专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]翼型叶片-CN89100932.9无效
  • 哈里·斯蒂芬·怀瑙斯基;卡罗尔·玛丽·瓦齐 - 联合工艺公司
  • 1989-02-28 - 1992-08-12 - B64C11/18
  • 一叶片由若干属于一翼型族的翼型剖面(23、29、39、57、85、136、206)组成,各剖面的特点为前缘为钝的抛物线形,翼型中线高度约在45%翼型剖面弦长处具有一最高点,后缘较钝。翼型剖面的厚度比(h/b)自接近叶根(20)的约20%减小到接近叶梢(15)的2%。各翼型剖面的最大厚度的位置沿其弦长从20%翼型剖面的约39%弦长处逐渐移至2%翼型剖面的约42%弦长处。
  • 叶片
  • [发明专利]基于深度学习的微地震剖面去噪方法-CN202310050424.8在审
  • 盛冠群;张峥嵘;唐新功;马凯;谢凯;汤婧 - 三峡大学
  • 2023-02-01 - 2023-05-09 - G01V1/28
  • 本申请提供一种基于深度学习的微地震剖面去噪方法,步骤一,将一批无噪声的剖面和噪声信号输入到条件生成对抗网络(cGAN)的生成器中,并给定生成器约束条件,从而获得用来训练的含噪剖面;鉴别器接收真实剖面和从生成器生成的剖面,并给鉴别器约束条件,利用鉴别器和生成器之间的相互博弈生成更加真实的剖面,进而达到扩容数据集的目的;步骤二,将X^0,0输入主网络,输出网络的噪声预测X^0,4。主网络由UNet++的结构为主体,融合了Clique block结构;步骤三,将噪声预测X^0,4与网络输入X^0,0进行残差学习R(•),得到去噪后的剖面;步骤四,将待去噪的微地震剖面通过该网络,输出去噪后的剖面
  • 基于深度学习地震剖面方法
  • [发明专利]一种基于剖面含水率和地下水埋深的土壤剖面水量利用量计算方法-CN201911354928.9有效
  • 朱焱;赵天兴;毛威;杨洋;杨金忠 - 武汉大学
  • 2019-12-25 - 2022-07-05 - G06Q50/02
  • 本发明公开了一种基于剖面含水率和地下水埋深的土壤剖面水量利用量计算方法,主要步骤如下:数据准备与检查;体积含水率的修正与插值,采用三段式插补法给出整个计算剖面的含水率;选定计算区范围计算土壤剖面储水量;最后利用计算时段初、末土壤剖面储水量之差,得到土壤剖面水量利用量;同时利用地下水埋深变动带的储水量变化计算得到饱和带的地下水利用量,并进一步反推非饱和带的土壤水利用量,从而获得土壤剖面水量利用量的垂向分布情况本发明利用实测含水率数据并将其延拓至整个计算剖面,通过对计算区的分段,计算得到饱和带地下水利用量和非饱和带土壤水利用量,为区分土壤剖面水量利用量的来源提供了数据支撑。
  • 一种基于剖面含水率地下水土壤水量利用计算方法
  • [发明专利]透射型电子显微镜用的试样制作方法、观察方法以及结构-CN200610135723.8无效
  • 池田聪 - 冲电气工业株式会社
  • 2006-10-18 - 2007-06-13 - G01N1/32
  • 在透射型电子显微镜用的试样制作方法中,包含如下工序:在半导体装置的特定部位的观察剖面上形成非晶质结构的保护膜;去除形成有上述保护膜的观察剖面的周围;使至少包含上述保护膜的区域薄膜化。在观察半导体装置的剖面的观察方法中,包含如下工序:使用扫描型显微镜观察上述半导体装置的特定部位的剖面;在上述剖面上形成非晶质结构的保护膜,透过该保护膜来使用透射型电子显微镜进一步观察上述剖面。在为了在使用扫描型显微镜观察半导体装置的特定部位的剖面后,使用透射型电子显微镜观察同一观察剖面而制作的观察试样中,在上述观察剖面上具有非晶质结构的保护膜。
  • 透射电子显微镜试样制作方法观察方法以及结构
  • [实用新型]一种带鞋跟的女士鞋鞋垫及具有其的鞋-CN201620857857.X有效
  • 斯蒂芬霍恩 - 斯蒂芬霍恩
  • 2016-08-09 - 2017-02-22 - A43B17/16
  • 本实用新型涉及一种用于带鞋跟的女士鞋鞋垫及具有其的鞋,所述鞋垫包括上表面和底面,所述上表面在纵向方向的后端有一个平纵向剖面或凹型纵向剖面,所述平纵向剖面或凹型纵向剖面朝向鞋垫前端一体连接一凸型纵向剖面,所述平纵向剖面或凹型纵向剖面与凸型纵向剖面的连接处为第一位置,所述第一位置的两侧具有内侧翼和外侧翼,所述第一位置位于所述内侧翼和外侧翼翼尖之间的上表面内且沿着两翼尖连线的横截面为凹型。本实用新型在后端(脚后跟处)的鞋垫上表面的纵向与横向凹型剖面上都具有脚后跟支撑的功能,从而改善了重量分布,在长时间过度使用双脚后也能够更好地支撑和稳定脚部,从而防止出现疲劳。
  • 一种鞋跟女士鞋垫具有
  • [发明专利]剖面布局计算装置、剖面布局计算方法及其计算程序-CN200980140524.8无效
  • 山田贵博;井上喜博 - 矢崎总业株式会社;国立大学法人横滨国立大学
  • 2009-04-14 - 2011-09-14 - G06F17/50
  • 计算与线材的初始配置对应的现实的线材束的剖面布局。如果由几何学信息取得单元(11a)取得了几何学信息,则由配置信息取得单元(11b)取得与该几何学信息对应的配置信息。如果由边界信息计算单元(11c)计算出基于所述配置信息的边界信息,则由束形状信息取得单元(11d)取得对应于边界信息并且表示线材束的剖面布局的形状的束形状信息。如果由边界信息变形单元(11e)使边界信息朝向束形状信息变形,则由配置信息变更单元(11f)根据边界信息与剖面图形的接触或者剖面图形彼此的接触,计算边界信息内的多个剖面图形各自的举动,将配置信息变更为使多个剖面图形的全部密集了时的各剖面图形的配置由剖面布局信息输出单元(11g)输出基于该变更了的配置信息的剖面布局信息。
  • 剖面布局计算装置计算方法及其程序

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