
  • 本发明涉及一种高耐压增强的双异质栅极HEMT及其制备方法,其包括依次层叠于衬底上的成核层、缓冲层、p埋层、沟道层、插入层和势垒层,势垒层上设置有双异质栅极、源极和漏极,其中双异质栅极由PNP双异质帽层和位于双异质帽层上的栅极金属层组成该器件中双异质栅极与势垒层接触能够耗尽沟道的二维电子气,使得器件阈值电压提高,且在器件想达到导通状态时,PNP异质作为两个面对面的二极管,这两个二极管会消耗一定的压降,使得达到沟道层的电压减小,进而使得器件的阈值电压进一步提高,且PNP异质能够防止电子从栅极进入沟道层,从而减小了栅极泄漏电流,提高器件的击穿电压。
  • 一种耐压增强双异质结栅极hemt及其制备方法
  • [发明专利]一种纳米线p‑n异质及其制备方法-CN201710979906.6在审
  • 李宝军;杨先光;张垚;李宇超 - 暨南大学
  • 2017-10-19 - 2018-01-23 - C01B19/00
  • 本发明提供了一种纳米线p‑n异质的制备方法,属于异质材料制备领域。本发明将p量子点或n量子点与导电聚合物和苯类有机溶剂混合,得到掺杂p或n量子点的混合溶液,对掺杂p或n量子点的混合溶液进行拉制,得到p或n纳米线,最后在光学显微镜下,将p纳米线与n纳米线进行微操控,得到交叉结构,即为纳米线p‑n异质。本发明通过直接拉制技术和显微操控技术的结合实现纳米线p‑n异质的快速制备,该方法无需复杂的工艺流程,克服了模板难以获取的难题,使得纳米线p‑n异质的制备既经济又高效。
  • 一种纳米异质结及其制备方法
  • [发明专利]基于有机晶态异质的紫外光晶体管及其制备方法-CN202110759016.0有效
  • 迟力峰;黄丽珍;王滋;薛娣 - 苏州大学
  • 2021-07-05 - 2022-08-30 - H01L51/42
  • 本发明涉及一种基于有机晶态异质的紫外光晶体管及其制备方法,紫外光晶体管包括自上而下依次设置的基底、绝缘层、模板层、晶态有机异质光敏层以及源漏电极,模板层为七联苯,晶态有机异质光敏层包括p有机半导体光敏层和n有机半导体光敏层,p有机半导体光敏层和n有机半导体光敏层依次沉积在模板层上。本发明基于有机晶态异质的紫外光晶体管通过引入晶态有机异质,晶态有机异质高效的载流子输运对光的协同吸收效应以及异质结界面效应对激子分离的促进作用,使得器件的光电学性能有了显著的影响,而且制备方法简单快速
  • 基于有机晶态异质结紫外光晶体管及其制备方法
  • [发明专利]一种异质、铁电隧道及其制备方法和应用-CN201310258989.1有效
  • 杨锋;胡广达;武卫兵;杨长红;吴海涛 - 济南大学
  • 2013-06-26 - 2013-10-09 - H01L45/00
  • 本发明公开了一种异质,包括衬底和在衬底上外延生长的一层铁电薄膜,所述衬底为n或p掺杂硅半导体,所述铁电薄膜为SrTiO3薄膜。本发明还公开了一种铁电隧道,包括上述异质,所述异质的铁电薄膜表面覆有上电极,异质的铁电薄膜作为铁电隧道的势垒层,异质的衬底作为铁电隧道的下电极。本发明还公开了它们的制备和应用。本发明异质结实现了钛酸锶与非本征硅的直接外延生长,表现出了稳定的极化翻转特性,制成隧道可电调制势垒的高度而且可电调制势垒的宽度,从而大大提高了隧道电阻。
  • 一种异质结隧道及其制备方法应用
  • [发明专利]一种n-硅纳米线/p-导电有机物异质pn二极管及其制备方法-CN200610124505.4无效
  • 方国家;程彦钊;李春 - 武汉大学
  • 2006-09-12 - 2007-02-21 - H01L51/05
  • 本发明公开了一种n-硅纳米线/p-导电有机物异质pn二极管及其制备方法,该异质pn二极管是由n硅片上生长出的硅纳米线和硅纳米线间的缝隙中填充的p导电有机物组成。该异质pn二极管的制备方法是首先用无电金属沉积法在n硅片上生长出硅纳米线,然后用甩胶方法先后将有机聚合物绝缘层和p导电有机物填充入纳米线间的空隙形成异质pn或用甩胶方法直接将p导电有机物填充入纳米间的空隙线形成异质pn,最后用溅射或热蒸发制作金属电极。这种新型的异质pn二极管具有较低的正向开启电压和较高的反向击穿电压、较大的正向电流密度,而且其制备方法工艺简单、成本低廉。
  • 一种纳米导电有机物pn二极管及其制备方法

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