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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]光刻机外壳一序夹紧工装-CN202120770968.8有效
发明人：瞿建强;钱拥军;张乐;陈高韵 -专利权人：光科真空科技（泰兴）有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻机外壳一序夹紧工装，包括工装底座，工装底座上设有夹紧抵靠组件与夹紧定位组件，夹紧抵靠组件与夹紧定位组件上均设有螺柱夹紧件。本实用新型很好地根据光刻机外壳的形状，设计了能够完美夹紧光刻机外壳的一序夹紧工装，结构简单且夹紧过程迅速快捷。
光刻外壳夹紧工装

[发明专利]直写式光刻机及漏水检测方法-CN202010967731.9在审
发明人：朱会敏 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： G01M3/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式光刻机及漏水检测方法。直写式光刻机包括水冷式温度调节模块、漏水检测模块、信号处理模块和用于输出是否存在漏水信号的反馈信号输出模块。根据本发明的直写式光刻机，通过设置漏水检测带、且使漏水检测带与水冷式温度调节模块接触，可以对直写式光刻机的漏水、冷凝水的情况作出快速反馈，进而可以实时跟进直写式光刻机的工作状况，从而可以提升整机系统的安全性和稳定性
直写式光刻漏水检测方法

[发明专利]光刻机控制系统以及控制方法-CN202110344764.2在审
发明人：马鹏川;吴卫军;杨元培 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机控制系统以及控制方法，其中，所述光刻机控制系统包括：整机控制系统、曝光系统、移动台系统以及剂量曝光控制单元触发系统，所述整机控制系统规划曝光队列，并将曝光队列的参数信息下发至曝光系统和移动台系统采用所述光刻机控制系统能够实现曝光系统和移动台系统之间的信息直连互通，减少通讯时间，降低曝光的消耗时间，提高光刻机控制系统的产率，同时提高光刻机控制系统的可靠性。
光刻控制系统以及控制方法

[发明专利]浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法-CN201310186950.3有效
发明人：傅新;陈文昱;杨凯;张志杰 -专利权人：浙江大学
申请日： 2013-05-20 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法。浸没式光刻机浸液液体传送系统包括控制系统、水处理分系统、传输控制分系统和位姿调节分系统；其中控制系统和浸没式光刻机之间采用工业总线进行连接，控制系统与水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统之间采用以太网进行数据交换本发明能很好地实现对浸没式光刻机中浸液液体传送系统中各分系统进行精准时序控制，并且制定了故障处理机制，从而实现了浸没式光刻机中浸液液体传送的控制系统高效有序地运行。
浸没光刻浸液液体传送系统中的控制系统控制方法

[发明专利]多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统及其实现方法-CN200610030117.X有效
发明人：王雷;伍强 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2006-08-16 - 公布日： 2008-02-20 - 主分类号： G03F7/207 文献下载
摘要：本发明公开了一种多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统。该系统包括：至少一个曝光平台、至少一个校准平台、主透镜、校准板、分束板、投影透镜、焦平面空间像收集探测器阵列和反馈控制系统。本发明还公开了利用上述多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统实现多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦的方法。本发明能提高硅片水平控制系统的探测精度，从而提高光刻机对硅片水平位置的控制精度，可以提高工艺水平和降低工艺成本，还能提高光刻机的生产速度。
平台光刻硅片水平控制自动对焦系统及其实现方法

[发明专利]光刻机照度均匀性补偿方法及装置、照明系统及光刻机-CN201810720773.5有效
发明人：钱俊;湛宾洲 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机照度均匀性补偿方法及装置、照明系统及光刻机，通过采集一定时间内光刻机的基板面上的照度分布数据，以在光刻机生命周期内不同阶段下，将对应阶段的补偿区设置于曝光光路的补偿面上，对入射至基板面的光强进行补偿，使光刻机在其生命周期内的照度均匀性满足控制要求，通过增加补偿工位，实现对照明系统整个生命周期内的照度均匀性进行预补偿，在实现均匀补偿的同时，延长均匀补偿的生命周期，以降低成本、提高可靠性、降低了制造成本及技术难度
光刻照度均匀补偿方法装置照明系统

[发明专利]步进式重复曝光光刻机的掩模板工件台及曝光工艺-CN201210335253.5无效
发明人：朱骏;张旭昇 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2012-09-11 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于半导体制造技术领域，首先提出了一种步进式重复曝光光刻机的掩模板工件台，包括用于放置掩模板的固定平台，所述掩模板上具有实际图形区域。所述固定平台相对于光刻机本体之间设置有X轴移动装置以Y轴移动装置，所述X轴与Y轴延伸方向均平行于掩模板，且X轴与Y轴相互垂直。采用上述特征的掩模板工作台，在进行曝光工艺时，能够通过X轴移动装置和/或Y轴移动装置，使得需要曝光的实际图形区域的对角线中心与光刻机镜头中心重合，进而避免步进式重复曝光光刻机的光学镜头局部受热不均匀的问题，从而能够改善光刻机的套准精度表现。
步进重复曝光光刻模板工件工艺

[发明专利]一种对投影光刻机步进及扫描运动轨迹的规划方法-CN201110205579.1无效
发明人：李兰兰;胡松;赵立新;李金龙;徐锋;盛壮 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是一种对投影光刻机步进及扫描运动轨迹的规划方法，其规划步骤如下：根据步进扫描投影光刻机系统给定的步进以及扫描运动的约束条件，计算各自的限制值，算出关键的时间变量，进而算出各时间切换点，再由时间切换点的值得到加速度的导数的轨迹函数本发明能够根据步进扫描投影光刻机系统给定的约束条件，得到加速度的导数、加速度、速度以及位移的轨迹曲线，从而为步进扫描投影光刻机的步进及扫描运动控制提供时间最优轨迹。本发明不仅适用于步进扫描投影光刻机装置，对于需要事先知道运动轨迹的加工设备都有一定的适用性。
一种投影光刻步进扫描运动轨迹规划方法

[实用新型]一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板-CN201821903870.X有效
发明人：严峰;蔡亮 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-11-19 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于监控尼康光刻机底部镜头雾化散光程度的掩膜板，涉及尼康光刻机镜头维护领域。尼康光刻机底部镜头实际受雾化散光影响主要集中在扫描曝光的X方向，本实用新型通过在扫描曝光的X方向放置多列图形组合，其中，每列图形组合中包括多类不同形状的图形，每类图形的线宽尺寸兼容各类光刻机的最小及最大曝光尺寸标准本实用新型有效监控光刻机漏光性能稳定性，确保产品品质安全；同时，镜头周期使用率得到最大化，有利于机台保养整体规划。
光刻机散光雾化镜头本实用新型扫描曝光图形组合掩膜板线宽扫描电子显微镜机台光刻机镜头产品品质尺寸标准分布趋势漏光性能有效监控整体规划自动测量最大曝光变化量最大化监控使用率多列晶圆掩膜保养兼容曝光安全维护

[实用新型]一种光刻机出片的感应装置-CN201920552793.6有效
发明人：顾军魏;徐林;李晓华;李天鹏;王光伟;叶新民 -专利权人：江阴新顺微电子有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种光刻机出片的感应装置，属于集成电路或分立器件芯片制造技术领域。包括光刻机本体，光刻机本体上设有输送硅片的过桥板，所述过桥板上方设有电容式传感器，电容式传感器用于感应过桥板上的硅片，所述电容式传感器与信号转换电路的输入端电性连接，电容式传感器将反馈信号传输至信号转换电路，所述信号转换电路的输出端与光刻机本体的信号接收端电性连接。本申请不但大幅降低了维修次数；避免了信号不稳定而导致光刻机误判的情况，大幅提高了生产效率。
电容式传感器光刻机信号转换电路电性连接过桥板硅片指示灯分立器件芯片本实用新型信号接收端反馈信号感应距离感应装置生产效率输出端输入端误判出片集成电路传输维修申请制造

[实用新型]一种光刻机镜头保护装置-CN202222364128.9有效
发明人：张蓬成 -专利权人：上海诺驰精密机械有限公司
申请日： 2022-09-06 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机技术领域，具体涉及一种光刻机镜头保护装置，包括保护装置本体和连接块，安装装置包括安装框、两个安装组件和辅助固定组件，安装组件包括固定块、转动轴、握把、波形管、抵块、第一弹簧和抵板保护装置本体用于保护光刻机镜头，连接块用于连接安装装置，固定块支撑重量转动轴和握把，捏动握把使得握把张开，安装框用将光刻机镜头插入进保护装置本体松开握把，波形管具有良好的韧性以及回弹性，配合转动轴将握把拉回，使得抵块上的第一弹簧和抵板抵住光刻机镜头从而达到固定
一种光刻镜头保护装置

[发明专利]提高光刻机工艺效率的方法-CN201110218748.5有效
发明人：刘庆锋;王诚 -专利权人：上海先进半导体制造股份有限公司
申请日： 2011-08-01 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种提高光刻机工艺效率的方法，光刻机包括光刻机主体、两个晶圆盒进出端口和机械手臂，光刻机主体包括对准机构、曝光机构和等待机构，包括步骤：取片、对准、曝光、等待、送片：由机械手臂从等待机构取回晶圆，送回第一端口；返回取片步骤，当机械手臂从第一端口取走最后一片晶圆后，其开始从第二端口取出第一片晶圆，送入光刻机主体中；当机械手臂从第二端口取走最后一片晶圆后，其又开始从第一端口取出第一片晶圆，送入光刻机主体中本发明将两个晶圆盒进出端口均作为送料端口和接收端口，彼此不断循环交替，使离线光刻机可持续不断地工作，缩短其闲置时间，提高工艺效率和产量。
提高光刻机工效率方法

[发明专利]光刻机进行工程光刻露光时的对准方法-CN201110025058.8无效
发明人：娄迪 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2011-01-24 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机进行工程光刻露光时的对准方法；包括以下步骤：在光刻机的载片台上安装摄像头，使其与载片台的先对位置固定；硅片被送上载片台，摄像头对其进行影像捕捉；计算出硅片和载片台之间的旋转量；升起安装在载片台中央带有真空吸附的顶针，通过其沿圆周方向的运动进行对硅片旋转量的补正；降下顶针，光刻机进行工作。本发明通过在光刻机的载片台加装一个摄像头，通过光学影像识别的方法计算硅片的旋转量；并通过载片台上的顶针的运动来进行补偿，从而减少第一层工程光刻露光时候的图形旋转误差。
光刻进行工程露光对准方法

[实用新型]一种光刻机反应腔的内衬-CN202120258178.1有效
发明人：姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;陈春磊 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种光刻机反应腔的内衬，所述光刻机反应腔的内衬包括层叠设置的圆筒状本体与圆环状底座；所述圆筒状本体的侧壁设置有晶圆片传送口；所述圆环状底座的侧壁围绕圆周设置有至少1排贯通孔。所述内衬的结构合理且尺寸适配，加快了光刻机反应腔获得真空度的速度，提升了光刻效率，延长了设备的使用寿命。
一种光刻反应内衬

[发明专利]一种投影光刻机中的光束稳定装置-CN201010256374.1有效
发明人：徐文祥;邢薇;罗正全;马平;王建 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2010-08-17 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种投影光刻机中的光束稳定装置，它可以对投影光刻机中的激光光源因地基振动、传输路径中气体抖动、环境温度、湿度、气压等变化引起的光束在方向与位置上的漂移进行校正，保证了光刻系统的成像及光刻质量。
一种投影光刻中的光束稳定装置

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