“光致产酸剂”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3596851个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物-CN201210188863.7有效
发明人：吴贞薰;尹队卿;赵承德;朴素晶 -专利权人：锦湖石油化学株式会社
申请日： 2012-06-08 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明涉及锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物。具体而言，本发明提供了由式(1)表示的锍化合物、包含所述锍化合物的光致产酸剂以及包含所述光致产酸剂的抗蚀剂组合物。所述锍化合物具有可通过向一个分子中的阳离子区域引入不同的吸收体而控制的光子产额，当所述锍化合物用作光致产酸剂时可克服使用不同的光致产酸剂的混合物的不便，具有优异的在抗蚀剂中的可混性且具有提高的分辨率和线边缘粗糙度
化合物光致产酸剂抗蚀剂组合

[发明专利]一种光刻胶组合物-CN202110731453.1有效
发明人：马洁;李冰;孙嘉;郑金红;陈昕;王文芳;董栋;张宁 -专利权人：北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。
一种光刻组合

[发明专利]含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用-CN201610055597.9有效
发明人：王力元;张晨颖 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2016-01-28 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： C08F212/14 文献下载
摘要：本发明提供一种含光产酸基团的苯乙烯衍生物与甲基丙烯酸酯的多元共聚物、其合成方法及其用于光致抗蚀剂材料。对苯乙烯磺酸盐、对乙酰氧基苯乙烯和甲基丙烯酸酯通过自由基聚合反应得到多元共聚物，利用酸催化脱保护的方法将乙酰氧基转化为羟基，再与鎓盐卤化物进行离子交换反应得到含光产酸基团的苯乙烯衍生物与甲基丙烯酸酯的共聚物这种聚合物由于含有光产酸基团，在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为化学增幅型光致抗蚀剂使用的大分子光产酸剂。此外，可将该聚合物中的部分酚羟基用可酸解基团保护起来，既可作为光产酸剂使用也可组成单组份248‑nm光致抗蚀剂材料。可用于深紫外、极紫外、电子束等光刻技术使用的抗蚀剂。
含光产酸基团苯乙烯衍生物甲基丙烯酸酯共聚物制备及其应用

[发明专利]带有光产酸剂的含光自由基产生剂的光致抗蚀剂组合物-CN01118895.2无效
发明人：郑载昌;李根守;郑旼镐;白基镐 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2002-01-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种含有光自由基发生剂的光致抗蚀剂组合物,更具体涉及一种包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光产酸剂,(c)有机溶剂和(d)光自由基发生剂的光致抗蚀剂组合物。该光致抗蚀剂组合物能降低或阻止由于光致抗蚀剂上部组合物产生的酸浓度相对于光致抗蚀剂下部组合物产生的酸浓度高所造成的倾斜图像的生成。
有光产酸剂自由基产生光致抗蚀剂组合

[发明专利]一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法-CN202110162476.5在审
发明人：张猛;王巧玲 -专利权人：华衍化学（上海）有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法，涉及光刻胶领域，光致产酸剂具有以下结构：其中，A为C1‑C5的氟代烷烃；B为C3‑C10的环烷基，本发明的光致产酸剂能够控制酸扩散
一种二苯锍结构光致产酸剂及其合成方法

[发明专利]聚合物组合物以及制造半导体装置的方法-CN202210202786.X在审
发明人：翁明晖;刘朕与;张庆裕 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种聚合物组合物以及制造半导体装置的方法，用于制造半导体装置的方法包括在基板之上形成抗蚀剂底层的步骤。抗蚀剂底层包括底层组合物，底层组合物包括：具有以下的聚合物：光致产酸剂(photoacid generator；PAG)基团侧基、热致产酸剂(thermal acid generator；TAG)基团侧基、PAG基团侧基与TAG基团侧基的组合、光致产碱剂(photobase generator；PBG)基团侧基、热致产碱剂(thermal base generator；TBG)基团侧基或PBG基团侧基与在抗蚀剂底层之上形成包括光阻剂组合物的一光阻剂层。选择性地将光阻剂层暴露于光化辐射。对经选择性暴露的光阻剂层进行显影以在光阻剂层中形成一图案。
聚合物组合以及制造半导体装置方法

[发明专利]含有2，1，4－重氮萘醌磺酰基的光、热、电子束产酸源及其制备方法-CN03156178.0无效
发明人：余尚先;杨凌露;张改莲;杨金瑞 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2003-09-03 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G03F7/016 文献下载
摘要：本发明涉及通式(I)所示的2，1，4－重氮萘醌磺酰基类光、热、电子束产酸源，其中n为1～6，R为衍生于选自(1)N－羟基酰亚胺类化合物、(2)只含有酚羟基的化合物以及(3)既含有酚羟基又含有羧基的化合物的酯化母体或接枝母体的残基所述产酸源利用2，1，4－重氮萘醌磺酰氯与所述酯化母体或接枝母体反应而制备。本发明的产酸源可以作为近紫外、深紫外、电子束光致抗蚀剂的产酸源，也可以作为ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的光产酸源，还可以作为通过近红外激光扫描，经由光热转化物质发热，热致分解产酸的热敏CTP版材用热产酸源
含有重氮萘醌磺酰基电子束产酸源及其制备方法

[发明专利]用于光致抗蚀剂应用的低活化能溶解改性剂-CN200680034135.3有效
发明人： R·D·艾伦;R·A·迪彼特罗;H·特鲁昂;P·J·布罗克;R·苏利亚库马兰 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2006-08-21 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。
用于光致抗蚀剂应用活化能溶解改性

[发明专利]一种含锡的可聚合光致产酸剂及其制备方法-CN202310543861.3在审
发明人：辛涵申;庄昌昌;张建华;薛杰;李浩源 -专利权人：上海大学
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C07F7/22 文献下载
摘要：本发明提供一种含锡的可聚合光致产酸剂，所述含锡的可聚合光致产酸剂的通式如下：光致产酸剂中引入高极紫外吸收元素Sn，达到提高光刻胶灵敏度的目的。
一种聚合光致产酸剂及其制备方法

[发明专利]含β-桉叶醇结构的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法-CN201911372791.X在审
发明人：潘惠英;蒋小惠;李嫚嫚;郭颖 -专利权人：上海博栋化学科技有限公司
申请日： 2019-12-24 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种含β‑桉叶醇结构的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法，所述光致产酸剂包括阴离子和阳离子，所述阴离子与所述阳离子分别具有如下结构：桉叶醇结构盐类光致产酸剂及其制备方法

[发明专利]包含酰胺组分的光致抗蚀剂-CN201310364299.4有效
发明人：刘骢;C·吴;G·珀勒斯;G·P·普罗科普维茨;李明琦;C-B·徐 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2013-06-25 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供了一种新颖的光致抗蚀剂组合物，该组合物包含一种组分，所述组分含有酰胺基团和多个羟基。优选地，本发明的光致抗蚀剂可以包含：具有光生酸不稳定性基团的树脂；光致产酸剂化合物；以及酰胺组分，所述酰胺组分包含多个羟基，可以用来减少光致酸从光致抗蚀剂涂层未曝光的区域扩散到外部的不利现象。
包含组分光致抗蚀剂

[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备方法-CN201910146368.1在审
发明人：顾大公;马潇;毛智彪;许从应 -专利权人：江苏南大光电材料股份有限公司
申请日： 2019-02-27 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶组合物及其制备方法，该光刻胶组合物至少由一种具有酸活性的成膜树脂、一种光敏剂、一种酸扩散抑制剂及有机溶剂构成；以质量百分数计，酸扩散抑制剂的含量为0.001~10%、具有酸活性的成膜树脂的含量为1~20%、光敏剂的含量为0.01~10%，其余为有机溶剂；光敏剂为柔性长链多鎓盐光致产酸剂或柔性长链多鎓盐光致产酸剂和小分子光致产酸剂结合使用；酸扩散抑制剂为含碱性基团的聚合物树脂、碱性小分子，或含碱性基团的聚合物树脂和碱性小分子结合使用本发明采用了以聚合物形式存在的酸扩散抑制剂和柔性长链多鎓盐光致产酸剂，在光刻胶中溶解性优良，有较大的能量宽裕度，可以控制非曝光区的光酸扩散；同时能更有效改善本身在光刻胶内的分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度
酸扩散抑制剂光刻胶组合物产酸剂光刻胶光敏剂小分子鎓盐光长链聚合物树脂成膜树脂碱性基团有机溶剂酸活性制备光刻胶分辨率光致产酸剂聚合物形式线宽粗糙度成膜能力非曝光区宽裕度光酸扩散

[发明专利]一种离子型光致产酸剂成膜树脂共聚物、制备方法及应用-CN202310442386.0在审
发明人：李文木;李俊锋;丁宇林 -专利权人：中国科学院福建物质结构研究所;闽都创新实验室
申请日： 2023-04-23 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：本申请公开了一种离子型光致产酸剂成膜树脂共聚物、制备方法及应用，该成膜树脂包含了引起光化学反应的光敏性产酸基团、促使极性改变的保护基团和增强粘附性能的粘附基团。其中，为了提高产酸效率和成膜树脂的透明度，本申请在光敏性光致产酸基团PAG单体中引入了强吸电子性能的三氟甲基和具有强酸性的磺酸基团的(甲基)丙烯酸酯类，大幅提高成膜树脂的产酸效率和紫外光透过能力。强吸电子性能的含氟基团和具有强酸性的磺酸基团的引入使得在相同曝光量的前提下，产酸效率提高了9％。本发明所述的ArF光刻胶用离子型光致产酸剂成膜树脂共聚物在微电子光刻胶领域具有良好的应用前景。
一种离子型光致产酸剂成膜树脂共聚物制备方法应用

[发明专利]含双鎓盐结构的光致产酸剂、制备方法及光刻胶组合物-CN202011526905.4有效
发明人：齐国强;顾大公;毛智彪;许从应;余绍山;许东升 -专利权人：宁波南大光电材料有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C07C321/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种含双鎓盐结构的光致产酸剂，其结构通式如下(I)所示：光致产酸剂相对单鎓盐结构的光致产酸剂具有更高的产酸效率，并且可以适用于多种波长的光源。
含双鎓盐结构光致产酸剂制备方法光刻组合

[发明专利]着色感光树脂组合物及包括其的滤色器-CN201710099175.6有效
发明人：赵成培;朴廷烋;崔汉永 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供着色感光树脂组合物，利用所述组合物形成的滤色器，以及具有所述滤色器的液晶显示设备，所述着色感光树脂组合物包括热致产酸剂、着色剂、碱溶性树脂、光聚合引发剂、光聚合性化合物和溶剂，其中所述热致产酸剂为具有低于200℃的分解起始温度的非离子热致产酸剂。
着色感光树脂组合包括滤色器