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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]显示面板贴标作业的工作机台-CN200610076238.8无效
发明人：叶祺成;蔡和燃 -专利权人：叶祺成;蔡和燃
申请日： 2006-04-19 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： B65C1/02 文献下载
摘要：本发明主要关于一种显示面板贴标作业的工作机台，其主要包括：一面板承载装置、一移载装置、一调准平台及一贴标机构，该面板承载装置可容置复数组显示面板及其设置于相邻显示面板间的间隔板，该面板承载装置并可移离显示面板贴标作业的工作机台外；该工作机台具设三组移载装置，分别用于移载显示面板至调准平台校正定位并进行贴标作业、移载间隔板至物料暂存区及移载完成贴标作业的显示面板至后段作业的制程机台上；利用三维空间的概念，使复数组移载装置同时作动并完成贴标作业
显示面板作业工作机台

[实用新型]一种化工反应产物的高速冷却装置-CN201721468563.9有效
发明人：陈春波;汪荣宝;高毅 -专利权人：上海鑫水机械有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： F25D31/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化工反应产物的高速冷却装置，包括机台，所述机台的上平面安装有传送带，所述机台的前侧安装有入料装置，所述入料装置包括入料管，所述入料管的外表面设有降温腔，所述降温腔的顶端设有进水管，所述降温腔的底端设有出水管，所述入料管的出料口位于传送带初始端的正上方，所述机台的中间位置安装有冷却室，所述冷却室的顶端安装有冷气箱，所述冷气箱的底端安装有冷气喷头，所述冷气喷头位于传送带的正上方。本实用新型的有益效果是：将冷却装置与输料工序相结合，在物料运输的过程中，同步进行冷却处理，大大提高了作业效率，简化的生产制程。
一种化工反应产物高速冷却装置

[实用新型]一种直线式电池注液机-CN201920174129.2有效
发明人：张光亮 -专利权人：东莞市米得自动化科技有限公司
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： H01M2/36 文献下载
摘要：本实用新型公开一种直线式电池注液机，包括机台和可调式夹具组件，该机台上依制程顺序依次设置有上料区、自动注液组件、静置装置、自动封口组件、下料区；该自动注液组件包括安装于机台上的安装顶板，该安装顶板上设置有电解液罐、注液头、用于将待加工电池扩口的扩口装置，该自动封口组件包括立柱以及安装于立柱上的封口装置；该封口装置连接有封口装置驱动机构，该封口装置驱动机构安装于立柱上；该立柱安装于机台上；该可调式夹具组件包括安装底板
封口装置组件包括立柱电池注液机可调式夹具安装底板安装顶板驱动机构自动封口自动注液定位件直线式机台本实用新型电解液罐静置装置扩口装置立柱安装生产效率依次设置上料区下料区注液头扩口制程生产成本自动化电池加工

[实用新型]通用型散热铜管滚压机-CN202022677709.9有效
发明人：成贤良;李波 -专利权人：湖南立敏达电子科技有限公司
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： B21D17/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及散热铜管加工设备技术领域，特指通用型散热铜管滚压机，包括架体、机台板、Y轴滚压机构、滚压治具、X轴滚压机构、Z轴滚压机构、滚轮机构、控制程序，机台板设置在架体上，机台板上设有龙门架，Y轴滚压机构设置在龙门架下端的机台板上
通用型散热铜管滚压机

[发明专利]包缝针车于剪线时节省用线量的方法-CN201210047762.8有效
发明人：顾飞龙 -专利权人：顾飞龙
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： D05B47/04 文献下载
摘要：本发明有关于一种包缝针车于剪线时节省用线量的方法，其主要于完成工作件缝制程序后，于包缝针车机台上施以一外力驱动，以让组设于机台上的夹住固定缝线的张力调整钮被撑张而松放缝线，且该缝线同时让一小于张力调整钮夹持力的夹掣力压持限位
缝针时节省用线量方法

[发明专利]酸槽与反应槽稳定度的侦测方法-CN200410102685.7有效
发明人：张原勋;黄良田;吕志原;许哲恺;林依亮 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2004-12-27 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： G01N33/00 文献下载
摘要：然后，将形成有多晶质层的基底放置到酸槽内，进行反应制程。接着取出此基底，以及利用一表面破坏检测机台对此基底的多晶质层表面进行量测，以判定酸槽的稳定度。此方法是利用多晶质层晶粒边界反应较快的特性，通过表面破坏检测机台，可以直接且快速得知多晶质层的表面结构是否因酸槽的稳定度不佳而受到损害。
反应稳定侦测方法

[发明专利]多晶硅沉积制程-CN200710039782.X无效
发明人：翟志刚;李远哲;陈鸿奎 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-04-20 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： C23C16/24 文献下载
摘要：本发明提供一种多晶硅沉积制程，首先在反应机台上调节反应参数，在反应炉内充入硅烷(SiH₄)以在衬底上形成多晶硅，当沉积结束后，结束硅烷的充入。与现有技术相比，对于深宽比大于2∶1的沟槽，本发明通过调节机台的反应参数(反应炉内压力调节至小于500毫托，硅烷流量调节至小于0.5升/分钟，反应温度设置为560℃)，可以改善多晶硅的填充能力，有效防止沉积的多晶硅中出现空洞
多晶沉积

[实用新型]一种前开式晶片箱自动载入装置-CN00255323.6无效
发明人：陈冠州;胡平宇;陈贵荣;吴宗明;林武郎;李文犹 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2000-09-30 - 公布日： 2001-07-11 - 主分类号： B65D85/86 文献下载
摘要：一种前开式晶片箱自动载入装置,主要包括有机台、移动台、扣压机构、平移机构、以及升降机构。前开式晶片箱先置于移动台上,经由扣压机构的压板扣压定位,继而移动台向前滑移将晶片箱密合于机台背板上的出入阜与一阜门上,利用阜门背面启闭机构开启箱盖,随后阜门、箱盖借由平移机构平移后退,升降机构能再将箱盖垂直下降能有效隔绝人体微尘,减少晶片污染,并能作为晶片制程整体自动化的一环。
一种前开式晶片自动载入装置

[发明专利]黄光制程曝光偏移校正方法及装置-CN201811322061.4在审
发明人：李彬 -专利权人：惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种黄光制程曝光偏移校正方法，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；本发明还公开一种黄光制程曝光偏移校正装置。本发明的技术方案中，当曝光的图像产生位置偏移，造成产品异常时，曝光机可以及时反应，立即回馈校正，避免异常发生，可以实时监控曝光机的工作状况，保证产品品质，并提升曝光机的工作时间，防止后制程频发暂停影响机台嫁动
曝光机黄光制程曝光偏移位置数据校正标准位置基板相对光罩机台图像产生位置产品品质工作状况获得位置偏移校正实时监控数据计算校正装置异常发生偏移回馈基板制程测量工程师曝光保证

[发明专利]排程系统及方法-CN201611120416.2在审
发明人：陈承辉;高虹安;邱宏昇;张晓珍 -专利权人：财团法人资讯工业策进会
申请日： 2016-12-08 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明提出一种排程系统及方法，此方法包含以下步骤：透过通讯模块经由通讯链接到多个加工站，接收每一加工站的一即时制程数据，包含主程序编号和加工时间；依据设定目标产量、交货时程及多个加工站的即时制程数据进行产线排程，并预估一预估产量；判断产线排程的实际产量是否达预估产量，当实际产量低于预估产量时，依据即时制程数据，从多个加工站中判断出一瓶颈站，对瓶颈站进行机台诊断，找出一异常原因。
加工站预估排程制程排程系统瓶颈产线机台功能设备决策选择通讯模块异常原因通讯链主程序时程交货修正诊断加工

[发明专利]一种晶圆关联系统-CN202110874998.8在审
发明人：刘强威;李文杰;吴勇;侯绍波;余胜元 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种晶圆关联系统，包括：数据收集模块，用于获取晶圆的实时数据，所述实时数据包括晶圆以及与所述晶圆关联的机台、反应腔、数量和加工时长；数据分析模块，与所述数据收集模块连接，并被配置为基于所述晶圆的数量及加工时长，获得各反应腔的平均极限关联制程时间；晶圆分堆模块，与所述数据分析模块连接，并被配置为以所述平均极限关联制程时间为标准，对晶圆进行关联，且各反应腔关联的晶圆的加工时长总和不超过相应反应腔的平均极限关联制程时间
一种关联系统

[发明专利]自我对准浮置栅极的浅沟渠结构制造方法-CN02152662.1有效
发明人：罗文勳 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2002-11-28 - 公布日： 2004-06-16 - 主分类号： H01L21/76 文献下载
摘要：再使用相同的蚀刻机台蚀刻基材，以形成一具有阶梯状的浅沟渠造型。以灰化制程及水洗制程清除上述的牺牲层，最后再沉积氧化层，以填充于浅沟渠的中及覆盖于氮化硅层之上。因此具有消除沉积氧化层中易产生孔洞的情况，并可提高浅沟渠制程的优良率。
自我对准栅极沟渠结构制造方法

[发明专利]热膨胀效应的自动补偿与校正结构-CN202211253643.8在审
发明人：郑宇志 -专利权人：大量科技股份有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： B23Q1/25 文献下载
摘要：本发明涉及一种热膨胀效应的自动补偿与校正结构，尤用于对板件进行制程处理的一加工机台，加工机台的X轴是采用碳纤维复合组合结构且Y轴是采用铁皮复合工作台结构，当加工机台MT所处的工作环境温度高于标准作业温度的状态下
热膨胀效应自动补偿校正结构

[发明专利]CMP终点探测系统的加权校准方法-CN201410280249.2有效
发明人：张芳余 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2014-06-20 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：根据本发明的一种终点探测系统的校准方法，包括在待校准的机台上执行预定研磨方案，并通过其终点探测系统获得监控特征曲线；初步校准所述监控特征曲线，以获得初步校准参数；以及加权校准一个或多个初步校准参数，以获得一个或多个最终校准参数，所述加权校准内容包括增加机台差异校准因子F1，其中F1＝(基于机台差异的工艺厚度差值)/(基于初步校准参数变化的工艺厚度变化量)。本发明还包括可选地增加研磨材料差异校准因子F2和基于经验或其它因素(如缺陷、不同制程间差异)的附加校准因子F3。
cmp 终点探测系统加权校准方法

[实用新型]一种Lam‑sabre系列机台EBR洗边宽度调校模组-CN201720586640.4有效
发明人：罗灿 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2017-05-24 - 公布日： 2017-12-12 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体生产制造设备领域，具体涉及一种Lam‑sabre系列机台EBR洗边宽度调校模组，其包括模组箱1、设置在模组箱1上的齿轮驱动移动机构2、设置在模组箱1内的旋转齿轮、设置在模组箱1内对旋转齿轮的旋转圈数进行计数的齿轮圈数计数器本实用新型具有以下优点1、提高EBR宽度的调校精度；2、免去切换EBR后的monitor程，提高机台uptime；3、直观显示当前chamber的EBR洗边宽度，便于制程工程师管控机台状态。
一种 lam sabre 系列机台 ebr 宽度调校模组

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