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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]聚硅氧烷骨架聚合物、感光性树脂组合物、图案形成方法和光半导体器件的制造-CN201911153444.8有效
发明人：丸山仁;曾我恭子 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： C08G77/26 文献下载
摘要：本发明提供聚硅氧烷骨架聚合物、感光性树脂组合物、图案形成方法和光半导体器件的制造。提供了聚合物，其在主链中包含聚硅氧烷、硅亚苯基、异氰脲酸和降冰片烯骨架并在侧链中具有环氧基团。涂覆包含该聚合物和光致产酸剂的感光性树脂组合物以形成膜，可使用具有大幅变化波长的辐照使膜图案化。图案化的膜具有高透明性、耐光性和耐热性。
聚硅氧烷骨架聚合物感光性树脂组合图案形成方法半导体器件制造

[发明专利]含有染料的抗蚀剂组合物以及使用其的滤色器-CN200410057004.X有效
发明人：保坂和义;周藤真理子;铃木正睦 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2004-08-20 - 公布日： 2005-02-23 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本发明为了适应滤色器的薄膜化，提供即使提高染料浓度也不会发生产生异物等问题的有色抗蚀剂组合物以及使用其的滤色器。其解决方案是提供含有酮醇类溶剂的含染料的抗蚀剂组合物。含有树脂、光产酸剂或者光产碱剂、交联性化合物、染料以及酮醇类溶剂的负型抗蚀剂组合物。含有树脂、光自由基发生剂、交联性化合物、染料以及酮醇类溶剂的负型抗蚀剂组合物。含有树脂、光产酸剂、交联性化合物、染料以及酮醇类溶剂的正型抗蚀剂组合物。酮醇为β－羟基酮的抗蚀剂组合物。酮醇为4－羟基－4－甲基－2－戊酮的抗蚀剂组合物。
含有染料抗蚀剂组合以及使用滤色器

[发明专利]光波导用感光性树脂组合物及光波导芯层形成用光固化性薄膜、以及使用它们的光波导、光/电传输用混载挠性印刷电路板-CN201580018892.0有效
发明人：平山智之;杉本直哉 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2015-04-14 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： G02B6/12 文献下载
摘要：本发明为光波导用感光性树脂组合物，其含有树脂成分及光产酸剂，上述光产酸剂为具备下述特性(x)的光产酸剂。
波导感光性树脂组合形成用光固化薄膜以及使用它们传输用混载挠性印刷电路板

[发明专利]能够在I线高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂-CN201910908573.7有效
发明人：钱晓春;胡春青;龚艳;刘葛 -专利权人：常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开一种能够在I线高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂，具有如下通式(A)所示结构。该光产酸剂对波长300‑450nm特别是365nm的活性能量射线具有高灵敏度、溶解度高且耐热性优异。
能够高产亚胺类光产酸剂

[发明专利]胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂-CN201510090721.0在审
发明人： E·阿恰达;李明琦;J·玛蒂亚 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2010-12-10 - 公布日： 2015-07-08 - 主分类号： C07J9/00 文献下载
摘要：胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂。本发明涉及一种新的包含一个胆酸酯部分的光酸发生剂化合物(“PAGs”)，以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。提供了一种光酸发生剂化合物，所述化合物如下式所示。
胆酸酯光酸发生包含光致抗蚀剂

[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法-CN201610632599.X有效
发明人：平野祯典;浅井聪;竹村胜也 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明为化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法，本发明提供了化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括(A)在酸作用下适应于变得可溶于碱性水溶液中的聚合物，(B)光致产酸剂，(C)羧酸和(D)苯并三唑化合物和当将所述抗蚀剂组合物以5‑250μm厚的厚膜涂布至铜基材上并以光刻法加工成图案时，可获得高分辨率且所述图案具有矩形轮廓。
化学增幅型正型抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]刻蚀方法-CN201811289425.3在审
发明人：李天慧;平延磊;马强 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明提供一种刻蚀方法，包括如下步骤：1)提供一基底；2)于基底上形成待刻蚀材料层，待刻蚀材料层的上表面具有高度差；3)于待刻蚀材料层的上表面形成抗反射层；4)于抗反射层的上表面形成光致酸产生剂层；5)对光致酸产生剂层进行曝光，以使得光致酸产生剂层曝光区域上部形成酸化区域；6)对酸化区域进行处理，以使得酸化区域转化为掩膜层；7)依据掩膜层依次刻蚀光致酸产生剂层、抗反射层及待刻蚀材料层。本发明的刻蚀方法中，掩膜层和位于掩膜层下方的光致酸产生剂层共同作为刻蚀掩膜层，光致酸产生剂层的厚度不需要太厚即可达到很好的刻蚀阻挡效果，不会存在解像度降低、刻蚀阻挡效果不好等问题。
刻蚀方法

[发明专利]光活性化合物-CN200680042913.3无效
发明人： D·M·拉曼;M·帕德马纳班 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2006-11-15 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及新的光产酸剂。
活性化合物

[发明专利]一种丙烯酸吸附树脂及其紫外光聚合制备方法和应用-CN201910805422.9有效
发明人：周菊英;蓝艳姣;雷福厚;黄钦;赵彦芝;许海棠 -专利权人：广西民族大学
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： C08F220/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种丙烯酸吸附树脂及其紫外光聚合制备方法和应用，属于吸附材料制备技术领域，所述丙烯酸吸附树脂以甲基丙烯酸为功能单体、二甲基丙烯酸乙二醇酯为交联剂、并加入光引发剂、致孔剂和溶剂，通过在紫外光固化制备得到；将得到的丙烯酸吸附树脂应用于去除水体中阳离子染料亚甲基蓝，丙烯酸吸附树脂对亚甲基蓝的平衡吸附量超过650mg/g。本发明采用紫外光固化的方法操作简便、固化速度快、产率高、反应条件温和、绿色环保，成本低，在材料制备方面有较大的发展前景；除此之外，将得到的丙烯酸吸附树脂应用在环境污染处理和环境修复领域具有广泛的应用前景
一种丙烯酸吸附树脂及其紫外光聚合制备方法应用

[发明专利]感光性树脂组合物、图案形成方法和光学半导体器件的制造-CN201910416649.4在审
发明人：丸山仁;近藤和纪 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：提供了包含(A)乙烯基醚化合物、(B)含环氧基的有机硅树脂和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物。组合物能够使用宽范围变化的波长形成图案，并且经图案化的膜具有高的透明度、耐光性和耐热性。
感光性树脂组合物耐热性光学半导体器件乙烯基醚化合物光致产酸剂宽范围变化有机硅树脂图案形成环氧基耐光性图案化波长图案透明度制造

[发明专利]感光性树脂组合物、图案形成方法和减反射膜-CN201911132148.X在审
发明人：丸山仁;大和田保 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了感光性树脂组合物，其包含(A)含酸可交联的基团的有机硅树脂，(B)光致产酸剂，和(C)中空二氧化硅。感光性树脂组合物具有令人满意的可靠性、挠曲性、光刻法分辨率和耐光性，同时保持减反射膜的功能。
感光性树脂组合图案形成方法减反射膜

[发明专利]光敏化合物和包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物-CN200810171829.2无效
发明人：金政佑;金德倍;金宰贤 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2008-11-12 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了光敏化合物以及包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物，该光敏化合物作为分子抗蚀剂，其粒径小于用于光致抗蚀剂的常规聚合物，并且该光敏化合物能够形成纳米组装。用以下通式表示所述光敏化合物。此外，本发明提供了光致抗蚀剂组合物，其包含1wt％至85wt％(重量％)的光敏化合物；相对于100重量份的光敏化合物，0.05至15重量份的光致产酸剂；以及相对于100重量份的光敏化合物，50至5000
光敏化合物包含光致抗蚀剂组合

[发明专利]一种干膜光致抗蚀剂及其应用-CN202010035171.3有效
发明人：王全勇;宋斌;麦裕良 -专利权人：广东省石油与精细化工研究院
申请日： 2020-01-14 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种干膜光致抗蚀剂及其应用。这种干膜光致抗蚀剂包括以下质量份的组分：碱溶性丙烯酸树脂50～70份，光聚合单体20～50份，光引发剂0.1～3份，添加剂适量；其中，光聚合单体由含有苯硫醚的长链双丙烯酸酯和短链丙烯酸酯组成；短链丙烯酸酯为主链碳原子数≤16的丙烯酸酯。本发明还公开了这种干膜光致抗蚀剂在制备感光干膜和印刷电路板中的应用。应用本发明的干膜光致抗蚀剂制备感光干膜，具有感光速度快，分辨率高的优点，同时掩孔性能良好，市场前景十分广阔。
一种干膜光致抗蚀剂及其应用

[发明专利]于抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物-CN201580049700.2有效
发明人：张永强;R·B·夏尔马;R·斯塔克;D·格林;R·古普塔;J·D·佛格莱 -专利权人：贺利氏电子化工有限责任公司
申请日： 2015-08-27 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C07D221/14 文献下载
摘要：本发明提供新颖光酸生成剂化合物。还提供包括所述新颖光酸生成剂化合物的光致抗蚀剂组合物。本发明进一步提供制造及使用本文所揭示的光酸生成剂化合物及光致抗蚀剂组合物的方法。所述化合物及组合物在用于多种微制造应用的化学增幅型抗蚀剂组合物中用作光敏性组分。
抗蚀剂应用作为生成衍生化合物

[发明专利]于抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物-CN202111313509.8在审
发明人：张永强;R·B·夏尔马;R·斯塔克;D·格林;R·古普塔;J·D·佛格莱 -专利权人：贺利氏电子化工有限责任公司
申请日： 2015-08-27 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： C07D221/14 文献下载
摘要：本申请涉及于抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物。本发明提供新颖光酸生成剂化合物。还提供包括所述新颖光酸生成剂化合物的光致抗蚀剂组合物。本发明进一步提供制造及使用本文所揭示的光酸生成剂化合物及光致抗蚀剂组合物的方法。所述化合物及组合物在用于多种微制造应用的化学增幅型抗蚀剂组合物中用作光敏性组分。
抗蚀剂应用作为生成衍生化合物

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