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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]由异柯楠碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法-CN202011541810.X在审
发明人：郭颖;潘惠英;蒋小惠;王尹卓;贺宝元 -专利权人：上海博栋化学科技有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： C07D471/14 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶技术领域，公开了一种由异柯楠碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法。由异柯楠碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂包括阴离子和阳离子，结构如下：光致产酸剂
异柯楠碱合成盐类光致产酸剂及其制备方法

[发明专利]一种高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂-CN201910908579.4在审
发明人：钱晓春;胡春青;龚艳;徐丽萍 -专利权人：常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C07D401/04 文献下载
摘要：本发明公开一种高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂，具有通式(A)所示结构。该产酸剂对波长300‑450nm特别是365nm(I线)和405nm(H线)的活性能量射线具有高灵敏度，溶解性好且产酸性强的光产酸剂。
一种高产亚胺类光产酸剂

[发明专利]具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶-CN201610669564.3有效
发明人：陈彦豪;王建惟 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-08-15 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：光刻胶包括聚合物以及光生酸剂。光生酸剂包括感光剂组分、产酸剂组分和键合所述感光剂组分与所述产酸剂组分的键合组分。键合组分可为单键或共轭键。光刻工艺可为EUV光刻工艺或电子束光刻工艺。本发明涉及一种具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶。
具有键合至产酸剂感光剂光刻

[发明专利]光致抗蚀剂材料和用由其构成抗蚀图形的半导体装置制法-CN99100817.0无效
发明人：山名慎治 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 1999-02-23 - 公布日： 2002-10-30 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明为提供一种在化学放大负型光致抗蚀剂中兼具有抑制稀疏与致密尺寸差和侧壁凹凸少的光致抗蚀剂形状的光致抗蚀剂图形，使用将分子量为100-1000、产生扩散距离为30-60nm酸的光致酸产生剂，与分子量为100-1000、产生扩散距离为10-30nm酸的光致酸产生剂以摩尔比5-95％的比例混合，光致酸产生剂的总量为树脂量百分比1-15％的光致抗蚀剂材料。
光致抗蚀剂材料构成图形半导体装置制法

[发明专利]一种浸没式ArF光刻用的光产酸剂及其中间体-CN202110979411.X有效
发明人：王溯;方书农;徐森;邹琴峰 -专利权人：上海芯刻微材料技术有限责任公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没式ArF光刻用的光产酸剂及其中间体。本发明的光产酸剂如式I所示。含有本发明的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。
一种浸没 arf 光刻光产酸剂及其中间体

[发明专利]一种高产酸的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂、组合物及应用-CN202110305231.3在审
发明人：钱晓春;龚艳;姜超;徐丽萍 -专利权人：常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力光电材料有限公司
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： C07D409/04 文献下载
摘要：本发明公开一种高产酸的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂、含有该光产酸剂的感光性树脂组合物及其应用。所述酰亚胺磺酸酯类光产酸剂具有如下通式(A1)或(A2)所示结构，其感光度高，溶解性、热稳定性且储存稳定性好，应用于半导体光刻胶组合物时性能优异。
一种高产亚胺磺酸酯类光产酸剂组合应用

[发明专利]化学放大型正型感光性树脂组合物-CN201710196931.7在审
发明人：黑岩靖司;增田靖男 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2017-03-29 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供能够使用低pH的碱性水溶液良好地进行显影的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物、具备由该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物形成的感光性膜的带感光性膜的基板、以及使用该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物的被图案化的抗蚀剂膜的形成方法本发明的化学放大正型感光性树脂组合物含有利用活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)、在酸的作用下而对碱的溶解性增大的树脂(B)和有机溶剂(S)，其中，使规定量树脂(B)中含有第一树脂(B1)，所述第一树脂(B1)是在可溶于pH12的碱性水溶液的碱可溶性树脂所具有的碱可溶性基的至少一部分中、碱可溶性基的氢原子被酸解离性溶解抑制基取代的树脂。
化学大型感光性树脂组合

[发明专利]芳香族锍盐化合物-CN201080033037.4有效
发明人：真壁由惠;奥山雄太 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2010-11-17 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： C07D219/06 文献下载
摘要：本发明提供显影性高的光致产酸剂及固化性高的阳离子聚合引发剂，还提供使用了它们的抗蚀剂组合物及阳离子聚合性组合物。具体而言，提供下述通式(I)所示的新型的芳香族锍盐化合物、使用了该化合物的光致产酸剂、阳离子聚合引发剂、抗蚀剂组合物及阳离子聚合性组合物。
芳香族盐化

[发明专利]光刻胶及光刻方法-CN201910743009.4有效
发明人：袁华;黄永发;杨尚勇;胡展源 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：所述光刻胶包括：化学放大胶，该化学放大胶包括聚合树脂和光致产酸剂；碱性添加剂，在被光照后，该碱性添加剂的酸碱度由碱性转变至酸性。本申请通过在包含光学放大胶的光刻胶中添加碱性添加剂，在将该光刻胶应用于光刻工艺时，光刻胶中的光致消碱剂在曝光区域碱性消失，不影响光酸化学放大，保留非曝光区域的碱性，淬灭非曝光区域产生的微量酸分子，使得曝光区域和非曝光区域酸分子浓度差异增大
光刻方法

[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备与使用方法-CN202211728674.4在审
发明人：傅志伟;王文毅;吴信;朱玉呈;丁瑞龙;梅崇余;潘新刚 -专利权人：徐州博康信息化学品有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻胶组合物及其制备与使用方法，所述光刻胶组合物包括如下质量百分比的各组分：聚合物树脂，光刻胶组合物总质量的15～25％；光致产酸剂，聚合物树脂的2.0～5.5％；酸扩散控制剂，光致产酸剂的8～20％；流平剂，光刻胶组合物总质量的0.1～0.5％；溶剂，补足百分百；所述聚合物树脂为羟基苯乙烯化合物、如通式I化合物和如通式II化合物的共聚物。
一种光刻组合及其制备使用方法

[发明专利]一种含有改性9-苯基吖啶光引发剂的感光性组合物-CN202310182332.5在审
发明人：肖志义;毛灿;张念琦;董万荣 -专利权人：湖南五江高科技材料有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供一种含有改性9‑苯基吖啶光引发剂的感光性组合物，其包含通式(1)所示的改性9‑苯基吖啶光聚合引发剂、粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光致产酸剂和任选的其他助剂。
一种含有改性苯基吖啶光引发感光性组合

[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案化方法-CN201610948118.6有效
发明人：平野祯典;柳泽秀好 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-10-27 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供了化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括在有机溶剂中的适应于在酸的作用下变成可溶于碱性水溶液中的特定的碱溶性聚合物作为基础树脂，碱溶性聚合物和光致产酸剂。所述组合物形成抗蚀剂膜，所述抗蚀剂膜可以短时间显影从而以高感光度形成图案而不在图案侧壁中产生凹坑。
化学增幅型正型抗蚀剂组合图案方法

[发明专利]阴图型印刷版材用感光胶和印刷平版版材-CN202210352122.1在审
发明人：康文兵;孙彬;徐鲁波 -专利权人：倍晶新材料（山东）有限公司
申请日： 2022-04-03 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种阴图型印刷版材用感光胶和印刷平版版材，该感光胶包括：(a)带有活性基团的基础树脂；(b)可与基础树脂在酸催化作用下进行交联反应的交联剂；和(c)可于曝光后分解产生酸性物质的光致产酸剂。本发明感光胶在曝光后光致产酸剂分解产生一定的强酸，曝光后的感光胶膜由于形成交联，图案已经通过烘烤加热固化；而未曝光的版材部分可以暴露于可见光或紫外光，同时由于后期没有加热不再形成交联，因此对图案没有影响
阴图型印刷版材用感光平版

[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法-CN201610272230.2有效
发明人：山田健司;渡边聪 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。通过将抗蚀剂组合物涂布到基材上，烘焙，将该抗蚀剂膜曝光，PEB，和在有机溶剂显影剂中显影，从而形成图案。该抗蚀剂组合物包括(A)PPD抑制剂、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解性的聚合物、(C)光致产酸剂、和(D)有机溶剂。该抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制起因于从PEB到显影的延迟的任何CD收缩和图案轮廓变化。
抗蚀剂组合图案方法

[发明专利]光固化性树脂组合物-CN201580052506.X有效
发明人：武尾裕子;大槻直也 -专利权人：三键有限公司
申请日： 2015-07-10 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C08F2/44 文献下载
摘要：本发明为一种光固化性树脂组合物，其含有(A)～(E)成分，(A)成分：无色染料，(B)成分：光致产酸剂，(C)成分：自由基聚合性化合物(不包括具有叔胺骨架的(甲基)丙烯酸酯)，(D)成分：光自由基聚合引发剂
光固化树脂组合

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