专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]砂轮及其组件、碳化硅衬底及方法与应用-CN202011548722.2有效
  • 汪良;张洁;王旻峰 - 湖南三安半导体有限责任公司
  • 2020-12-24 - 2022-03-18 - B24D7/06
  • 本申请提供了一种砂轮及其组件、碳化硅衬底及方法与应用,涉及碳化硅加工技术领域。该减砂轮包括砂轮底座由多个齿沿砂轮底座的周向依次首尾连接而成的基底,基底不含金刚石固体。该减砂轮能够避免在碳化硅过程中造成深浅不一的划痕,能降低碳化硅衬底的损耗和加工成本。含上述砂轮的碳化硅组件能有效地对碳化硅进行。采用上述组件进行操作,可降低后碳化硅衬底表面的划伤深度,甚至降低碳化硅衬底表面的损伤层,提高后衬底表面的光洁度,此外,还能减少过程中的衬底破损,提高衬底加工的合格。所得的碳化硅衬底表面光洁,合格高,其可进一步用于加工半导体器件。
  • 砂轮及其组件碳化硅衬底方法应用
  • [发明专利]一种超薄玻璃工艺-CN202210422260.2在审
  • 易伟华;张迅;谢凯立;杨会良;徐艳勇 - 江西沃格光电股份有限公司
  • 2022-04-21 - 2022-06-03 - C03C15/00
  • 本发明公开了一种超薄玻璃工艺。该超薄玻璃工艺包括以下步骤:S1:将双面高温胶带贴合于待玻璃的边缘,再通过双面高温胶带将待玻璃贴合于背板;S2:采用流片式蚀刻方式将待玻璃远离背板的一侧;S3:判断待玻璃是否化至目标厚度,如果是,则执行步骤S4,如果不是,则执行步骤S2;S4:清洗至目标厚度的玻璃;S5:在玻璃与背板的贴合线靠近玻璃的中心的一侧对玻璃和背板进行切割。采用本发明所提供的超薄玻璃工艺所加工的玻璃具有较高的厚度均匀性,且减少了玻璃的取放次数,使得玻璃的破片大幅降低,从而使得废品降低,提高了企业的经济效益。
  • 一种超薄玻璃工艺
  • [发明专利]一种新的工艺-CN201210446571.9无效
  • 王红亚 - 王红亚
  • 2012-11-10 - 2014-05-21 - H01L21/304
  • 本发明涉及一种新的工艺,其特征在于,所述工艺步骤包括上蜡,去蜡,粗磨,精磨,推片,清洗,本工艺通过改进顺序及时间,进一步提高了的精度,保证在过程中不会出现碎片,从而提高了芯片良,降低生产成本
  • 一种工艺
  • [发明专利]内外齿薄壁零件型轧中对回弹影响规律的分析方法-CN202110603280.5有效
  • 申昱;方璇璇 - 上海交通大学
  • 2021-05-31 - 2023-03-14 - G06F30/17
  • 本发明涉及内外齿薄壁零件型轧中对回弹影响规律的分析方法,包括:对型轧所采用的毛坯材料进行力学性能测试,得到应力应变曲线;选取坯料,在特定芯轴锥度条件下通过型轧工艺成形三种不同减的内外齿薄壁零件,调整压下量的大小得到不同的;选取三个高度的横向截面,在选定截面处测量成形件壁厚以及内外齿形轮廓尺寸,整理得到三种不同减的内外齿薄壁零件在三处截面的回弹量;构造二阶拉格朗日插值函数,利用插值函数拟合得到回弹量随变化曲线;结合内外齿薄壁零件公差要求,拟合出内外齿薄壁零件产品在不同高度处的合理取值,依据材料性能曲线对合理取值进行校核,形成合理回弹控制方案。
  • 内外薄壁零件型轧中减薄率回弹影响规律分析方法
  • [实用新型]晶圆装置-CN202222790692.7有效
  • 向雪燕 - 重庆康佳光电技术研究院有限公司
  • 2022-10-21 - 2023-03-28 - B24B7/22
  • 本申请涉及一种晶圆装置,晶圆装置用于对晶圆进行。晶圆装置包括承载上料机构以及机构,其中,晶圆放置于承载上料机构上,承载上料机构与机构相对设置,机构包括盛载有第一溶液的刻蚀液容器以及与刻蚀液容器选择性连通的喷射组件,喷射组件与承载上料机构上放置的晶圆对准在本申请的晶圆装置中,第一溶液对晶圆进行刻蚀晶圆的整体厚度,机械结构稳定性好,避免出现晶格损伤、划痕、崩边甚至破片,有效提升晶圆的良
  • 晶圆减薄装置
  • [发明专利]一种装置及方法-CN201810117796.7有效
  • 田维 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2018-02-06 - 2021-01-26 - G02F1/13
  • 本发明提供一种装置及方法,利用承载装置固定显示面板,利用高度调节装置调节显示面板与液体仓内侵蚀液之间的距离,通过使显示面板的第一基板分阶段与侵蚀液接触,逐步第一基板,其中,在第一阶段实现初步,在第二阶段实现快速,在第三阶段实现微,这样第一基板上的缺陷不会过早被侵蚀液完全侵蚀,从而避免缺陷放大,相应的,无需额外进行抛光工序即可消除显示面板表面的凹点、划伤等不良,简化显示面板工序,而且能够避免抛光工序产生的碎屑问题,从而增加产品良,提高显示效果。
  • 一种装置方法
  • [发明专利]一种载台的清洗方法-CN202210446067.2在审
  • 刘姣龙;刘建伟;邓欢;蒋文斌;李苏峰;秦岩松 - 中环领先半导体材料有限公司
  • 2022-04-26 - 2022-08-05 - B08B3/08
  • 本发明公开了一种载台的清洗方法,S1、调配清洁液,取一个容器,将界/表面活性剂与纯水按照一定比例倒入容器混合,得到清洁液;S2、载台开启真空吸附功能,将步骤S1中的清洁液均匀倒到载台,直到载台无法吸附为止,此时载台浸泡在清洁液中一段时间;S3、开启吹气、吹水功能,通过装置将载台表面及陶瓷孔内的杂质吹出并清洗干燥,水量与气量调整到最大值,连续净化一段时间。本发明解决了载台长期加工过程中杂质沉积堵塞的问题,降低硅片Dimple,提高产品良。同时,本发明不用停线拆装载台,直接在线清洗,大大提高了生产效率。
  • 一种减薄载台清洗方法

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